| 例文 |
full patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 160件
To provide an adhesive composition having sufficient bond strength, with sufficient inclusion of various fillers, rapid drying time after spreading, easily operable for both full coating and pattern spreading and applicable to various bases to realize sufficient bond strength between the base and the adhesive layer.例文帳に追加
十分な接着力を有し、各種の充填剤を十分充填でき、塗工後の乾燥時間が短く、全面塗工およびパターン塗工の何れも容易に行え、各種の基体に塗工することができ、基体と感圧接着剤層との十分な接着強度を実現できる接着剤組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a display device for a game machine capable of a light emitting display form full of diversity and game properties without increasing the number of substrates for light emitting elements or complicating a structure at the time of diversifying and varying pattern display forms while utilizing the clarity of the light emitting elements, and the game machine using the same.例文帳に追加
発光素子の明瞭性を活かしつつ図柄表示態様の多様化・多彩化を図る際に、発光素子用の基板数を増加させたり構造を複雑化させたりすることなく多様性・ゲーム性に富んだ発光表示形態を可能とした遊技機用表示装置とそれを用いた遊技機を提供する。 - 特許庁
To provide a fabric-fulling or tie-patterning method by which a fabric to be processed can efficiently be treated in processes for sticking the fabric to a thermally shrinkable film and then thermally shrinking the film to full and compact the fabric or draw a tie-pattern on the fabric, while omitting a process for drying an adhesive applied on the thermally shrinkable film and the fabric.例文帳に追加
熱収縮性フイルムを被加工布帛に貼り合わせて加熱収縮させて被加工布帛を縮絨緻密化し、或いは、被加工布帛に絞り模様を描出する過程において、熱収縮性フイルムと被加工布帛に塗着した接着剤の乾燥工程を省き、効率的に被加工布帛を処理する。 - 特許庁
To provide an antireflection film forming composition, having high power to absorb reflected light and capable of forming an antireflection film which has full resistance, even with respect to a developing solution on which a resist pattern excellent in shape can easily be formed at a high etching rate, even if the antireflection film is made thick and difference in level on a substrate is planarized.例文帳に追加
反射光に対して吸収能が高く、エッチングレートが高く反射防止膜を厚膜にし基板上の段差を平坦化しても形状に優れたレジストパターンが容易に形成でき、かつ現像液に対しても充分な耐性を有する反射防止膜を形成できる反射防止膜形成用組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a mask, for reducing the mask price without significantly increasing a load of electron beam drawing on the mask, and ensuring dimensional uniformity of a device pattern under the same conditions of manufacturing a full-chip mask, in a method for manufacturing a mask in which the number of chips in an effective exposure area of the mask is reduced and a vacant area is formed.例文帳に追加
マスクの有効露光領域内のチップ数を削減し、空き領域が形成される場合のマスクの製造方法において、マスクの電子線描画負荷を著しく上げずにマスク価格の低減を図り、フルチップの時と同一の製造条件で、デバイスパターンの寸法均一性が保証されたマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a process for production of vinyl chloride for a paste excellent in surface smoothness of the foamed molding and having a fine cellular structure, and giving a foamed molding with a feeling of full volume and little decrease of thickness of the foamed molding on reheating the foamed molding to give an embossed pattern, regardless of the kind and volume of plasticizer, or and the volume of filler on blending in a foaming process.例文帳に追加
発泡加工する際、配合時の可塑剤種類、量、充填剤量に関わらず、発泡体の表面平滑性に優れ、緻密なセル構造を有し、凹凸模様を施す際の発泡体の再加熱において発泡体の厚み減少が少なく、ボリューム感のある発泡成形体となるペースト用塩化ビニル樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁
An SOI structure is formed in a part of a semiconductor substrate wherein a fuse element 510 for laser trimming, a pattern 610 for positioning laser trimming, a full depletion high rate MOS transistor 210, and a pleader resistor 410 comprising a plurality of resistors are formed in the SOI structure while a high breakdown strength MOS transistor and an ESD protective element 31 are formed in the semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板の一部にＳＯＩ構造が形成され、ＳＯＩ構造中に、レーザトリミング用ヒューズ素子５１０と、レーザトリミング位置決め用パターン６１０と、完全空乏型の高速ＭＯＳトランジスタ２１０と、複数の抵抗体によって形成されたプリーダー抵抗４１０とが形成され、半導体基板中に、高耐圧型ＭＯＳトランジスタと、ＥＳＤ保護素子３１とが形成される。 - 特許庁
In a full dot matrix display type liquid crystal display element which is constituted by disposing a first transparent electrode substrate having a plurality of lines of row electrodes and a second transparent electrode substrate having a plurality of lines of column electrodes opposite to each other across a liquid crystal layer and by using each intersection of the row electrodes and the column electrodes as a display element, each display element D is made to be a hexagonal dot pattern.例文帳に追加
複数本の行電極を有する第１透明電極基板と、複数本の列電極を有する第２透明電極基板とを液晶層を挟んで対向的に配置し、行電極と列電極の交点部の各々を表示画素としてなるフルドットマトリクス表示型の液晶表示素子において、各表示画素Ｄを六角形のドットパターンとする。 - 特許庁
An index pattern paper 7 has a TV outer line index 71 representing an outer size of a flat-panel television T with a full scale; and screw position indexes 72, 73 representing positions at which support fittings 2 are secured with screws disposed at four right-left symmetrical positions in an inner peripheral area of the TV outer line index 71.例文帳に追加
指標型紙７に、薄型テレビＴの外観サイズを原寸指標するテレビ外形線指標７１と、その内周域に支持金具２をビス固定する位置を左右対称となる４カ所に配して指標せしめたビス位置指標７２、７３とを指標せしめて、壁面に仮止めし、各ビス位置指標７２、７３に紙面上から壁面にビス止め位置の目印痕を付けて支持金具２を順次にビス固定するよう指標する。 - 特許庁
There is provided a structure to form built-in battery type power converter which enables generation of a DC output by changing a pulse pattern of the second power converter 14 of the full-bridge structure to generate an AC voltage, and providing an output by switching the AC power and DC power depending on the requirement by connecting the switching means to the output of the second power converter 14.例文帳に追加
交流電圧を生成するフルブリッジ構成の第２の電力変換器１４のパルスパターンを変更することで直流出力を生成可能とし、さらに第２の電力変換器１４の出力に切換手段を接続し、必要に応じて交流電力と直流電力を切り換えて出力することができるバッテリ内蔵型電力変換装置を提供する構成としたものである。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
