「TIN OXIDE FILM」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

On outer surfaces of the two windows 2, 3, a first heater 12 and a second heater 13 comprised of a transparent electrode film such as indium tin oxide ITO are respectively provided while being layered.例文帳に追加

二つの窓部２，３それぞれの外側の面には、ＩＴＯなどの透明電極膜からなる第１の加熱ヒーター１２、および第２の加熱ヒーター１３がそれぞれ積層されて設けられている。 - 特許庁

The solder powder for soldering paste capable of controlling viscosity rise with the lapse of time after manufacturing paste is provided by forming an oxidized film made of tin oxide with average thickness of 2.5-6 nm on the surface of a solder grain.例文帳に追加

本発明は、はんだ粒子表面に平均厚さ約２．５〜６ｎｍの酸化錫からなる酸化皮膜を形成することにより、ペースト作製後の経時的粘度上昇を抑制し得るはんだペースト用はんだ粉を提案する。 - 特許庁

The coating material for forming the transparent conductive film comprises a ruthenium fine particle whose primary particle has an average particle size of 1-30 nm and a tin-doped indium oxide fine particle whose primary particle has an average particle size of 35-70 nm.例文帳に追加

本発明の透明導電膜形成用塗料は、１次粒子の平均粒径が１〜３０ｎｍのルテニウム微粒子と、１次粒子の平均粒径が３５〜７０ｎｍのスズ添加酸化インジウム微粒子とを含有してなることを特徴とする。 - 特許庁

In the nonaqueous electrolyte secondary battery having a negative electrode, a positive electrode, and a nonaqueous electrolyte, tin having 10-50 nm oxide film on the surface is used as the active material of the negative electrode.例文帳に追加

負極と正極と非水電解質とを備えた非水電解質二次電池において、負極の活物質として、表面に厚さ１０〜５０ｎｍの酸化膜を有する錫を用いることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a needlelike electroconductive powder which is highly electroconductive white needlelike tin oxide powder, and forms a thin white coating film having a low surface resistivity, even when the powder is added in a small amount.例文帳に追加

導電性が高く、白色の針状酸化錫微粉末であって、この針状導電性酸化錫微粉末を用い、少量の添加であっても表面抵抗率が低く、薄い白色の塗膜を形成できる針状導電性粉末を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a transparent electrode, including a tin oxide film capable of being easily patterned and realized at low cost and having a low resistance and excelling transparency.例文帳に追加

容易にパターニングが可能で、かつ低コストで実現可能な低抵抗で透明性に優れた酸化スズ膜からなる透明電極の製造方法の提供。 - 特許庁

The conductive film or the adhesive layer is subjected to patterning processing to gain the same effect as a usual conductive plate including an ITO (Indium Tin Oxide) layer.例文帳に追加

前記導電性フィルム又は前記接着層がパターン化処理され、従来のＩＴＯ層を含む導電板と同様の効果を奏することができる。 - 特許庁

To provide ITO (indium tin oxide) powder which is minute, has high crystallinity and allows an electrically conductive coating film etc. with excellent transparency to be formed and to provide a transparent electrically conductive composition including the ITO powder and a method for producing the same.例文帳に追加

微細であって結晶性が高く、透明性に優れた導電被膜等を形成することができるＩＴＯ粉末と、その透明導電性組成物、および製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a transparent substrate having a tin oxide thin film which can be patterned without any problem with an ablation phenomenon caused even if the substrate is irradiated with a laser beam low energy.例文帳に追加

低いエネルギーのレーザ光の照射であってもアブレーション現象が起こり、問題なくパターニングできる酸化錫薄膜が付いた透明基板の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for producing a large ITO (indium-tin oxide) sintered compact which is useful as a target for sputtering for producing a transparent electrically conductive film in a short time.例文帳に追加

透明導電膜作製のためのスパッタリング用ターゲットとして有用な大型のITO焼結体を短時間で製造可能な方法を提供する。 - 特許庁

The conductive tin oxide powder, of which the haze of a coating film when being made to a paint is 5% or lower, the surface resistance is 10^10Ω/square or smaller and which contains no dopants, is adopted.例文帳に追加

