Patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 49965件
To discriminate exact behavior pattern of a mobile even when detection accuracy of location where the mobile exists is low.例文帳に追加
移動体が存在している位置の検出精度が低い場合でも、移動体の正確な行動パターンを判別することができるようにする。 - 特許庁
To manufacture a highly precise device with a high yield by shortening pre-PEB stand-by time and stably holding the pattern profile of a resist process.例文帳に追加
ＰＥＢ前の待機時間を短縮し、レジストプロセスのパターンプロファイルを安定に保ち、高精細なデバイスを高歩留まりで製造する。 - 特許庁
When the result of the lottery fulfills prescribed conditions, the control board simultaneously varies and displays all the pattern streams 11-13 at high speed.例文帳に追加
抽選結果が所定の条件を満たしていると、制御基板は全図柄列１１〜１３を一斉に高速で変動表示させる。 - 特許庁
The character pattern frame position information S7b and the character code S8 are stored in a recognized result storing part 9 for each partial image data S4.例文帳に追加
文字パタン枠位置情報Ｓ７ｂ及び文字コードＳ８は、各部分画像データＳ４毎に認識結果格納部９に格納される。 - 特許庁
Fluid may be directed to one or more of the stages in a sequencing pattern determined and configured to wash the compressor.例文帳に追加
コンプレッサの洗浄の決定と、構成された順次連続するパターンにおいて、流体をステージのうちの１以上に送ることができる。 - 特許庁
Additionally, a selector lever 33 of the pattern selector valve 29 is extended to the backside, and its leading end is protruded to the back end of a floor plate 26.例文帳に追加
また、パターン切換弁２９の切換レバー３３を後側に延ばし、その先端部をフロアプレート２６の後端部よりも突出させる。 - 特許庁
A mask generation part 40 specifies an area unfit for stereoscopic processing in a reference image 24 of the object and prepares a mask pattern 28.例文帳に追加
マスク生成部４０は、対象物の基準画像２４においてステレオ処理に不向きな領域を特定し、マスクパターン２８を作成する。 - 特許庁
To provide a positive radiation-sensitive composition exhibiting high sensitivity and high resolution in pattern formation by irradiation with active light.例文帳に追加
活性光線の照射によるパターン形成において、高感度、高解像度を示すポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁
To realize illumination suitable for an exposure device by which a pattern is transferred without lowering a throughput even in the case of a large exposure area.例文帳に追加
露光領域が大きな場合でもスループットを低下させずにパターンを転写できる露光装置に好適な照明を実現する。 - 特許庁
In the method for adapting pattern dimension according to the present invention, an exposure device 5 for irradiating two planes of polarization with light is prepared.例文帳に追加
本発明によるパターン寸法を適合する方法においては、２つの偏光面に光を照射する露光装置５が準備される。 - 特許庁
The normal images on the intermediate transfer belt are transferred on a medium passing the papers in a secondary transfer, and the test pattern passes through the secondary transfer without passing the paper.例文帳に追加
画像形成制御条件を調整するために中間転写ベルト上のテストパターンがセンサで読取られ、フィードバックされる。 - 特許庁
When a focus value is calculated, a shrinkage of a resist pattern for measuring a focus formed by exposing a measurement object of focus value is measured.例文帳に追加
フォーカス値を求める場合、フォーカス値測定対象の露光により形成されたフォーカス測定用レジストパターンのシュリンク量を測定する。 - 特許庁
An indicator detection device includes a conductor pattern consisting of a plurality of first conductors and a plurality of second conductors arranged in mutually crossing directions.例文帳に追加
互いに交差する方向に配置された複数の第１の導体と複数の第２の導体とからなる導体パターンを備える。 - 特許庁
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