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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Process Vacuum Systemに関連した英語例文

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Process Vacuum Systemの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 58



例文

VACUUM PRESSURE CONTROL SYSTEM IN PROCESS CHAMBER例文帳に追加

プロセスチャンバ内真空圧力制御システム - 特許庁

PLASMA VACUUM SUBSTRATE TREATMENT PROCESS AND SYSTEM例文帳に追加

プラズマ真空基板処理方法およびシステム - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR CLEANING PROCESS CHAMBER AND VACUUM LINE例文帳に追加

プロセスチャンバと真空ラインをクリーニングするためのシステムと方法 - 特許庁

PROCESS AND APPARATUS FOR MANUFACTURING CORRUGATED CARDBOARD TO VACUUM AIDED SYSTEM例文帳に追加

段ボールを減圧支援式に製造する方法および装置 - 特許庁

例文

A vacuum controlling system 10 is provided, which controls using a vacuum pump the vacuum pressure and flow of process gas in a vacuum vessel 500 that performs a process to a subject of process with a supply of process gas from a gas supply unit.例文帳に追加

ガス供給部からプロセスガスの供給を受けてプロセス対象にプロセスを実行する真空容器500におけるプロセスガスの真空圧力と流れとを真空ポンプを使用して制御する真空制御システム10を提供する。 - 特許庁


例文

To improve efficiency of a vacuum pumping process in a flat-panel display producing system.例文帳に追加

フラットパネルディスプレイ生産システムにおける真空排気工程の効率化を図る。 - 特許庁

A vacuum system including a turbo-molecular pump 211 is connected with the process chamber 201.例文帳に追加

ターボ分子ポンプ211を含む真空系をプロセスチャンバー210に接続する。 - 特許庁

To provide a vacuum membrane forming device capable of safely performing discharge of process gas in a vacuum tank while keeping a vacuum pump system safe even when a part of a vacuum pump fails, and a method for controlling the vacuum pump for a vacuum membrane forming device.例文帳に追加

真空ポンプの一部に故障が発生したときでも、真空ポンプシステムを安全に保つ一方、真空槽内のプロセスガスの排気を安全に行い得る真空薄膜作成装置、及び真空薄膜作成装置の真空ポンプ制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma vacuum substrate treatment process and a system that can quickly change the flow of active gases in a vacuum enclosure.例文帳に追加

真空エンクロージャ内の活性ガスの流れを急速に変化させることができる、プラズマ真空基板処理方法およびシステムを提供する。 - 特許庁

例文

To provide an observation system in a vacuum atmosphere where the imaging window of the observation system for photographing an object in the vacuum atmosphere can be protected against adhesion of dust during production process.例文帳に追加

真空雰囲気内で観察対象を撮影する観察装置の撮影窓に製造工程等に起因する塵等が付着するのを防止する真空雰囲気内観察装置を提供する。 - 特許庁

例文

A method, computer readable medium, and system for treating a substrate in a process space of a processing system that is vacuum isolated from a transfer space of the processing system is described.例文帳に追加

処理システムの移送空間から真空分離された処理システムの処理空間内で基板を処理するための方法、コンピュータ読み取り可能なメディアおよびシステムが示される。 - 特許庁

The drier is composed of a drying process part 100 including a cylinder 1, a vacuum generator 16, a hot air circulation system 23, and a material supplying and discharging system 28.例文帳に追加

乾燥装置は、シリンダ1を含む乾燥処理部100,真空発生装置16,熱風循環システム23,材料給排システム28により構成される。 - 特許庁

After that, in a process detecting pressure in an evaporation system and determining leak, first, negative pressure is introduced into the evaporation system by a second vacuum pump and simultaneously, or before or after that, negative pressure is introduced into the evaporation system by the first vacuum pump.例文帳に追加

