| 例文 (7件) |
only incrementalの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7件
It receives only well-tested bug fixes and other small incremental enhancements. FreeBSD-CURRENT , on the other hand, has been one unbroken line since 2.0 was released, leading towards 7.0-RELEASE and beyond. 例文帳に追加
もう一方のブランチは -CURRENT で、2.0がリリースされて以来 5.0-RELEASE (そしてその後も) へ向けて脈々と続いているものです。 - FreeBSD
An incremental search requires only as many characters as needed to find the desired history entry. 例文帳に追加
インクリメンタル検索で必要なのは、探している履歴エントリを見つけるために必要な数の文字だけです。 - JM
To provide a multileaf collimator for a particle beam treatment system which can detect the operation abnormality of leaves only by an inexpensive incremental encoder.例文帳に追加
安価なインクリメンタルエンコーダだけでリーフの動作異常を検出できる粒子線治療用マルチリーフコリメータの提供を目的とする。 - 特許庁
To provide a prestressed concrete box girder incremental launching erection method of excellent workability and economical efficiency by reducing prestressed concrete steel members discarded after only a short-term use, and reducing the weight of a prestressed concrete box girder in incremental launching erection without leaving unnecessary cables in the cross section of the prestressed concrete box girder when completed.例文帳に追加
不要なケーブルを完成時のＰＣ箱桁断面内に残置せず、且つ、短期間の使用のみで廃棄処分となるＰＣ鋼材を減らし、なお且つ、押出し架設時のＰＣ箱桁の重量を軽減することで、施工性及び経済性に優れたＰＣ箱桁押出し架設工法を提案する。 - 特許庁
In incrementally forming a secondary form portion having three-dimensional shape to a part of a primary form portion having two-dimensional curved plane, a work 240 having the shape corresponding to the shape of the primary form portion is prepared, and only the secondary form portion is created by incremental forming.例文帳に追加
２次元曲面を有する第１の成形部の一部に３次元形状の第２の成形部を逐次成形加工する際に、第１の成形部に対応する形状を有するワーク２４０を用意し、第２の成形部のみを逐次成形加工する。 - 特許庁
A scale 12 is equipped with not only an incremental pattern 31 formed at array pitches Pi having equal intervals of light and shade, and an absolute pattern 32 expressing an absolute position by a pseudo random pattern, but also a position reference pattern 33 having a prescribed phase relation to the absolute pattern 32 and formed at array pitches Pr (>Pi) having equal intervals of light and shade.例文帳に追加
スケール１２は、明暗の等間隔の配列ピッチＰｉで形成されたインクリメンタルパターン３１と、擬似ランダムパターンにより絶対位置を表現したアブソリュートパターン３２とに加え、アブソリュートパターン３２に対し所定の位相関係を有し且つ明暗の等間隔の配列ピッチＰｒ（＞Ｐｉ）で形成された位置基準パターン３３とを備える。 - 特許庁
| 例文 (7件) |
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