「TIN OXIDE FILM」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PRODUCTION OF COATING SOLUTION OF TIN OXIDE PRECURSOR AND PRODUCTION OF TIN OXIDE FILM例文帳に追加

酸化錫前駆体塗布液の製造方法および酸化錫膜の製造方法 - 特許庁

TIN OXIDE FILM FORMER, TIN OXIDE FILM FORMATION METHOD USING IT, AND TIN OXIDE FILM FORMED BY IT例文帳に追加

酸化錫膜形成剤、該酸化錫膜形成剤を用いる酸化錫膜形成方法、及び該形成方法により形成される酸化錫膜 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING COATING SOLUTION FOR FORMING FILM OF TRANSPARENT CONDUCTIVE TIN OXIDE AND TRANSPARENT CONDUCTIVE TIN OXIDE FILM, AND TRANSPARENT CONDUCTIVE TIN OXIDE FILM例文帳に追加

透明導電性酸化スズ膜形成用塗布溶液及び透明導電性酸化スズ膜の製造方法並びに透明導電性酸化スズ膜 - 特許庁

FILM FORMING METHOD FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE TIN OXIDE FILM例文帳に追加

透明な導電性酸化スズ膜の製膜方法 - 特許庁

AMORPHOUS TIN OXIDE THIN FILM AND THIN FILM LAMINATED BODY例文帳に追加

非結晶性酸化スズ薄膜及び薄膜積層体 - 特許庁

To provide a tin oxide film former capable of forming a tin oxide film at low temperatures.例文帳に追加

低温で酸化錫膜を形成することができる酸化錫膜形成剤を提供する。 - 特許庁

The transparent conductive film 82 formed on the surface 83 of the substrate 81 is made of an ITOC (indium Tin Oxide Carbon) film.例文帳に追加

基板８１の表面８３に形成された透明導電膜８２は、ＩＴＯＣ（Indium Tin Oxide Carbon）膜からなる。 - 特許庁

INDIUM TIN OXIDE POWDER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, COATING MATERIAL FOR INDIUM TIN OXIDE CONDUCTIVE FILM, AND TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

ＩＴＯ粉体およびその製造方法、ＩＴＯ導電膜用塗料、並びに透明導電膜 - 特許庁

To provide an indium tin oxide target, a method for manufacturing the indium tin oxide target, a transparent conductive film of indium tin oxide, and a method for manufacturing the transparent conductive film.例文帳に追加

酸化インジウムスズターゲットおよびこの製造方法、酸化インジウムスズ透明導電膜およびこの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a coating solution for forming a transparent conductive tin oxide film and a transparent conductive tin oxide film tough tin oxide film with high conductivity and transparency can be obtained using inexpensive tin oxide or tin chloride as the materials, and the transparent tin oxide film.例文帳に追加

安価な酸化スズ、塩化スズなどを原料として優れた導電性と透明性を有する強靱な酸化スズ膜を得ることができる透明導電性酸化スズ膜形成用塗布溶液及び透明導電性酸化スズ膜の製造方法並びに透明導電性酸化スズ膜を提供することができる。 - 特許庁

INDIUM TIN OXIDE PRECURSOR, INDIUM TIN OXIDE FILM, AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加

インジウム錫酸化物前駆体とそのインジウム錫酸化物膜、およびこれらの製造方法 - 特許庁

The transparent conductive film contains an oxide of tin (Sn).例文帳に追加

透明導電膜は、スズ（Ｓｎ）の酸化物を含んでいる。 - 特許庁

COATING LIQUID FOR FORMING THIN FILM OF INDIUM-TIN OXIDE例文帳に追加

インジウム−スズ酸化物薄膜形成用塗布液 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF INDIUM TIN OXIDE FILM例文帳に追加

インジウムスズ酸化膜の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING TIN DOPED INDIUM OXIDE FILM WITH HIGH RESISTANCE例文帳に追加

高抵抗化スズドープ酸化インジウム膜の成膜方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING INDIUM TIN OXIDE FILM例文帳に追加