その後、エバポ系内圧力検出及びリーク判定処理では、まず、第2の負圧ポンプによりエバポ系内に負圧を導入すると共に、これと同時に又は前後して第1の負圧ポンプによりエバポ系内に負圧を導入する。 - 特許庁

To provide a method for producing a component for a vacuum film deposition system which can stably and effectively prevent the peeling of a film deposition material stuck in the process of a film deposition process.例文帳に追加

成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止することを可能にした真空成膜装置用部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a high precision thin film transistor simply and efficiently without requiring a vacuum system or photolithography.例文帳に追加

真空系やフォトリソを用いなくとも、精度の高い薄膜トランジスタ素子シートを、簡易、且つ、効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a highly accurate organic thin film transistor easily and efficiently without using a vacuum system or photolithography.例文帳に追加

真空系やフォトリソを用いなくとも、精度の高い有機薄膜トランジスタを、簡易、且つ、効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

In this film layer- forming process, the pressure in the reaction chamber is maintained in the range of from 1×102 to 2×104 Pa by means of a vacuum pumping system.例文帳に追加

この成膜工程では、真空排気装置により反応室の圧力を1×10^2 〜2×10^4 Paの範囲内に維持する。 - 特許庁

Substrates 9 are successively transferred to each process chamber by a transfer system via a direction change chamber to which a plurality of vacuum chambers including the process chamber is surroundingly hermetically connected.例文帳に追加

処理チャンバーを含む複数の真空チャンバーが周囲に気密に接続された方向転換チャンバーを経由して各処理チャンバーに順次基板9が搬送系により搬送される。 - 特許庁

To provide a vacuum pressure control system to be used in a semiconductor manufacturing process, capable of rapidly holding a supplied gas at an accurate vacuum pressure value and rapidly dishcarging the gas out of a vacuum chamber.例文帳に追加

半導体製造工程で使用する真空圧力制御システムにおいて、給気したガスを正確な真空圧力値で迅速に保持できると共に、このガスを真空容器外に迅速に排気可能な真空圧力制御システムを提供する。 - 特許庁

The basic chip is vapor deposited in a vacuum deposition equipment according to a membrane system designing process and is finally chromium-plated to make a corrected three-primary-color ratio adjustment lens.例文帳に追加

基片を真空蒸着機の中で膜系設計工程に基づいて蒸着し、最後にクロム鍍金して補正三原色比率調整レンズを作成する。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition system which surely shields the ones required for shielding in accordance with a film deposition process among respective members provided inside a vacuum chamber, and whose compactness is not damaged as well.例文帳に追加

真空チャンバ内に設けられた各部材のうち成膜プロセスに応じて遮蔽する必要があるものを確実に遮蔽するとともに、装置のコンパクトさを損なうこともない真空成膜装置を提供することである。 - 特許庁

To simplify manufacturing process and to miniaturize whole system by easy decompression in a sealed cavity close to vacuum state without setting of special structure such as getter.例文帳に追加

ゲッタ等の特別な構造を設けなくても、密閉空間内を真空に近い状態まで容易に減圧でき、全体の小型化や製造工程の簡略化を図るようにする。 - 特許庁

This treatment method of organic waste water incorporates a process (1) in which phosphor and nitrogen in the waste water is made to a form of ammonium magnesium phosphate and taken out the same outside the system and, therein, is characterized in that a vacuum treatment process (2) in which the waste water which contains phosphor and nitrogen is subjected to vacuum treatment prior to the process (1).例文帳に追加

有機性排水を処理する方法であって、該排水中のリン及び窒素をリン酸マグネシウムアンモニウムの形態にして系外に取り出す工程(1)を組み入れている処理方法において、前記工程(1)の前にリン及び窒素を含有する該排水を減圧処理する減圧処理工程(2)を組み込むことを特徴とする有機性排水の処理方法。 - 特許庁

To effectively pevent deposition of ammonium fluorosilicate in a process of cleaning a vacuum system which forms a film, after forming the film containing silicon which includes a large amount of hydrogen.例文帳に追加