塗料化した時の塗膜のヘイズが５％以下、表面抵抗が１０^１０Ω／□以下であり、かつドーパントを含まないことを特徴とする導電性酸化錫粉末を採用する。 - 特許庁

Further, a transparent film is employed for the diaphragm 2 and ITO (indium tin oxide) is employed for the conductors to obtain a transparent speaker, which can be installed on the surface of a display apparatus or the like.例文帳に追加

また振動板２として透明フィルムを、および導体としてＩＴＯを使用すると透明なスピーカとすることができ、ディスプレイ装置の表面などに設置することが可能となる。 - 特許庁

To prepare a thin film of a tin oxide meso structural body provided with a fine pore structure having high structural regularity and a crystalline fine pore wall, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

高い構造規則性を持った細孔構造と結晶性細孔壁を兼ね備えた酸化スズメソ構造体の薄膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a tin oxide powder using a jet mill capable of obtaining a sintered compact excellent in densification and in homogeneity of ingredients preferable for forming an ITO thin film.例文帳に追加

ＩＴＯ薄膜形成に好適な高密度化と成分の均一性に優れた焼結体を得ることができるジェットミルを用いた酸化錫粉末の製造方法を提供する。 - 特許庁

The fluorescent material layer 3 may be formed to the inner surface side of the translucent discharge container 1 on the inner face of which, translucent conductive film 2 consisting mainly of tin oxide is formed.例文帳に追加

透光性放電容器１の内面に酸化スズを主体とする透光性導電膜２を配設し、その内面側に蛍光体層３を形成してもよい。 - 特許庁

To provide a liquid crystal panel having an ITO (indium tin oxide) film without any appearance defect, such as a crack, a wrinkle or the like, as the transparent common electrode of a color filter substrate.例文帳に追加

クラックやしわ等の外観不良の無いＩＴＯ膜をカラーフィルタ基板の透明共通電極として有する液晶パネルを提供する。 - 特許庁

In this scroll type fluid machine, an anode oxide film 2 is formed on an aluminum alloy base metal 1, an enlarged opening part 20 is formed on a surface layer part of a pore 3, and the interior of the pore is filled with tin 5 to manufacture a scroll member 10.例文帳に追加

アルミニウム合金母材１に陽極酸化皮膜２を形成し、ポア３の表層部に拡大開口部２０を形成し、ポア３内にすず５を充填しスクロール部材１０を製造する。 - 特許庁

In an aperture part 46 (gap part) in a common electrode, a base layer 46 is formed, which includes a substance which restrains the crystallization of an ITO (Indium Tin Oxide) film more than an insulating layer 76 when the common electrode is formed.例文帳に追加

共通電極における開口部４６（間隙部分）には、共通電極を形成する際に、絶縁層７６よりもＩＴＯ膜の結晶化を抑制させる物質からなる下地層４６が形成されている。 - 特許庁

An organic electroluminescence (EL) display 10 is formed by sticking a first substrate 11 on which an indium tin oxide (ITO) film 12, a light emitting layer 13 and an electrode 14 are formed, and a second substrate 16 as an opposing substrate together.例文帳に追加

第１基板１１上に、ＩＴＯ膜１２、発光層１３、電極１４を形成し、さらに、対向基板としての第２基板１６と貼り合わせて有機ＥＬディスプレイ１０を形成する。 - 特許庁

Next, the coloring layers of the respective colors formed on the base material are heat treated (pretreated) in the atmosphere (step 102) and subsequently an ITO(indium tin oxide) film is deposited on the coloring layers of the respective colors formed on the base material at low temperature (step 103).例文帳に追加

次に、基材に形成された各色の着色層に対して大気雰囲気で熱処理（前処理）を行い（ステップ１０２）、その後、基材に形成された各色の着色層上にＩＴＯ膜を低温成膜する（ステップ１０３）。 - 特許庁

An Indium Tin Oxide (ITO) film 12, a light emitting layer 13, and an electrode 14 are formed on a first substrate 11 and moreover, an organic electroluminescence (EL) display 10 is formed by sticking the substrate and a second substrate 16 as an opposing substrate together.例文帳に追加

第１基板１１上に、ＩＴＯ膜１２、発光層１３、電極１４を形成し、さらに、対向基板としての第２基板１６と貼り合わせて有機ＥＬディスプレイ１０を形成する。 - 特許庁

A core-shell structure includes a core-shell structure having a nano size wherein (1) the core is made of tin sulfide particles and (2) the shell is made of a silicon oxide film.例文帳に追加

