「microlithographic」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システム - 特許庁

OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム - 特許庁

To provide a new microlithographic projection exposure apparatus.例文帳に追加

新規なマイクロリソグラフィ投影露光装置を提供する。 - 特許庁

ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系 - 特許庁

OPTICAL INTEGRATOR FOR ILLUMINATION SYSTEM OF MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

マイクロリソグラフ投影露光装置の照明系用光インテグレータ - 特許庁

EIGHT-MIRRORED MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION OPTICAL SYSTEM例文帳に追加

８枚の反射鏡を用いたマイクロリソグラフィ用の投影光学系 - 特許庁

OPTICAL INTEGRATOR FOR ILLUMINATION SYSTEM OF MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム用の光結合器 - 特許庁

MULTIPLE EXPOSURE METHOD, MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION ALIGNER, AND PROJECTION SYSTEM例文帳に追加

多重露光方法、マイクロリソグラフィー投影露光装置および投影系 - 特許庁

To provide an illumination system for microlithographic projection exposure apparatus.例文帳に追加

マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システムを提供する。 - 特許庁

MICROLITHOGRAPHIC ILLUMINATION METHOD AND PROJECTION LENS FOR CARRYING OUT THE SAME例文帳に追加

マイクロリソグラフィ照明方法およびその方法を実行するための投影レンズ - 特許庁

DEVICE FOR MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE AND DEVICE FOR INSPECTION OF SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加

マイクロリソグラフィ投影露光用の装置および基板の表面を検査するための装置 - 特許庁

OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR ILLUMINATION DEVICE OR PROJECTION OBJECTIVE OF MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

光学系、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明装置又は投影対物レンズ - 特許庁

An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) includes a number of beam deflection elements.例文帳に追加

マイクロリソグラフィ投影露光装置（１０）の照明システムは、多数のビーム偏向要素を含む。 - 特許庁

The microlithographic projection exposure apparatus includes: a projection lens (20) configured for immersion operation.例文帳に追加

マイクロリソグラフィ投影露光装置は、液浸動作のために構成されている投影レンズ（２０）を含む。 - 特許庁

An illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus comprises a light source (30) and an optical integrator (56).例文帳に追加

マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システムは、光源（３０）及び光結合器（５６）を含む。 - 特許庁

To damp oscillation of the projection objective system in a projection illumination arrangement (in particular, a microlithographic projector).例文帳に追加

投写照明装置（特には、マイクロリソグラフィック投写装置）における投射対物系の振動を低減する。 - 特許庁

To provide an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus which images a mask on a light sensitive surface, especially an illumination system accommodating a mirror array or other beam deflection elements, and a method of operating the microlithographic projection exposure apparatus.例文帳に追加

マスクを感光表面上に結像するマイクロリソグラフィ露光装置の照明システム、特に、ミラーのアレイ又は他のビーム偏向要素を収容する照明システム、及びマイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させる方法を提供する。 - 特許庁

A microlithographic projection exposure apparatus has a birefringent retardation device having at least one retardation element 400.例文帳に追加

少なくとも１つのリターデイション素子400を有する複屈折リターデイション装置を持っているマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 特許庁

To provide an optical integrator for an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus which can be manufactured by smaller effort.例文帳に追加

より少ない努力で作製することが可能なマイクロリソグラフ投影露光装置の照明系用光インテグレータを提供する。 - 特許庁

To provide an optical raster element, an optical integrator including the optical raster element, and an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus.例文帳に追加

光学ラスタ要素と、光学ラスタ要素を含む光学インテグレータと、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系とを提供する。 - 特許庁

An illumination system of a microlithographic exposure apparatus comprises a condenser 601 for transforming a pupil plane 54 into a field plane 62.例文帳に追加

マイクロリソグラフィ露光装置の照明システムは瞳平面５４を視野平面６２に変換するための集光装置６０１を有する。 - 特許庁

A light integrator used for the illumination device of a microlithographic illumination exposure system is equipped with a rod (27), which is formed of ultraviolet-ray transmitting material and rectangular is cross section.例文帳に追加

マイクロリトグラフ照射露光システムの照明装置用の光学積分器は、紫外線を透過する材料製である矩形断面のロッド（２７）を有する。 - 特許庁

The optical raster element for the illumination system of the microlithographic projection exposure apparatus includes an array of refractive optical elements extending on a planar or curved surface.例文帳に追加

マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系のための光学ラスタ要素は、平面又は曲面上に延びる屈折光学要素のアレイを含む。 - 特許庁

An illumination optical system for a microlithographic projection device (1) is used for illuminating an object surface (19) with illumination light (3, 3') from a light source (2, 2').例文帳に追加

マイクロリソグラフィ投影露光装置（１）用の照明光学系は、光源（２、２’）からの照明光（３、３’）で物体表面（１９）を照明するのに用いられる。 - 特許庁

To provide an illumination system for a microlithographic projection aligner having a honeycomb condenser capable of perfectly and symmetrically irradiating a diaphragm plane with high efficiency.例文帳に追加

絞り平面を高い効率で完全かつ対称に照射できる、ハニカム・コンデンサを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置用照明システムを提供する。 - 特許庁