多量の水素を含むシリコン含有膜を成膜した後に、成膜が行われた真空系をクリーニングする過程において、ケイフッ化アンモニウムが真空系に堆積することを効果的に防止する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of solder bump of back end wafer level package with a highly improved yield and efficiency of total process by eliminating of air bubbles in conjunction with a vacuum heating system.例文帳に追加

真空加熱システムと合わせて気泡が発生する機会を除去し、プロセス全体の歩留りと能率を大幅に向上する後段ウェハー級パッケージのソルダバンプの図案製作方法を提供する。 - 特許庁

To avoid the complicatedness of cleaning, to improve process safety and layer quality, and to increase pump capacity and prevent plasma formation in the pump area in a vacuum treatment system.例文帳に追加

真空処理装置において、クリーニングの煩雑さを回避しプロセスの安全性および層品質を向上させるとともに、ポンプ性能を向上させかつポンプ領域内のプラズマ形成を防止する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system capable of continuously and uniformly forming a mixed film having the compositional ratios of the mixed film of different elements and objective thickness on the surface of a film in the process of running.例文帳に追加

走行中のフィルム表面に異なる元素の混合膜の組成比および目標厚みを有する混合膜を連続的、且つ均ーに形成できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering system where, when depositing a film by sputtering, the need of performing maintenance of a vacuum tank under release to the air can be reduced, and stabilization of a film deposition process can be attained.例文帳に追加

スパッタリングにより成膜するに際し、大気に解放してメンテナンスを行う必要性を少なくすることができ、成膜プロセスの安定化を図ることが可能となるスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

An apparatus 50 for making a silicon film in an HSG state includes a vertical reactive tube 22, a process gas feeding system 52 connected to one of upper and lower ends of the reactive tube 22 for feeding a process gas to the reactive tube 22, and a vacuum suction system 30 connected to the other end of the reactive tube 22 for reducing the pressure of the reactive tube 22.例文帳に追加

本装置50は、縦型の反応管22と、反応管の上下両端部の一方に接続され、反応管にプロセスガスを供給するプロセスガス供給系統52と、反応管の他方の端部に接続され、反応管を減圧する真空吸引系統30とを備え、シリコン膜にHSG化を施す。 - 特許庁

Then, after having set the pressure in the vacuum evaporation system at 20 hPa, the ageing process is performed by heating the organic electroluminescence apparatus 100 during the manufacture at a predetermined heating temperature for a predetermined heating time using a heater.例文帳に追加

そして、真空蒸着装置内の圧力を20hPaとした後、ヒータにより、作製途中の有機EL装置100を所定の加熱時間の間、所定の加熱温度に加熱することによりエージング処理を行う。 - 特許庁

The minute sample processing observation device includes a focused ion beam optical system 31 and an electron beam optical system 41 in an identical vacuum device, and a probe 72 that separates a minute sample containing a desired area of the wafer 21 by a charged particle beam type molding process and takes out the separated minute sample.例文帳に追加

同一真空装置に集束イオンビーム光学系31と電子ビーム光学系41を備え、ウェーハ21の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブ72を備えた。 - 特許庁

To provide a clean unit-process unit merged system capable of inexpensively and easily carrying out not only moisture removal and oxidation prevention, but also dust proofing and dust removal in a load lock used in putting in and out of samples, and easily applicable to a series of production process lines, in regard to a process unit such as a vacuum device or a film growing device.例文帳に追加

真空装置や薄膜成長装置等のプロセス装置において、試料の出し入れに用いるロードロックに、水分除去および酸化防止のみならず、防塵および脱塵を、低コストで簡便に実行することができ、一連の生産プロセスラインに容易に乗せることができるクリーンユニット−プロセス装置融合システムを提供する。 - 特許庁