ナノサイズのコア・シェル構造体であって、（１）前記コアは、硫化スズ粒子であり、（２）前記シェルは、酸化ケイ素膜である、ことを特徴とするコア・シェル構造体。 - 特許庁

An ITO (indium tin oxide) film is used as a low-resistance transparent wiring material and transparent electrode material.例文帳に追加

低抵抗の透明配線材料や透明電極材料として活用されるＩＴＯ膜およびその製造方法において、ＩＴＯ膜を低温度でスパッタリングして形成し、まず、非結晶体のアモルファス状態にする。 - 特許庁

The method of producing the acid-resistant glass fiber includes: forming a tin oxide film on a surface of a glass fiber, wherein the glass fiber is reduced by 0.04-15.00 wt.% by bringing the glass fiber into contact with an acid.例文帳に追加

酸と接触させて０．０４〜１５．００％重量を減少させたガラス繊維の表面に、酸化スズの層を形成する、耐酸性ガラス繊維の製造方法。 - 特許庁

The head part 1 is formed of the dielectric of glass or plastic or the like and the transparent and electrically conductive thin film (transparent electrode) of tin oxide is stuck to the surface and is attached to a probe main body through a ring-like cushion material (a).例文帳に追加

ヘッド部１は、ガラスやプラスチックなどの誘電体で形成し、その表面に透明で電気を通す酸化スズの薄膜（透明電極）を貼り付け、リング状のクッション材ａを介してプローブ本体に取り付ける。 - 特許庁

A ratio of peak intensity at (222) plane to that of (400) plane of the indium tin oxide of the ITO transparent conductive film at an X-ray diffraction is not less than 1:1 and not larger than 4:1.例文帳に追加

成膜されるＩＴＯ透明導電膜は、Ｘ線回析において、酸化インジウム錫の（２２２）面のピーク強度と（４００）面のピーク強度の比が１：１以上４：１以下である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method with excellent production efficiency of a mixed powder consisting of a hexaboride fine particle and an indium tin oxide fine particle suitable for a heat ray shielding film, and to provide a manufacturing method with excellent production efficiency of a coating fluid using the mixed powder.例文帳に追加

熱線遮蔽膜に適した６ホウ化物微粒子とインジウム錫酸化物微粒子とからなる混合粉末と、それを用いた塗布液の生産効率に優れた製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ITO(indium tin oxide) sputtering target capable of reducing the amount of nodules occurring at the surface of a target even in the case of a film deposition method wherein electric discharge is performed at a low applied electric power liable to produce nodules.例文帳に追加

ノジュールの発生しやすい、低い印加電力で放電を行う成膜方法を用いた場合においてもターゲット表面に発生するノジュール量を低減できるＩＴＯスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

A crystalline oxide semiconductor film is formed without plural steps by preferentially depositing zinc having a smaller atomic weight on an oxide insulating film to form a seed crystal containing zinc as well as growing crystal of tin, indium and the like having a larger atomic weight on the seed crystal by use of difference in atomic weight between plural kinds of atoms included in a target for the oxide semiconductor film.例文帳に追加

酸化物半導体用ターゲットに含まれる複数種の原子の原子量の違いを利用し、原子量の小さい亜鉛を優先的に酸化物絶縁膜に堆積させ、亜鉛を含む種結晶を形成すると共に、種結晶上に原子量の大きいスズ、インジウム等を結晶成長させつつ堆積させることで、複数の工程を経ずとも、結晶性酸化物半導体膜を形成することを要旨とする。 - 特許庁

This is the substrate with the transparent conductive film which is equipped with the transparent conductive film at least on one face of the substrate, and in which the transparent conductive film is equipped with a first thin film layer composed of zinc oxide and a second thin film layer composed of indium oxide containing tin sequentially from the substrate side.例文帳に追加

基板の少なくとも一方の面に透明導電膜を備える透明導電膜付き基板であって、該透明導電膜が前記基板側から順に酸化亜鉛からなる第１の薄膜層とスズを含むインジウム酸化物からなる第２の薄膜層とを備えることを特徴とする透明導電膜付き基板とした。 - 特許庁

A tin oxide film 4 properly added with fluorine and antimony is formed on a glass sheet 1 containing iron components which are ≥0.31 to <0.46 wt.% total iron oxide in terms of Fe2O3 and 0.090 to 0.14 wt.% FeO as coloring components.例文帳に追加

