「fine pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a resist pattern to easily suppressing pattern collapse when a fine pattern is formed.例文帳に追加

微細なパターンを形成する際のパターン倒れを容易に抑制できるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To increase the film thickness of an already formed resist pattern to improve etching resistance for the purpose of obtaining a fine separation pattern or a fine hole pattern.例文帳に追加

分離パターン、ホールパターンの微細化において、耐エッチング性を向上するために、既に形成したレジストパターンの膜厚を増加させることを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a body having a fine concavo-convex pattern surface for easily and inexpensively manufacturing the body having a fine concavo-convex pattern with a small pitch of the concavo-convex pattern.例文帳に追加

凹凸パターンのピッチが小さい表面微細凹凸体を容易に且つ低コストで製造できる表面微細凹凸体の製造方法を提供する - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming a fine pattern in a recess part, and a manufacturing method of a semiconductor device provided with the fine pattern in the recess part.例文帳に追加

凹部に微細なパターンが形成できるパターン形成方法および凹部に微細なパターンを有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF FINE PATTERN SHOWING MICRORINGS OR MICRORODS例文帳に追加

マイクロリングあるいはマイクロドットを呈した微細パターンの製造方法 - 特許庁

FINE RESIST PATTERN, ITS FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

微細レジストパターン、微細パターンの形成方法及び半導体装置 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING METHOD, FINE PATTERN FORMING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE METHOD例文帳に追加

微細パターン形成方法、微細パターン形成用材料、およびこの微細パターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

Glyph marks 21 are formed as a fine pattern on a substrate 24.例文帳に追加

基板２４上に微細パターンによりグリフマーク２１を形成する。 - 特許庁

PRODUCTION OF METAL OXIDE AND FORMATION OF FINE PATTERN例文帳に追加

金属酸化物の製造方法及び微細パターンの形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING FINE PATTERN EMPLOYING SELF-ALIGNED DOUBLE PATTERNING例文帳に追加

自己整列のダブルパターニングを採用する微細パターン形成方法 - 特許庁

LIQUID MATERIAL APPLYING UNIT AND FINE PATTERN DEFECT CORRECTING APPARATUS例文帳に追加

液体材料塗布ユニットおよび微細パターン欠陥修正装置 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING DEVICE, ITS MANUFACTURE, AND METHOD OF FORMING THE SAME例文帳に追加

微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子の微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FINE PATTERN AND RESIST COMPOSITION USED THEREFOR例文帳に追加

微細パターン形成方法およびそれに用いるレジスト組成物 - 特許庁

MANUFACTURE OF FINE PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

微細パターンの製造方法及びそれを用いたプリント配線板 - 特許庁

To improve the coverage of a metallic film formed on a fine pattern.例文帳に追加

微細パターンに形成する金属膜のカバレッジを改善する。 - 特許庁

To provide a fine pattern forming method for forming a fine pattern by using a resist having superior resistance in etching.例文帳に追加

エッチングの耐性が優秀なレジストを使用して微細なパターンを形成することができる微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELECTRICALLY CONDUCTIVE PASTE AND FINE ELECTRODE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性導電ペ—ストおよび微細電極パタ—ン形成方法 - 特許庁

METHOD AND INSTRUMENT FOR FINE PATTERN MEASUREMENT, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM STORED WITH FINE PATTERN MEASURING PROGRAM例文帳に追加

微細パターン測定方法、微細パターン測定装置、及び微細パターン測定プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

FINE PATTERN PRODUCING DEVICE, AND HOLOGRAPHIC MEMORY RECORDING AND REPRODUCING DEVICE例文帳に追加

微細パタ—ンの製造装置及びホログラフィックメモリ記録再生装置 - 特許庁

To inexpensively form a fine pattern having a high aspect ratio.例文帳に追加

微細でアスペクト比の高いパターンを安価な方法で形成する。 - 特許庁

To manufacture a three-dimensional pattern of fine pitch inexpensively with high yield.例文帳に追加

