「insulating substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

An interlayer insulating film 20 is formed on a semiconductor substrate 10.例文帳に追加

半導体基板１０上には、層間絶縁膜２０が形成されている。 - 特許庁

An electrode 5b, an insulating layer, and partitions 2 are formed on a substrate 1d.例文帳に追加

基板１ｄには電極５ｂや絶縁層や隔壁２を形成する。 - 特許庁

INSULATING SUBSTRATE WITH ANODIC OXIDATION COATING, AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加

陽極酸化皮膜を有する絶縁基板およびその製造方法 - 特許庁

On the main surface of a semiconductor substrate 11, insulating films 12 and 13 are formed.例文帳に追加

半導体基板１１の主面に絶縁膜１２,１３が形成される。 - 特許庁

Then a MONOS insulating film 13 is formed on the silicon substrate surface.例文帳に追加

続いて、シリコン基板面上にＭＯＮＯＳ絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR SILICON CARBIDE SUBSTRATE WITH EMBEDDED INSULATING LAYER, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

絶縁層埋め込み型半導体炭化珪素基板及びその製造方法 - 特許庁

INSULATING RADIATING SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND CIRCUIT MODULE USING THE SAME例文帳に追加

絶縁放熱基板とその製造方法及びこれを用いた回路モジュール - 特許庁

An inter-layer insulating film having a contact hole is formed on a substrate.例文帳に追加

基板上にコンタクトホールを有する層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁

A second insulating film 15 is formed on the rear surface of the semiconductor substrate 10.例文帳に追加

半導体基板１０の裏面上には第２の絶縁膜１５を形成する。 - 特許庁

The gate insulating film 2 is formed on the substrate 1 and has an upper surface.例文帳に追加

ゲート絶縁膜２は、基板１上に形成され、上部表面を有する。 - 特許庁

A gate electrode 13 is arranged on the substrate 11 through an insulating film 12.例文帳に追加

基板１１上に絶縁膜１２を介してゲート電極１３を配置する。 - 特許庁

The substrate 10 is made of silicon, ceramics, or insulating resin.例文帳に追加

基板１０はシリコン、セラミックス又は絶縁樹脂から形成される。 - 特許庁

A substrate 1 includes an insulating film 10 and a wiring film 12.例文帳に追加

基板１は、絶縁膜１０と配線膜１２を含んでいる。 - 特許庁

A gate electrode is formed on a substrate through the intermediary of a gate insulating film.例文帳に追加

基板上にゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成する。 - 特許庁

A first single-crystal semiconductor layer is disposed over an insulating substrate.例文帳に追加

絶縁基板に第１の単結晶半導体層を配置する。 - 特許庁

FIELD EFFECT TRANSISTOR ON INSULATING SUBSTRATE AND INTEGRATED CIRCUIT THEREFOR例文帳に追加

絶縁性基板上の電界効果トランジスタおよびその集積回路 - 特許庁

A gate insulating film 14 is formed on a semiconductor substrate 12.例文帳に追加

半導体基板１２上に、ゲート絶縁膜１４を成膜する。 - 特許庁

A substrate 1 includes an element forming film on an insulating film 2.例文帳に追加

基板１は、絶縁膜２上に素子形成膜を備えている。 - 特許庁

A gate line including a gate electrode is formed on the upper part of an insulating substrate.例文帳に追加

絶縁基板の上部にゲート電極を含むゲート線を形成する。 - 特許庁

An interlayer insulating film is formed on a surface of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の表面上に層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING INSULATING FILM, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SUBSTRATE TREATMENT EQUIPMENT例文帳に追加

絶縁膜の形成方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置 - 特許庁

An insulating film is formed over the sacrifice layer and on the exposed parts of the substrate.例文帳に追加

前記犠牲層及び基板の露出部分上に絶縁膜を形成する。 - 特許庁

To improve sealability for a through electrode 6 formed in an insulating substrate 2.例文帳に追加

絶縁基板２に形成した貫通電極６の密閉性を向上させる。 - 特許庁

A gate insulating film 5 is provided on the surface of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

半導体基板１表面にはゲート絶縁膜５が設けられる。 - 特許庁

An insulating layer 2 is formed on the surface of a substrate 1 where a step part is formed.例文帳に追加