着色成分として、Ｆｅ_2Ｏ_3換算の全酸化鉄が０．３１重量％以上０．４６重量％未満、ＦｅＯが０．０９０〜０．１４重量％である鉄成分を含有するガラス板１上に、フッ素、アンチモンを適宜添加した酸化錫膜４を形成する。 - 特許庁

Since a coating layer is formed on the mouth part using a coating facility and a material which have been used for a body part of a glass container, the coating layer can be formed inexpensively and safely, and no problems to a human body are raised since the coating film is formed of tin oxide or titanium oxide.例文帳に追加

従来ガラス容器の胴部に行っていたコーティングの設備と材料を用いて口部にコーティング層を形成できるので、コーティング層の形成が安価かつ容易であり、被膜が酸化スズ又は酸化チタンであるために人体に対する毒性も問題とならない。 - 特許庁

The surface of a substrate is coated with a photocatalytic film containing a mixture of photocatalytic titanium oxide and tin oxide, not only to be made highly hydrophilic corresponding to the optical excitation due to solar rays of a photocatalytic semiconductive material, but also to be provided with the removing properties of a bonded stain by water and adhesion preventing properties of a stain.例文帳に追加

基材の表面を、光触媒性酸化チタンと酸化錫との混合物を含む光触媒性被膜で被覆し、光触媒性半導体材料の太陽光による光励起に応じて、高度に親水性され、付着した汚れを水により除去可能とし、汚れの付着を防止する。 - 特許庁

The loop antenna of this invention is provided with a dielectric substrate and an annular radiation element consisting of a transparent conductive film installed on the dielectric substrate while the transparent conductive film is constituted of a tin doped indium oxide thin film.例文帳に追加

本発明のループアンテナは、誘電体基板と、該誘電体基板上に設けられた透明導電膜からなる環状の放射素子とを備えたループアンテナであって、前記透明導電膜はスズドープ酸化インジウム薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁

The electromagnetic wave noise prevention sheet 5 is formed of a translucent film, a translucent metal film on a film pasted on top of it, and a metal wire-net having a numerical aperture of 95% made of indium tin oxide pasted on the top of it.例文帳に追加

電磁波ノイズ防止シート５は、透光性フィルム、その上部に貼り付けられた薄膜上の透光性金属フィルム、およびその上部に貼り付けられた、酸化インジウムスズからなる開口率が９５％の金網から形成される。 - 特許庁

To provide a method for producing a thin sheet glass strip in which a thin film such as a transparent conductive film, particularly a tin oxide film is deposited on a surface of thin sheet glass for an organic EL glass substrate, while achieving a sufficiently low sheet resistance, preventing the formation of large crystal grains so as to ensure surface smoothness, and maintaining high productivity.例文帳に追加

シート抵抗が十分低く、巨大結晶粒の形成を防止し表面の平滑性を確保し、高い生産性を維持しながら、有機ＥＬガラス基板用薄板ガラス表面への透明導電膜等の薄膜、特に酸化スズ膜の成膜された薄板ガラス条を製造方法を提供する。 - 特許庁

In this transparent conductive film for the touch panel, a hard coat layer with a resin composition of the glass transition point of ≥150°C and mainly consisting of (meta)acrylate crosslinked on at least one side of the film, and a transparent conductive film formed of indium - tin oxide is deposited on the hard coat layer.例文帳に追加

フィルムの少なくとも片面に、ガラス転位温度が１５０℃以上の、（メタ）アクリレートを主成分とする樹脂組成物を架橋して成るハードコート層を積層し、該ハードコート層の上にインジウム・スズ酸化物からなる透明導電膜を成膜したタッチパネル用透明導電性フィルム。 - 特許庁

The method of ion beam etching includes a step of oppositely disposing a mask member 20 having an opening 21 formed to define the working region of an ITO (indium tin oxide) film 12 on a substrate 10 to be processed, and illuminating an ion beam IB to the ITO film 12 via the mask member 20 to etch the ITO film 12.例文帳に追加

ＩＴＯ膜１２の加工領域を定める開口２１が形成されたマスク部材２０を被処理基板１０上に対向配置し、マスク部材２０を介してＩＴＯ膜１２にイオンビームＩＢを照射しエッチングする。 - 特許庁