To provide a clean unit-process device fusion system capable of easily achieving not only dehumidification and oxidation prevention but also dust-proofing and dust removal at low cost for a load lock used in taking samples in and out of a process device such as a vacuum device or a thin-film growth device, so that the load lock can easily be placed on a series of production process lines.例文帳に追加

真空装置や薄膜成長装置等のプロセス装置において、試料の出し入れに用いるロードロックに、水分除去および酸化防止のみならず、防塵および脱塵を、低コストで簡便に実行することができ、一連の生産プロセスラインに容易に乗せることができるクリーンユニット−プロセス装置融合システムを提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition system where a sheet-shaped flexible base material is repeatedly film-deposited in a vacuum, the film deposition face is not contacted with rollers or a sheet in the process of the film deposition, and the uniform film thickness and film composition, the excellent quality in the film deposition face and improved productivity can be realized.例文帳に追加

本発明は、シート状のフレキシブル基材を真空中で繰返し成膜し、成膜中に成膜面がローラもしくはシートに触れることがなく、かつ膜厚及び膜組成が均一な成膜面の品質に優れる、生産性を向上した真空成膜装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition system and a vacuum film deposition method using a pressure gradient ion plating process capable of corresponding even to the case that an electrically insulating substance is film-deposited, capable of sufficiently stably depositing a film on a base material as an object, and also capable of obtaining a stably film-deposited base material.例文帳に追加

電気的絶縁性物質を成膜する場合にも対応でき、対象とする基材上に充分安定的に成膜することができ、且つ、安定的に、成膜された基材を得ることができる、圧力勾配型イオンプレーティング方法を用いた真空成膜装置、真空成膜方法を提供する。 - 特許庁

In the substrate processing system where a load lock unit 30 and a process unit 50 are coupled around a vacuum conveyor 40, a batch processing unit 60 for processing a plurality of substrates simultaneously is attached to or built in the load lock unit 30.例文帳に追加

真空搬送装置40を中心にロードロック装置30とプロセス装置50とが連結された基板処理装置において、複数枚同時に基板処理を行うバッチ処理装置60をロードロック装置30に付設するか組み込む。 - 特許庁

To provide a plating solution which provides a high purity copper-indium-sulfur alloy coating film suitable as a light absorption layer of a CIS based solar battery by a non-vacuum process and in a system containing no selenium generating a poisonous gas.例文帳に追加

非真空のプロセスで、且つ、有毒ガスを発生するセレンを含まない系において、CIS系太陽電池の光吸収層として好適な、純度の高い銅−インジウム−硫黄合金皮膜を得ることができるめっき液を提供する。 - 特許庁

The micro testpiece processing and observation device are equipped with a focused ion beam optical system and an electron optical system in an identical vacuum device, and separate a micro testpiece including the desired region of the testpiece by a charged particle beam forming process, and have a probe for sampling the micro testpiece separated.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 - 特許庁

This device includes a focus ion beam optical system and an electron optical system in the same vacuum device, and also includes a probe for separating the microscopic sample containing the desired region of the sample by a charged particle beam type molding process to take out the separated microscopic sample.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 - 特許庁

In the micro testpiece processing and observation device, a focused ion beam optical system and an electron optical system are equipped in an identical vacuum device, and a micro testpiece including the desired region of the testpiece is separated by a charged particle beam forming process, and a probe for sampling the micro testpiece separated is equipped.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 - 特許庁

The device is equipped with a focused ion-beam optical system and an electro-optical system in the same vacuum device, as well as a probe for separating a minute sample including a desired area of the sample by a charged particle beam forming process, and for extracting the separated minute sample.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 - 特許庁

This device is provided with a focused ion beam optical system and an electronic optical system in the same vacuum device, and also provided with a probe for separating a minute sample including a desired area of a sample by a charged particle beam forming process, and for extracting the separated minute sample.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 - 特許庁

The magnetic system can be freely moved at least to one direction in such a manner that the adaptation of the magnetic system to alternative application as an arc source or a sputter source can be achieved during the operation without interrupting a vacuum state in the midst of the cycle of the process.例文帳に追加