To provide an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus, and an optical system, in particular suitable for use in an illumination system or a projection objective system of a microlithographic projection exposure apparatus and having a polarization-influencing optical arrangement which permits flexible adjustment of different polarization distributions including a mixed tangential-radial polarization distribution.例文帳に追加

特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系と、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系又は投影対物系における使用に適し、かつタンジェンシャル−ラジアル混合偏光分布を含む異なる偏光分布の柔軟な調節を可能にする偏光影響光学装置を有する光学系とを提供する。 - 特許庁

To provide a multiple exposure method achieving a large throughput of wafer processing, and a microlithographic projection aligner which improves the productivity, at least with unchanging quality and low cost.例文帳に追加

高いウェーハ処理量を可能にする多重露光方法と、生産性の向上を少なくとも変わらぬ品質および低費用化を可能にするマイクロリソグラフィー投影露光装置を提供する。 - 特許庁

This split type objective lens (1) having an optical axis(OA) for irradiating image field in the illuminator of a microlithographic projection exposure device is arranged between an aperture surface (APE) and the image plane (IM).例文帳に追加

マイクロリソグラフィ投影露光装置の照射装置において像視野を照射するための光軸（ＯＡ）を有する分割形対物レンズ（１）が絞り面（ＡＰＥ）と像平面（ＩＭ）との間に配置される。 - 特許庁

To provide a device and a method to execute microlithographic write on a photosensitive substrate, namely to highly precisely print a pattern such as a photomask specially for the pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

本発明は、感光性基板にマイクロリソグラフィック書き込みする、特に例えば半導体素子のパターンのためのフォトマスクのようなパターンを極めて高精度でプリントする装置と方法とを提供する。 - 特許庁

To compensate the positional and angular fluctuations in light generated by a laser for specially microlithographic illuminating device, causing adverse effects on the uniformity of light distribution and the characteristic of centroidal beam angle as much as possible.例文帳に追加

特にマイクロリソグラフィック照明装置用のレーザにより発生される光の、光分布の一様さ及びセントロイドビーム角の特性に悪影響を引き起こすような位置的及び角度的変動を可能な限り補償する。 - 特許庁

To provide a polarization-influencing optical arrangement and optical system of microlithographic projection exposure apparatus, in particular an illumination system or a projection objective, and to provide a polarization-influencing optical arrangement which permits enhanced flexibility in the provision of a desired polarization distribution.例文帳に追加

偏光影響光学装置、及びマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系、特に、照明系又は投影対物系、特に、望ましい偏光分布を具備する上で高い柔軟性を可能にする偏光影響光学装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical system, in particular an objective or an illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus, which permits the use of crystal materials with a high refractive index while reducing the influence of intrinsic birefringence on the imaging properties.例文帳に追加

マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムに関するもので、高い屈折率の結晶材料をしても、映像特性における固有複屈折の影響を低減できるものを提供する。 - 特許庁

To improve optical systems, in particular an illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus in which an undesirable change of the state of polarization occurring as a consequence of an interference layer in the optical systems such as antireflection layer can be reduced or avoided.例文帳に追加

反射防止層のような、光学系内の干渉層の結果として生起する偏光状態の不所望な変化を低減又は回避するように、光学系、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明装置又は投影対物レンズを改善すること。 - 特許庁

A system for at least the large range of the compensation of the directional and positional fluctuations of a light beam 2 generated by the laser 1, especially for the microlithographic illuminating device, is provided with a beam splitter 4 arranged at the inside of the laser beam 2 and at least two beam-deflecting devices 6 and 7.例文帳に追加

特にマイクロリソグラフィック照明装置用の、レーザ（１）により発生された光ビーム（２）の方向的及び位置的変動の少なくとも広範囲な補償のためのシステムに、レーザビーム（２）内に配置されたビームスプリッタ（４）と、少なくとも２つのビーム偏向装置（６、７）とが設けられる。 - 特許庁

To provide a material which is useful for an illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus or for a projection object lens and has a refractive index at 248 nm larger than 1.508 of quartz glass and a refractive index at 193 nm larger than 1.560 of quartz glass and which can be small-sized.例文帳に追加

マイクロリソグラフィー投影露光装置の照明系や投影対物レンズとして使用され、２４８ｎｍでの屈折率が石英ガラスの１．５０８より大きく、１９３ｎｍでの屈折率が石英ガラスの１．５６０より大きい、小型化が可能となる材料を提供する。 - 特許庁

An optical integrator for an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises: an optical axis; and an array of first microlenses (70X) which are arranged in a first plane, have first refractive power in an X-direction perpendicular to the optical axis (OA), and have widths smaller than 2 mm in the X-direction.例文帳に追加

光学軸と、第１の平面内に配置され、光学軸（ＯＡ）に対して垂直なＸ方向に第１の屈折力を有し、Ｘ方向における幅が２ｍｍ未満である第１のマイクロレンズ（７０Ｘ）のアレイを備えるマイクロリソグラフ投影露光装置（１０）の照明系のための光インテグレータ。 - 特許庁