「Process Vacuum System」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To stably and effectively prevent the peel-off of a film deposition material adhering to parts for vacuum film deposition system, a target, and a backing plate during a film deposition process, the peel-off of a sprayed deposit itself, and further the falling of particles from a deposit and also to suppress the increase in film deposition cost attendant on cleaning, or the like.例文帳に追加

成膜工程中に真空成膜装置用部品、ターゲットおよびバッキングプレートに付着する成膜材料の剥離、溶射膜そのものの剥離、さらには付着物からの粒子の脱落を安定かつ有効に防止すると共に、クリーニングなどに伴う成膜コストの増加を抑制する。 - 特許庁

A substrate processing system comprising a vacuum deposition process chamber 133 having an exhaust port 152 arrange to discharge one or more particle during a deposition cycle and a cleaning gas reactive species during a cleaning cycle, and an insitu particle monitor 190 coupled with the exhaust port 152 is employed.例文帳に追加

排気口１５２が堆積サイクルの間に１つ以上の粒子と洗浄サイクルの間に洗浄ガス反応種を排出するように構成された真空堆積プロセスチャンバ１３３と、排気口１５２に結合したインサイチュ粒子モニタ１９０とを含む基板処理システムを用いる。 - 特許庁

In the vacuum film deposition system where a sheet-shaped flexible base material is wound around a film deposition drum, and film deposition is performed, the film deposition drum is provided with a means of winding the flexible base material therearound, applying tension to the base material in the process of the film deposition, and holding the same.例文帳に追加

シート状のフレキシブル基材を成膜ドラムに巻き付けて成膜する真空成膜装置であって、前記成膜ドラムに、フレキシブル基材を巻き付けて成膜中に該基材に張力を付与して保持する手段を具備することを特徴とする真空成膜装置である。 - 特許庁

The two or more types of process chambers are used to deposit the one or more silicon-containing layers and the one or more metal-containing layers in the same substrate processing system without breaking the vacuum, taking the substrate out of the substrate processing system to prevent surface contamination, oxidation, etc., such that additional cleaning or surface treatment steps can be eliminated.例文帳に追加

２つ以上のタイプの処理チャンバは、真空を破ることなく、基板処理システムから基板を取り出して、同一の基板処理システムで１つ又は複数のシリコン含有層及び１つ又は複数の金属含有層を蒸着するために使用され、表面汚染、酸化などを防ぎ、別の洗浄や表面処理ステップを排除することができる。 - 特許庁

To stabilize a process of manufacturing a semiconductor integrated circuit device by avoiding troubles in the operation of a dry pump that are caused when reaction products collect between the dry pump and a mechanical booster pump in a vacuum system of a CVD apparatus for use in the manufacture of a semiconductor device, or the like, and rapidly moves toward the dry pump.例文帳に追加

半導体デバイス等の製造に用いるCVD装置の真空系におけるドライポンプとメカニカルブースターポンプの間に反応性生物がたまり、それが急激にドライポンプに移動することによって起こるドライポンプの運転のトラブルを回避することによって、半導体集積回路装置の製造プロセスの安定化を図る。 - 特許庁