A first metal film 12A made of an indium tin oxide (ITO) and a second metal film 15 made of Al are successively laminated by vapor deposition on an organic EL layer 13, a photoresist 16 is applied on the second metal film 15, then the photoresist 16 is patterned to a mask pattern of an anode electrode by exposing and developing the photoresist 16.例文帳に追加

有機ＥＬ層１３の上に、ＩＴＯでなる第１金属膜１２Ａ、Ａｌでなる第２金属膜１５を順次蒸着により積層させ、第２金属膜１５の上にフォトレジスト１６を塗布し、露光・現像してフォトレジスト１６をアノード電極のマスクパターンにパターニングする。 - 特許庁

To provide an ITO (Indium Tin Oxide) target which can avoid the generation of nodules during sputtering, has little distribution of a film-forming rate within the surface, has little change in the film-forming rate from an early stage to the final stage in service, and can provide the high film-forming rate, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

スパッタリング中のノジュールの生成が避けられ、成膜速度の面内ばらつきが小さく、使用初期から使用末期まで成膜速度の変化が小さく、高い成膜速度が得られるＩＴＯターゲットおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent electroconductive patterned film such as an ITO (indium tin oxide), etc., having a fine pattern equipped with transparency and electroconductivity jointly, a method for producing the same and negative type photosensitive coating liquid for forming the transparent electroconductive film, capable of producing such the transparent electroconductive patterned film such as the ITO, etc., simply at a low cost.例文帳に追加

本発明は、透明性と導電性を兼ね備えた微細なパターンを有するＩＴＯ等の透明導電パターン膜とその製造方法、及びそのＩＴＯ等の透明導電パターン膜を低コストかつ簡便に製造できる透明導電膜形成用ネガ型感光性塗布液を提供する。 - 特許庁

A transparent conductive film 2, made of a thin film of oxide containing at least one element of indium, tin and zinc, is formed on the valve surface of a cold-cathode tube 1, and a pair of linear electrodes 3 are formed on the transparent conductive film 2 in the longitudinal direction of the cold- cathode tube 1.例文帳に追加

冷陰極管１のバルブ表面に、インジウムとスズと亜鉛のうち、少なくとも一種類の元素を含む酸化物の薄膜からなる透明導電膜２を形成し、さらに透明導電膜２の上に一対の線状電極３を、冷陰極管１のバルブの長手方向に形成する。 - 特許庁

A TEOS(tetraethylorthosilicate) oxide film 2 is formed on an Si wafer 1, a Ti film 3 and a TiN film 4 of barrier metal are formed thereon, and then an Al/Cu alloy layer 5 is deposited thereon, e.g. by magnetron sputtering method.例文帳に追加

Ｓｉウェハ１上にＴＥＯＳ酸化膜２が形成された後、その上にＴｉ膜３およびＴｉＮ膜４からなるバリアメタルが形成され、さらにその上にたとえばマグネトロンスパッタ法によってＡｌ・Ｃｕ合金膜５が堆積される。 - 特許庁

The method of patterning the conductive tin oxide film using a solution containing a tin compound and a dopant compound soluble in an organic solvent, dissolved in the organic solvent comprises drying a dry film within the range of retaining solubility in a developer, exposing it to a light containing a ultraviolet region to make it insoluble in part and etching a non- exposed portion with the developer.例文帳に追加

有機溶媒に可溶なスズ化合物とドーパント化合物を該有機溶媒に溶解した溶液を用い、該乾燥膜が現像液に対する溶解性を保持する範囲内で乾燥して、紫外領域を含む光により露光することで部分的に不溶にし、現像液で未露光部をエッチングすることを特徴とする導電性酸化スズ膜のパターニング方法。 - 特許庁

The laminated film 10 is formed on at least one surface of a support 11 made of polyester by coating a first layer 12 containing fine particles and a binder mainly composing either one of tin oxide, indium oxide, zirconium oxide, and titanium oxide in the order starting from the support 11, and a second layer 13 disposed so as to contact with the first layer 12.例文帳に追加

ポリエステルからなる支持体１１の少なくとも一方の面に、支持体１１から近い順に、酸化錫、酸化インジウム、酸化ジルコニウム、酸化チタンのいずれかひとつを主成分とする微粒子及びバインダを含む第１層１２と、第１層１２に接するようにして配置される第２層１３とを塗設して積層フィルム１０を形成する。 - 特許庁