段差部が形成された基板１の表面に絶縁層２を形成する。 - 特許庁

Insulating layers 6, 8 are formed on the front surface and the rear surface of the core substrate 4.例文帳に追加

コア基板４の表面と裏面に絶縁層６，８を形成する。 - 特許庁

First, a gate insulating film is formed on a substrate (step 10).例文帳に追加

まず基板にゲート絶縁膜を形成する（ステップＳ１０）。 - 特許庁

Each insulating substrate 41 has metal conductor layers 41F and 41R.例文帳に追加

絶縁基板４１は、金属導体層４１Ｆ，４１Ｒをそれぞれ有している。 - 特許庁

To improve insulating performance while maintaining mechanical strength of an upper plate substrate.例文帳に追加

上板基板の機械的強度を維持しつつ断熱性能を向上する。 - 特許庁

The substrate is made from thermally conductive but electrically insulating material.例文帳に追加

基板は熱伝導性ではあるが電気的には絶縁性の材料から作られる。 - 特許庁

The first interlayer dielectric 113 is positioned above the insulating substrate 101.例文帳に追加

第１層間絶縁膜１１３は、絶縁基板１０１の上方に位置している。 - 特許庁

MANUFACTURE OF SHALLOW TRENCH INSULATING STRUCTURE AND SUBSTRATE PLANARIZATION METHOD例文帳に追加

浅簿トレンチ絶縁構造の製造方法及び基板プレ—ナ化方法 - 特許庁

An insulating region 18 is provided on the semiconductor substrate 10.例文帳に追加

半導体基板１０には、絶縁領域１８が設けられている。 - 特許庁

LAMINATE, METHOD FOR FORMING THE SAME, INSULATING LAYER, AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

積層体、積層体の形成方法、絶縁層ならびに半導体基板 - 特許庁

To separately form insulating films having different film thicknesses on a substrate while keeping high accuracy.例文帳に追加

膜厚の異なる絶縁膜を基板上に精度良く作り分ける。 - 特許庁

An insulating substrate 12 is in the form of a rectangular plate made of alumina or the like.例文帳に追加

絶縁基板１２は、アルミナ等からなる長方形状の板である。 - 特許庁

To improve the adhesion properties between the substrate of a circuit device and the insulating film between elements.例文帳に追加

回路装置の基板と素子間絶縁膜との密着性を向上させる。 - 特許庁

A substrate 2 comprising projections 1 on its surface is formed from an insulating material.例文帳に追加

表面に突起１を有する基板２を絶縁材料で形成する。 - 特許庁

LAMINATED FILM, FORMING METHOD FOR LAMINATED FILM, INSULATING FILM, AND SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR例文帳に追加

積層膜、積層膜の形成方法、絶縁膜ならびに半導体用基板 - 特許庁

INSULATING MATERIAL FOR MULTI-LAYER SUBSTRATE WITH EXCELLENT BOND PROPERTIES TO COPPER CIRCUIT例文帳に追加

銅回路との接着性良好な多層基板用絶縁材料 - 特許庁

The substrate 3 is an insulating member where the hollow core coil 2 is arranged.例文帳に追加

基板３は、空芯コイル２が配設された絶縁性の部材である。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING INSULATING FILM IN THREE-DIMENSIONAL CIRCUIT SUBSTRATE例文帳に追加

立体回路基板の絶縁膜形成方法および絶縁膜形成装置 - 特許庁

An insulating film 12 is formed on a surface of a SOI substrate 7.例文帳に追加

ＳＯＩ基板７の表面に絶縁膜１２を形成する。 - 特許庁

Metallization layers 27 and 28 are formed on the outer surfaces of the lower insulating substrate 21 and the upper insulating substrate 22, respectively, and the through holes 29 are provided in the metallization layers 27 and 28 corresponding to the lower insulating substrate 21 and the upper insulating substrate 22, respectively.例文帳に追加

また、下側絶縁基板２１と上側絶縁基板２２のそれぞれの外側の面にメタライズ層２７，２８を形成するとともに、下側絶縁基板２１と上側絶縁基板２２とそれに対応するメタライズ層２７，２８とに貫通孔２９を設けた。 - 特許庁

INSULATING SUBSTRATE FOR THIN FILM SOLAR BATTERY SUPERIOR IN DIELECTRIC STRENGTH例文帳に追加

絶縁耐圧性に優れた薄膜太陽電池用絶縁基板 - 特許庁