「insulating substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The insulating layer 13 is made of resin, and laminated on the metallic substrate 12.例文帳に追加

絶縁層13は樹脂製で、金属製基板12上に積層されている。 - 特許庁

The insulating layer 40 is located on a substrate 10 with <110> crystal orientation.例文帳に追加

絶縁層４０は、結晶方位が＜110＞の基板１０上に位置している。 - 特許庁

On the insulating substrate 1b, data electrodes are arranged.例文帳に追加

絶縁基板１ｂ上には、データ電極６が配置されている。 - 特許庁

INSULATING SUBSTRATE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

絶縁基板、その製造方法、およびそれを用いた半導体装置 - 特許庁

A gate insulating film 205 and conductive layer are formed on a semiconductor substrate 200.例文帳に追加

半導体基板200上にゲート絶縁膜205と導電層を形成する。 - 特許庁

A gate insulating film 5 is formed on a semiconductor substrate 2.例文帳に追加

半導体基板２上にゲート絶縁膜５が形成されている。 - 特許庁

A semiconductor layer 3 and the gate insulating film 4 are formed on a substrate 1.例文帳に追加

基板１上に半導体層３およびゲート絶縁膜４を形成する。 - 特許庁

CMP POLISHING AGENT FOR SEMICONDUCTOR INSULATING FILM AND METHOD OF POLISHING SUBSTRATE例文帳に追加

半導体絶縁膜用ＣＭＰ研磨剤及び基板の研磨方法 - 特許庁

INSULATING SUBSTRATE, METHOD FOR THE SAME, SEMICONDUCTOR MODULE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

絶縁基板、その製造方法、半導体モジュールおよび半導体装置 - 特許庁

A recess is formed in an insulating film formed on a semiconductor substrate (a1).例文帳に追加

（ａ１）半導体基板の上に形成された絶縁膜に凹部を形成する。 - 特許庁

Wiring 17 is formed on an insulating film 15b on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上の絶縁膜１５ｂ上に配線１７を形成する。 - 特許庁

The hole 3 is formed on an insulating layer 2 on the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

半導体基板１上の絶縁層２に穴３を形成する。 - 特許庁

A gate-insulating film 3 is formed on a semiconductor substrate 1.例文帳に追加

半導体基板１の上にゲート絶縁膜３が形成されている。 - 特許庁

EPOXY RESIN COMPOSITION AND INSULATING SUBSTRATE USING THE COMPOSITION例文帳に追加

エポキシ樹脂組成物およびこのエポキシ樹脂組成物を用いた絶縁基板 - 特許庁

A thermally insulating layer (15) is formed between the substrate (11) and the pattern (12).例文帳に追加

上記基板（11）とパターン（12）との間に熱絶縁層（15）を設ける。 - 特許庁

To control the crack of an insulating substrate of a semiconductor device, and the embrittlement of solder.例文帳に追加

半導体装置の絶縁基板のクラックやはんだの脆化を抑制する。 - 特許庁

On the semiconductor substrate 2, a first insulating film 6 is formed.例文帳に追加

半導体基板２上には、第１絶縁膜６が形成されている。 - 特許庁

A conductive layer is formed on a semiconductor substrate through a 1st insulating film.例文帳に追加

半導体基板上に第１絶縁膜を介して導電層を形成する。 - 特許庁

The insulating film 2 is formed on a surface of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

半導体基板１の表面上に、絶縁膜２を形成する。 - 特許庁

A first insulating film is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の上に第１の絶縁膜が形成されている。 - 特許庁

A first insulating film 11 is disposed above the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

第１絶縁膜１１が半導体基板の上方に配設される。 - 特許庁

FORMING METHOD OF SHALLOW TRENCH INSULATING STRUCTURE TO SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板に浅いトレンチ絶縁構造を形成する方法 - 特許庁

INSULATING SUBSTRATE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

絶縁基板およびその製造方法、ならびに半導体装置の製造方法 - 特許庁

An insulating film provided with a recess is formed on a semiconductor substrate (a).例文帳に追加

（ａ）半導体基板上に、凹部が設けられた絶縁膜を形成する。 - 特許庁

INSULATING SUBSTRATE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND HIGH VOLTAGE APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

絶縁基板とそれを用いた半導体装置および高電圧機器 - 特許庁

METHOD FOR EVALUATING STATUS OF INTERFACE BETWEEN SILICON SUBSTRATE AND INSULATING FILM例文帳に追加

シリコン基板と絶縁膜の界面の状態を評価するための方法 - 特許庁

On the semiconductor substrate 2, a gate insulating film 14 is formed.例文帳に追加

半導体基板２上には、ゲート絶縁膜１４が形成されている。 - 特許庁

INSULATING FILM FORMING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

絶縁膜形成方法、半導体装置、および基板処理装置 - 特許庁

An interlayer insulating film 22 is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上に層間絶縁膜(22)が形成されている。 - 特許庁

Lastly, the support substrate 11 is peeled from the insulating layer 1.例文帳に追加

最後に、絶縁層１から支持基板１１が引き剥がされる。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING INSULATING FILM ON SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板の表面に絶縁膜を形成する方法と装置 - 特許庁

A porous insulating film 21 is arranged over a semiconductor substrate.例文帳に追加

多孔質絶縁膜２１は、半導体基板の上方に配設される。 - 特許庁

A first insulating layer 52 is formed on a semiconductor substrate 50.例文帳に追加

半導体基板５０上に第１絶縁層５２が形成される。 - 特許庁

The gate insulating film 12 is formed on a semiconductor substrate 11.例文帳に追加

半導体基板１１上にゲート絶縁膜１２を形成する。 - 特許庁

A gate insulating film is formed on the surface of a semiconductor substrate 100.例文帳に追加

半導体基板の表面上にゲート絶縁膜が形成されている。 - 特許庁

The gate insulating film 2 is formed on the surface of a semiconductor substrate 1.例文帳に追加

ゲート絶縁膜２は半導体基板１の表面上に設けられている。 - 特許庁

A base insulating layer 2 is formed on the metal substrate 1.例文帳に追加

金属基板１上には、ベース絶縁層２が形成されている。 - 特許庁

A polysilicon layer 22 is formed on one part of the insulating substrate 21.例文帳に追加

絶縁基板２１上には、一部にポリシリコン層２２が形成されている。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF INSULATING LAYER EMBEDDED SEMICONDUCTOR SILICON CARBIDE SUBSTRATE例文帳に追加

絶縁層埋め込み型半導体炭化シリコン基板の製造方法 - 特許庁

An insulating film is formed on the main face of a semiconductor substrate SB.例文帳に追加

半導体基板ＳＢの主面上に絶縁膜が形成される。 - 特許庁

To simply and certainly solder an electrode for battery to an insulating substrate.例文帳に追加

電池用電極を絶縁基板に簡単確実に半田付けすること。 - 特許庁

A gate insulating film is provided between the second gate electrode and the substrate.例文帳に追加

第２ゲート電極と基板との間にゲート絶縁膜が介在される。 - 特許庁

(c) A silicon film is formed on the surface of the insulating film and the substrate.例文帳に追加

（ｃ）絶縁性の膜、及び基板の表面にシリコン膜を形成する。 - 特許庁

An insulating substrate 13 is cut by using bytes 10 of diamond and the like.例文帳に追加

ダイヤモンドなどのバイト１０を用い、絶縁基体１３を切削する。 - 特許庁

The support substrate 11 has a higher elastic modulus than the insulating layer 1.例文帳に追加

支持基板１１は、絶縁層１の弾性率よりも高い弾性率を有する。 - 特許庁