Patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 49965件
SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURE THEREOF AND MASK PATTERN例文帳に追加
半導体装置およびその製造方法並びにマスクパターン - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD HAVING MINUTE PATTERN例文帳に追加
細密パターンを有するプリント配線板の製造方法。 - 特許庁
When a resist pattern 15 is formed after the exposure, reactive ion etching is carried out to a part exposed by the resist pattern to the whole surface of a photoresist master set to form a pattern 17.例文帳に追加
露光後、レジストパターン15が形成されると、フォトレジスト原盤の全面に対して、レジストパターンにより露出した部分にリアクティブイオンエッチングを行い、パターン17を形成する。 - 特許庁
PATTERN ARRANGEMENT METHOD AND SILICON WAFER AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パターン配置方法並びにシリコンウェハ及び半導体デバイス - 特許庁
To provide a pattern modifying device and a pattern modifying method wherein a pattern having a defective part can be modified into a prescribed shape with high precision and efficiency.例文帳に追加
欠陥部を有するパターンを高精度に、かつ能率的に所定の形状に修正することができるパターン修正装置およびパターン修正方法を提供する。 - 特許庁
A standard is set up to plural parameters affecting size of the circuit pattern and further layout of the mask pattern provided in the mask corresponding to the circuit pattern is determined.例文帳に追加
回路パターンの寸法に影響を及ぼす複数のパラメータに対して規格を設定すると共に、回路パターンと対応してマスクに設けられるマスクパターンのレイアウトを決定する。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING FINE PATTERN例文帳に追加
微細なパターンを有する半導体装置の製造方法 - 特許庁
EXPOSURE MASK, MASK PATTERN CORRECTION METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
露光用マスク、マスクパターン補正方法、及び、半導体装置 - 特許庁
PATTERN OBSERVATION APPARATUS, RECIPE PREPARATION APPARATUS, AND RECIPE PREPARATION METHOD例文帳に追加
パターン観察装置,レシピ作成装置,レシピ作成方法 - 特許庁
Resist is pattern-formed (Figure (C)) and is exposed and developed (Figure (D)).例文帳に追加
レジストをパターン形成し(図(C))、露光・現像する(図(D))。 - 特許庁
Distance pieces of information sg1 and sg2 of the pattern data 323b of the gate electrode from pattern data 323a and 323c of gate electrodes adjacent to the pattern data 323b is calculated.例文帳に追加
また、ゲート電極のパターンデータ323bと、パターンデータ323bに隣接するゲート電極のパターンデータ323a,323cとの距離情報sg1、sg2を算出する。 - 特許庁
A main CPU stores a plurality of kinds of variation pattern decision tables, and sets the variation pattern decision table for a reference in variation pattern decision processing from among the tables.例文帳に追加
メインCPUは、複数種類の変動パターン決定テーブルを記憶し、その中から、変動パターン決定処理において参照するための変動パターン決定テーブルをセットする。 - 特許庁
MASK FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE AND METHOD OF DESIGNING PATTERN THEREOF例文帳に追加
電子線露光用マスク及びそのパターン設計方法 - 特許庁
DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, PHOTOMASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターンの設計方法、フォトマスク及び半導体装置 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, PHOTOMASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパタ−ン補正方法、フォトマスク及び半導体装置 - 特許庁
A kaleidoscope pattern generation part generates a kaleidoscope pattern by carrying out rotating operation and mirror surface image operation to the basic pattern 210 on kaleidoscope coordinates 204.例文帳に追加
万華鏡パターン生成部は、万華鏡座標204上において、基本パターン210に対して回転操作および鏡面像操作を施して万華鏡パターンを生成する。 - 特許庁
FORMING METHOD OF INORGANIC THIN FILM PATTERN ON POLYIMIDE RESIN SUBSTRATE例文帳に追加
ポリイミド樹脂基材の無機薄膜パターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN DATA FOR SEMICONDUCTOR CIRCUIT, PHOTOMASK USING THE CORRECTED DESIGN PATTERN DATA, METHOD OF INSPECTING THE PHOTOMASK, AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN DATA FOR PHOTOMASK INSPECTION例文帳に追加
半導体回路の設計パタンデータ補正方法と、補正された設計パタンデータを用いたフォトマスク、該フォトマスクの検査方法およびフォトマスク検査用パタンデータ作製方法 - 特許庁
PATTERN OBJECT USING DIFFRACTION GRATING AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