磁気システムは、アークソースまたはスパッタソースとしての択一的な適用に対する前記磁気システムの適合が、プロセスのサイクルの最中に真空状態を中断することなく動作中に実現できるように、前記磁気システムが少なくとも一つの方向に自由に移動できる。 - 特許庁

To remarkably suppress the generation of dust from a film deposition material stuck in the process of a film deposition stage and to stably and effectively prevent the peeling of a stuck film itself and a sprayed coating in a component for a vacuum film deposition system and a target device.例文帳に追加

真空成膜装置用部品やターゲット装置において、成膜工程中に付着する成膜材料からのダストの発生を大幅に抑制すると共に、付着した膜自体および溶射膜の剥離を安定かつ有効に防止する。 - 特許庁

To provide an inexpensive thin film deposition method, in the case of continuously depositing thin films on plural substrates by using a vacuum film deposition system, capable of depositing inexpensive thin film having stable characteristics through the plural substrates by a simplified process.例文帳に追加

真空成膜装置を用いて複数枚の基板に連続して薄膜を形成する場合に、複数枚の基板を通して安定した特性を有する薄膜が形成でき、かつ簡略化された工程で安価な薄膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To enable use of the same vacuum system as one used in a case of normal film formation during in-situ cleaning, regarding semiconductor manufacturing equipment which executes the in-situ cleaning after a film is formed on a wafer in an insulating film forming process.例文帳に追加

本発明は絶縁膜形成工程でウエーハ上に膜を成膜した後にin-situクリーニングを実行する半導体製造装置に関し、in-situクリーニング中に、通常の成膜の場合と同じ真空系が使用できるようにすることを目的とする。 - 特許庁

To establish an on-the-spot measuring technology of purity of tritium released from a tritium storage bed, which is important for purity control of tritium supplied to the core of a nuclear fusion reactor vacuum vessel or for tritium metering control of the whole tritium process system.例文帳に追加

トリチウム貯蔵ベッドから放出されるトリチウムの純度のその場測定技術の確立は、核融合炉真空容器の炉心に供給するトリチウムの純度管理やトリチウムプロセスシステム全体のトリチウム計量管理にとって重要である。 - 特許庁

A thin film process that reaction gas is introduced in a vacuum container 3 through a gas feeding system 1, a plasma 6 is generated between upper and lower electrodes 4a and 4b, a thin film is deposited on the surface of a substrate 5, the surface of the substrate 5 is etched and the others are performed is executed.例文帳に追加

真空容器3内にガス供給システム1から反応ガスを導入し、上部電極4aと下部電極4bとの間でプラズマ6を発生させ、基板5の表面に対して薄膜堆積やエッチングなどのプロセスを行う。 - 特許庁

To make possible the recycling of exhaust gas components in manufacturing process by cooling, liquefaction, and recovery, and to use toxic or useful gases without disposal, and to dramatically reduce the maintenance frequency of an exhaust system by combining such a recovery method with a vacuum exhaust system.例文帳に追加

本発明は、製造プロセスにおける排気ガス成分を冷却・液化し回収することで再利用を可能とし、有毒、有益なガスを廃棄することなく使用できるようにすること、この回収方法を真空排気系と合わせることにより、排気システムのメンテナンス頻度を激減させることを目的とする。 - 特許庁

例文

To provide a conveyance system capable of efficiently and rapidly executing a cooling process of a processing object after recovering a vacuum evaporant, and thereby remarkably improving production efficiency of metal for reuse; and to provide a tray and a carbon rail.例文帳に追加

真空蒸発物回収後の処理品の冷却処理を効率よく短時間の内に行うことができ、以て再利用のための金属の生産効率を大幅に向上させることができる搬送システム、トレー及びカーボンレールを提供することを課題とする。 - 特許庁




  
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