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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > electrostatic monitorに関連した英語例文

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electrostatic monitorの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 14



例文

GROUND MONITOR OF ELECTROSTATIC GROUND SYSTEM例文帳に追加

静電接地システムの接地モニタ - 特許庁

SUBSTRATE CLEANING METHOD AND ELECTROSTATIC CHARGING SUPPRESSION EFFECT MONITOR例文帳に追加

基板洗浄方法及び帯電抑制効果監視モニター - 特許庁

To provide a mirror assembly with a liquid crystal monitor having high reliability even at a low temperature and in an electrostatic environment.例文帳に追加

低温環境下や静電気に対しても、信頼性の高い液晶モニター付きミラーアッセンブリが望まれる。 - 特許庁

In designing the vibrator 10, an electrostatic coupling capacitance Cc between the drive electrode 22 and the monitor electrode 24 is set to be equal to or less than 1/30 of detection capacitance of the monitor electrode 24.例文帳に追加

振動子10を設計する際に、駆動電極22とモニター電極24の間の静電結合容量Ccをモニター電極24の検出容量の1/30以下となるようにする。 - 特許庁

例文

To easily and accurately monitor electrostatic charging suppression effect by a cleaning liquid when a substrate is cleaned with the liquid having higher conductivity than pure water so as to prevent electrostatic charging of the substrate.例文帳に追加

基板の帯電防止のために、超純水よりも導電性の高い液体で基板を洗浄するに当たり、この洗浄用液体による帯電抑制効果を簡便かつ的確に確認する。 - 特許庁


例文

A substrate cleaning method includes portioning out part of the cleaning liquid, bringing it into contact with a model piece of the same material with the substrate to be cleaned, and measuring the electrostatic potential of the model piece to monitor an electrostatic charging state of the substrate.例文帳に追加

洗浄用液体の一部を分取し、被洗浄基板と同材質のモデル片と接触させ、該モデル片の静電電位を測定することにより、基板の帯電状況を監視する基板洗浄方法。 - 特許庁

An electrostatic charging suppression effect monitor includes: a liquid contacting means for bringing the cleaning liquid into contact with the model piece of the same material with the substrate to be cleaned; and an electrostatic potential measuring means for measuring the electrostatic potential of the model piece brought into contact with the cleaning liquid by the liquid contacting means.例文帳に追加

洗浄用液体を被洗浄基板と同材質のモデル片と接触させる液体接触手段と、該液体接触手段で洗浄用液体と接触しているモデル片の静電電位を測定する静電電位測定手段とを備えてなる帯電抑制効果監視モニター。 - 特許庁

WORK HOLDER TO BE INDIVIDUALLY AND SELECTIVELY CONTROLLED, AND BASE PLATER OR VACUUM DEPOSITION DEVICE PROVIDED WITH QUARTZ MONITOR CONNECTED IN ELECTROSTATIC CAPACITY MANNER例文帳に追加

個別かつ選択的に制御される加工物ホルダー、及び静電容量的に連結された水晶モニターを備えたベースプレータまたは真空蒸着装置 - 特許庁

The input device includes a circuit in which at least a part of an electrode pattern for driving an LED 108 and at least a part of the electrode pattern for an electrostatic sensor 105 are commonly used, an illumination period and an electrostatic sensor monitor period are set by time division mode, and the LED 108 and the electrostatic sensor 105 are intermittently drived.例文帳に追加

LED108の駆動用の電極パターンの少なくとも一部と前記静電センサ105の電極パターンの少なくとも一部を共用可能とし、照光期間と静電センサ監視期間とを時分割で設定し、LED108と静電センサ105とを間歇駆動可能とする回路を設ける。 - 特許庁

例文

To provide a multi-wire beam profile monitor capable of precisely monitoring the beam current without being affected by the unstable electrostatic capacity of the capacitor for storing the beam current.例文帳に追加

ビーム電流蓄積用コンデンサの静電容量のばらつきの影響を受けることなくビーム電流を正確にモニタすることができるようにしたマルチワイヤ型ビームプロファイルモニタを提供する。 - 特許庁

例文

The gain control section 112 performs variable control over at least one of proportional gains of the first and second matching adjustment sections 100 and 102, based on current values NC, NC_2 of electrostatic capacities of the first and second variable capacitors 80, 82 which are respectively obtained from the first and second electrostatic capacity monitor sections 108 and 110.例文帳に追加

ゲイン制御部112は、第1及び第2静電容量モニタ部108,110よりそれぞれ得られる第1及び第2の可変コンデンサ80,82の静電容量現在値NC_1,NC_2に基づいて、第1及び第2の整合調節部100,102における比例ゲインの少なくとも一方を可変制御する。 - 特許庁

In a laser diode (LD) 72 used for forming an electrostatic latent image to a photosensitive-body drum in a laser printer, a monitor voltage VM obtained from a photodiode 74 receiving the laser beams is controlled at a reference voltage VT.例文帳に追加

レーザプリンタにて感光体ドラムに静電潜像を形成するのに用いられるレーザダイオード(LD)72は、そのレーザビームを受光するフォトダイオード74から得られるモニタ電圧VMが基準電圧VTとなるように制御される。 - 特許庁

The adsorption monitor method includes steps of: using electrostatic force to allow a stage 3 to adsorb a prescribed substrate 30; exerting an exfoliating force to the substrate 20 in a detaching direction of the substrate 20 from the stage 3; and detecting the behavior of the substrate 20.例文帳に追加

所定の基板20を静電気力によってステージ3に吸着させる工程と、基板20に対してステージ3から引き離す方向の所定の大きさの剥離力を作用させる工程と、基板20の挙動を検出する工程とを有する。 - 特許庁

例文

In a step S31, a controller and an LPC(LASER POWER CON TROLLER) monitor respectively an ESD(electrostatic discharge) hazard signal inputted from an ESD sensor, and decide occurrence of the ESD by discriminating whether or not its level is 0, and repeat the decision until the ESD occurs is decided.例文帳に追加

ステップS31において、コントローラおよびLPCは、それぞれ、ESDセンサ7から入力されるESDハザード信号を監視して、そのレベルが0であるか否を識別することにより、ESDの発生を判定し、ESDが発生したと判定するまで、その判定を繰り返す。 - 特許庁




  
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