回折格子を用いた絵柄体及びその製造方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MASK PATTERN FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体装置、及び半導体装置製造用マスクパターン - 特許庁
A processor processes the detected light to calculate pattern color values for color components of the color pattern, and compares the pattern color values with the authentic ink color values.例文帳に追加
プロセッサが、その検出された光を処理して、前記カラーパターンの色成分ごとのパターン色彩値を計算し、そのパターン色彩値を前記純正インク色彩値と比較する。 - 特許庁
The electronic watermark includes at least one basic pattern.例文帳に追加
電子透かしは、少なくとも1つの基底パターンを含む。 - 特許庁
FORMING METHOD FOR POLYSILICON PATTERN, DIODE INCLUDING POLYSILICON PATTERN, MULTI-LAYER CROSS POINT RESISTIVE MEMORY ELEMENT INCLUDING POLYSILICON PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD FOR DIODE AND MEMORY ELEMENT例文帳に追加
ポリシリコンパターンの形成方法、該ポリシリコンパターンを含むダイオード、ポリシリコンパターンを含む多層交差点抵抗性メモリ素子及び、前記ダイオードと前記メモリ素子との製造方法 - 特許庁
The electrodes 12 are provided to be opposed to the wiring pattern 22.例文帳に追加
電極12及び配線パターン22を対向させる。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING METAL GATE PATTERN例文帳に追加
金属ゲートパターンを有する半導体素子の製造方法 - 特許庁
(3) The outline pattern is cured by an ultraviolet beam at the step S4.例文帳に追加
(3)その輪郭パターンを紫外線で硬化する(S4)。 - 特許庁
AMINE COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN例文帳に追加
アミン化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
REMOVAL AGENT FOR DRY ETCHING RESIDUE AFTER FORMING PLATINUM FAMILY PATTERN例文帳に追加
白金族パターン形成後のドライエッチング残渣除去剤 - 特許庁
MANUFACTURE OF NONCONTACT IC CARD AND ITS ANTENNA PATTERN例文帳に追加
非接触式ICカードとそのアンテナパターンの製造方法 - 特許庁
A wiring pattern is formed on a semiconductor wafer (S101).例文帳に追加
半導体ウェハに配線パターンを形成する(S101)。 - 特許庁
To provide a pattern collation device of linear graphics which can strictly identify input graphics even if deformation exists in the input graphics, its pattern collation method and a pattern collation program.例文帳に追加
入力図形に変形があっても厳密に識別することのできる、線図形のパターン照合装置とそのパターン照合方法、及びパターン照合プログラムを提供する。 - 特許庁
COLD CATHODE FLAT TYPE FLUORESCENT LAMP AND ITS PATTERN ELECTRODE例文帳に追加
冷陰極フラット型蛍光ランプとそのパターン電極 - 特許庁
(1) The warp knitted fabric uses a crimped yarn of a polytrimethylene terephthalate fiber multifilament yarn as a pattern yarn in the tubular warp knitted fabric in which the pattern is formed of the pattern yarn.例文帳に追加
(1) 柄糸によって柄が形成された筒状の経編地において、柄糸としてポリトリメチレンテレフタレート系繊維マルチフィラメント糸の捲縮糸を用いた経編地。 - 特許庁
AREA DIVISION METHOD FOR SPECTRUM WAVEFORM PATTERN, AND PROGRAM例文帳に追加
スペクトル波形パターンの領域分割方法およびプログラム - 特許庁
SEMICONDUCTOR ELEMENT AND PATTERN FORMING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加
半導体素子及び半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁
LAYOUT METHOD OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT TEST ELEMENT PATTERN例文帳に追加
半導体集積回路のテスト素子パターンのレイアウト方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM CONTROL METHOD AND ELECTRON BEAM PATTERN WRITER例文帳に追加
電子ビーム制御方法および電子ビーム描画装置 - 特許庁
The doping pattern has mutually different doping concentrations.例文帳に追加
前記ドーピングパターンは互いに異なるドーピング濃度を有する。 - 特許庁
SCANNING ELECTRON MICROSCOPE AND MICRO-PATTERN MEASURING METHOD例文帳に追加
走査型電子顕微鏡及び微細パターン測定方法 - 特許庁
AC PLASMA DISPLAY DEVICE HAVING PERFORATED ELECTRODE PATTERN例文帳に追加
穿孔電極パターンを有する交流プラズマ表示装置 - 特許庁
NANOFIBER PATTERN SUBSTRATE AND MOLD BODY USING THE SAME SUBSTRATE例文帳に追加
ナノファイバーパターン基材及び該基材を用いた成型体 - 特許庁
OBJECT TO BE DETECTED HAVING MAGNETIZATION PATTERN AND MAGNETIC ENCODER例文帳に追加
磁化パターンを有する被検出体および磁気エンコーダ - 特許庁
A first photoresist pattern is formed on the hard mask layer.例文帳に追加
ハードマスク層上に第1フォトレジストパターンを形成する。 - 特許庁
A characteristic check pattern 1 is built in a macro block 2.例文帳に追加
特性チェックパタン1はマクロブロック2に内蔵されている。 - 特許庁
The phase transition pattern has a plurality of doping patterns.例文帳に追加
前記相転移パターンは複数のドーピングパターンを備える。 - 特許庁
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