酸化インジウムスズ膜の製造方法 - 特許庁

METHOD OF INCREASING SPECIFIC RESISTANCE OF TIN-DOPE INDIUM OXIDE FILM例文帳に追加

スズドープ酸化インジウム膜の高比抵抗化方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR ETCHING TIN OXIDE FILM例文帳に追加

酸化錫膜のエッチング装置および方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FLUORINE-DOPED TIN OXIDE FILM例文帳に追加

フッ素ドープ酸化スズ膜形成方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING TIN OXIDE FILM例文帳に追加

酸化錫膜の製造方法および酸化錫膜の製造装置 - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE TIN OXIDE FILM例文帳に追加

透明導電性酸化スズ膜のパターニング方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RESISTANCE-REDUCED FLUORINE-DOPED TIN OXIDE FILM例文帳に追加

低抵抗化フッ素ドープ酸化スズ膜の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE WITH TIN OXIDE FILM例文帳に追加

酸化錫膜付きガラス基体の製造方法 - 特許庁

COATING LIQUID FOR DEPOSITING TIN OXIDE THIN FILM例文帳に追加

スズ酸化物薄膜形成用塗布液 - 特許庁

METHOD OF PATTERNING CONDUCTIVE TIN OXIDE FILM例文帳に追加

導電性酸化スズ膜のパターニング方法 - 特許庁

The transparent conductive film is preferred to have as a main component either an indium oxide, tin oxide, zinc oxide, F-doped tin oxide, Al-doped zinc oxide, Sb-doped tin oxide, ITO, or In_2O_3-ZnO system amorphous transparent conductive film.例文帳に追加

透明導電膜が酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、Ｆドープ酸化錫、Ａｌドープ酸化亜鉛、Ｓｂドープ酸化錫、ＩＴＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３−ＺｎＯ系アモルファス透明導電膜の何れかを主成分とすることは好ましい。 - 特許庁

AMORPHOUS OXIDE THIN FILM INCLUDING TIN AND THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

錫を含む非晶質酸化物薄膜、及び薄膜トランジスタ - 特許庁

The metal oxide film 3 consists of gallium oxide, tantalum oxide, lantern oxide, indium oxide, and tin oxide or platinum oxide.例文帳に追加

酸化金属膜３は、酸化ガリウム、酸化タンタル、酸化ランタン、酸化インジウム、酸化錫または酸化白金からなる。 - 特許庁

This method is suitable for producing a thin film of indium oxide, tin oxide, titanium oxide or the like.例文帳に追加

酸化インジウム、酸化スズまたは酸化チタンなどの薄膜の作製に適している。 - 特許庁

AQUEOUS ZINC INK PASTE COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION OF TIN OXIDE FILM例文帳に追加

酸化錫膜のパタ−ン形成用水性亜鉛インクペ−スト組成物 - 特許庁

INDIUM TIN OXIDE THIN FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD, LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

酸化インジウム錫薄膜およびその製造方法、液晶表示素子 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF LOW RESISTANCE FLUORINE DOPED TIN OXIDE FILM AND SOLAR CELL例文帳に追加

低抵抗化フッ素ドープ酸化スズ膜および太陽電池の製造方法 - 特許庁

INKJET INK FOR FORMING TRANSPARENT CONDUCTIVE TIN OXIDE FILM例文帳に追加

透明導電性酸化すず膜形成用インクジェットインク - 特許庁

SELF-ADHESIVE FOR TIN-DOPED INDIUM OXIDE FILM, AND DOUBLE-SIDED SELF-ADHESIVE SHEET例文帳に追加

錫ドープ酸化インジウム膜用粘着剤および両面粘着シート - 特許庁

The coated cutting tool has a multi-layered coating film 20 including an oxide film (a fourth layer 24 (Al_2O_3)) and films other than oxide (a first layer 21 (TiN), a second layer 22 (TiCN), a third layer 23 (TiBN), and a fifth layer 25 (TiN)), on the surface of a base material 10 composed of a hard alloy.例文帳に追加