ファインピッチの立体パターンを歩留まりよく安価に製造する。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern of a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子の微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To realize formation of a fine pattern or production of a thin plate shaped pattern by a simple process without using a costly photomask, when forming the fine pattern on a substrate or producing the thin plate shaped pattern structure.例文帳に追加

基体上に微細パターン形成し、あるいは薄い板状パターン構造を製作する際に、高価なフォトマスクを使用せずに簡単なプロセスでそれらの製作を実現する。 - 特許庁

To form accurately a desired fine width pattern without depending upon the roughness and fineness of pattern distribution irrespective of an extraction or remnant pattern with respect to a formation method of an electron device and a fine width pattern.例文帳に追加

電子デバイス及び微細幅パターンの形成方法に関し、抜きパターンや残しパターンのいずれの場合もパターン分布の粗密に依存せずに所望の微細幅パターンを精度良く形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern in a semiconductor device using a fine-pitch hard mask.例文帳に追加

微細ピッチのハードマスクを用いた半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To widen an allowance for a positional shift of an absolute pattern to an incremental pattern, and to make the incremental pattern fine.例文帳に追加

アブソリュートパターンのインクリメンタルパターンに対する位置ずれの許容度を大きくし、インクリメンタルパターンの微細化を可能とする。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of easily forming a fine pattern, and a pattern formation device and a template manufacturing method.例文帳に追加

微細パターンを簡便に形成できるパターン形成方法、パターン形成装置、及びテンプレート作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a fine pattern of a self-organized organic thin film, and to provide a structure including fine particles positioned at specific sites in the fine pattern of the organic thin film.例文帳に追加

自己組織化有機薄膜の微細パターンの製造方法と、前記有機薄膜微細パターン内の特定の部位に位置する微粒子を含む構造体を提供すること。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, PATTERN DUPLICATING METHOD AND RESIN MOLDED PRODUCT HAVING FINE UNEVEN SHAPE LAYER例文帳に追加

パターン形成方法、パターン複製方法、及び微細な凹凸形状層を有する樹脂成形品 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern by which a pattern of fine width is formed more easily.例文帳に追加

微細な幅のパターンをより簡単に形成できるパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a developing method by which a fine pattern is formed without any falling down of the pattern.例文帳に追加

微細なパターンをパターン倒れなしに形成することができる現像方法を提供する。 - 特許庁

By utilizing the hard mask pattern 60 as an etching mask, a fine pattern of a semiconductor element is formed.例文帳に追加

ハードマスクパターン６０をエッチングマスクとして利用し半導体素子の微細パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method in which a pattern with a fine width can be formed more easily.例文帳に追加

微細な幅のパターンをより簡単に形成できるパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a film pattern forming method with which a fine film pattern can be accurately and stably formed.例文帳に追加

微細な膜パターンを精度良く安定して形成できる膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR FORMING DOPED AREA, AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN例文帳に追加

レジストパターン形成方法、不純物添加領域形成方法及び微細パターン形成方法 - 特許庁

To provide a covering material for a photoresist pattern, and to provide a fine pattern forming method using this covering material.例文帳に追加

フォトレジストパターン用被覆材及びそれを用いた微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming device capable of accurately and continuously forming a fine precision pattern and suitable for mass production.例文帳に追加

高精細なパターンを精度良く連続的に形成可能であり、量産に好適である。 - 特許庁

To generate a clock signal for drawing a fine pattern in an optional position on a substrate without changing the size of the fine pattern.例文帳に追加

微小パターンの大きさを変えることなく、微小パターンを基板上の任意の位置に描画するためのクロック信号を生成する。 - 特許庁

To form a fine high-accuracy resist pattern excellent in etching resistance.例文帳に追加

微細、高精度で、エッチング耐性に優れたレジストパターンを形成する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT HAVING FINE RUGGED PATTERN ON SURFACE例文帳に追加

表面に微細凹凸形状をもつ光学素子の製造方法 - 特許庁

LEVENSON PHASE SHIFT MASK AND FINE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスク及びこれを用いた微細パターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

微細パターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

微細パターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a fine pattern formation method for semiconductor elements.例文帳に追加

本発明は半導体素子の微細パターン形成方法を開示する。 - 特許庁