硬質合金からなる基材10の表面に、酸化物の膜(第4層24(Al_2O_3))と酸化物以外の膜(第1層21(TiN),第2層22(TiCN),第3層23(TiBN),第5層25(TiN))とを含む多層の被覆膜20を備える被覆切削工具に係る。 - 特許庁

Then, a TiN film 33D, a silicon oxide film 34B, and a TiN film 35B are successively formed on the upper conductor film 35A.例文帳に追加

次に、上部導電体膜３５Ａ上に、ＴｉＮ膜３３Ｄとシリコン酸化膜３４ＢとＴｉＮ膜３５Ｂとを順次形成する。 - 特許庁

In this glass, a tin oxide film 2 is formed on a surface of a glass substrate 1, a silicon oxide film 3 is formed on the surface of the tin oxide film 2, and a fluorine-added tin oxide film 4, i.e., a low-radiation layer, is formed on the surface of the silicon oxide film 3.例文帳に追加

ガラス基板１の表面に酸化スズ膜２が形成され、該酸化スズ膜２の表面に酸化ケイ素膜３を形成し、該酸化ケイ素膜３の表面にはフッ素が添加された酸化スズ膜４、すなわち低放射層が形成されている。 - 特許庁

INDIUM TIN OXIDE TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM OF INDIUM TIN OXIDE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

酸化インジウムスズターゲットおよびこの製造方法、酸化インジウムスズ透明導電膜およびこの製造方法 - 特許庁

The transparent conductive film 3 consists of a tin oxide base and an antimony oxide additive with a 2.1-4 mol% amount of antimony to tin.例文帳に追加

透明導電性被膜３は、主成分が酸化スズ、添加材が酸化アンチモンからなり、スズに対して２．１〜４ｍｏｌ％のアンチモンを含有している。 - 特許庁

The indium tin oxide film 30 is formed on the second face 22 of the non-oxide adhesive layer 20.例文帳に追加

酸化インジウムスズ膜３０は、非酸化物接着層２０の第二面２２に形成される。 - 特許庁

The bonding structure is provided with a substrate 10, an non-oxide adhesive layer 20, and an indium tin oxide film 30.例文帳に追加

基板１０と、非酸化物接着層２０と、酸化インジウムスズ膜３０とを備える。 - 特許庁

Besides the FTO film 2, a transparent conductive film composed of antimony-doped tin oxide (ATO), tin oxide (TO), fluorine-doped zinc oxide (FZO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), zinc oxide (ZO) or the like may also be used.例文帳に追加

ＦＴＯ膜２以外にアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化スズ（ＴＯ）、フッ素ドープ酸化亜鉛（ＦＺＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、酸化亜鉛（ＺＯ）などからなる透明導電膜を用いてもよい。 - 特許庁

The sensitive film 18 may be a phosphoric acid zirconium film, a lipid film, an olefin oxide film or a tin oxide film.例文帳に追加

感応膜１８は、リン酸ジルコニウム膜、脂質膜、オレイン酸膜または酸化スズ膜であってもよい。 - 特許庁

In the manufacturing method for the base material with the tin oxide film for forming the tin oxide film on the base material, the tin oxide film is formed by pyrolyzing a raw material containing tin chloride, water and an organic solvent.例文帳に追加

基材上に酸化錫膜を形成する酸化錫膜付き基材の製造方法において、前記酸化錫膜は、錫塩化物と水に、さらに有機溶剤を含む原料を熱分解して形成したことを特徴とする酸化錫膜付き基材の製造方法である。 - 特許庁

The glass substrate with the tin oxide film is manufactured by forming the tin oxide film of a thickness 500 to 1,000 nm by a pyrolysis method using a tin tetrachloride as a raw material on a glass substrate and heat-treating the tin oxide film at 300 to 650°C in a nonoxidizing atmosphere.例文帳に追加

ガラス基板上に四塩化錫を原料として熱分解法により厚さ５００〜１０００ｎｍの酸化錫膜を形成し、前記酸化錫膜を、非酸化雰囲気で３００〜６５０℃で熱処理することを特徴とする酸化錫膜付きガラス基体の製造方法。 - 特許庁