「pattern Inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern inspection apparatus for improving the inspection accuracy for inspecting a pattern, a pattern inspection method and a manufacturing method of a microstructure.例文帳に追加

本発明は、パターン検査の検査精度を向上させることができるパターン検査装置、パターン検査方法、および微細構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM PATTERN INSPECTION APPARATUS, AND METHOD OF SETTING INSPECTION CONDITION THEREFOR, AND PROGRAM例文帳に追加

電子線式パターン検査装置、その検査条件設定方法、及びプログラム - 特許庁

INSPECTION SUBSTRATE AND INSPECTION METHOD OF DEFECTS OF TRANSFER PATTERN例文帳に追加

転写パターンの欠陥検査用基板及び転写パターンの欠陥検査方法 - 特許庁

ILLUMINATION DEVICE, ILLUMINATION METHOD AND PATTERN INSPECTION METHOD例文帳に追加

照明装置、照明方法及びパターン検査装置 - 特許庁

PATTERN INSPECTION METHOD AND APPARATUS FOR MULTI-LAYER CIRCUIT BOARD例文帳に追加

多層回路基板のパターン検査方法及び装置 - 特許庁

SECTIONAL SHAPE INSPECTION PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

断面形状検査用パターン及び半導体装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MASK PATTERN INSPECTION例文帳に追加

マスクパターンの検査方法およびマスクパターン検査装置 - 特許庁

To perform pattern inspection of a glass substrate after removing a dead zone of the pattern inspection on both ends of the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板の両端部のパターン検査の不感帯を無くしてガラス基板のパターン検査を行うこと。 - 特許庁

REFERENCE DATA GENERATION METHOD, PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE, PATTERN DEFECT INSPECTION METHOD, AND REFERENCE DATA GENERATION PROGRAM例文帳に追加

参照データ生成方法、パターン欠陥検査装置、パターン欠陥検査方法、及び参照データ生成プログラム - 特許庁

To provide image correction and pattern inspection similarly effective even for an extremely sparse pattern image to a dense pattern image in a pattern inspection device such as a reticle inspection device.例文帳に追加

レチクル検査装置などのパターン検査装置において、パターン画像が非常に疎な場合であっても、密なパターン画像の場合と同様に効果的な画像補正とパターン検査を提供すること。 - 特許庁

INSPECTION DEVICE, INSPECTION METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE USING THEM例文帳に追加

検査装置及び検査方法並びにそれを用いたパターン基板の製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM TYPE PATTERN INSPECTION DEVICE, AND METHOD FOR SETTING INSPECTION CONDITION OF TEST PIECE例文帳に追加

電子線式パターン検査装置、及び、試料の検査条件の設定方法 - 特許庁

INSPECTION METHOD OF PATTERN FORMED ON SUBSTRATE, AND INSPECTION APPARATUS FOR IMPLEMENTING SAME例文帳に追加

基板に形成されたパターンの検査方法、及びこれを行うための検査装置 - 特許庁

INSPECTION DEVICE, INSPECTION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

検査装置及び検査方法並びにそれを用いたパターン基板の製造方法 - 特許庁

INSPECTION METHOD FOR MASK PATTERN, INSPECTING APPARATUS, AND INSPECTION DATA AND METHOD FOR PRODUCING INSPECTION DATA TO BE USED THEREFOR例文帳に追加

マスクパターンの検査方法、検査装置、これに用いられる検査用データおよび検査用データ生成方法 - 特許庁

TEMPLATE HISTOGRAM FORMING METHOD AND PATTERN INSPECTION DEVICE例文帳に追加

テンプレートヒストグラム生成方法およびパターン検査装置 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR PATTERN DEFECT INSPECTION例文帳に追加

パターン欠陥検査装置及びパターン欠陥検査方法 - 特許庁

INSPECTION METHOD AND APPARATUS FOR PATTERN DEFECTS例文帳に追加

パターン欠陥検査方法及びパターン欠陥検査装置 - 特許庁

APERTURE PATTERN EVALUATING METHOD AND SEMICONDUCTOR INSPECTION DEVICE例文帳に追加

開口パターン評価方法及び半導体検査装置 - 特許庁

PATTERN DEFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE例文帳に追加

パターン欠陥検査方法及びパターン欠陥検査装置 - 特許庁

PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE AND METHOD例文帳に追加

パターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法 - 特許庁

PATTERN INSPECTION METHOD AND DEVICE, AND MASK- MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

パターン検査方法と装置およびマスク製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS OF ELECTRICAL INSPECTION FOR PATTERN WIRING BOARD例文帳に追加

パターン配線基板用電気検査方法及び装置 - 特許庁

PATTERN INSPECTION DEVICE, IMAGE ALIGNMENT METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加

パターン検査装置、画像位置合わせ方法及びプログラム - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS PATTERN INSPECTION METHOD例文帳に追加

半導体装置と半導体装置のパターン検査方法 - 特許庁

To obtain pattern inspection equipment in which pattern inspection can be carried out in all manufacturing processes for a semiconductor device without rewriting an inspection program.例文帳に追加

パターン検査を半導体装置のあらゆる製造工程においても、検査プログラムを書き換えることなく実行できるようにする。 - 特許庁

PATTERN INSPECTION METHOD AND DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD FOR MASK例文帳に追加

パターン検査方法及びその装置、マスクの製造方法 - 特許庁

PATTERN INSPECTION DEVICE AND METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置用パターン検査装置および検査方法 - 特許庁

LIQUID EJECTION DEVICE AND METHOD FOR FORMING NOZZLE INSPECTION PATTERN例文帳に追加

液体噴射装置、及び、ノズル検査パターン形成方法 - 特許庁

TOOL FOR CORRECTING SENSOR PART POSITION OF CIRCUIT PATTERN INSPECTION DEVICE例文帳に追加

回路パターン検査装置のセンサ部位置校正用治具 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR PATTERN SHAPE INSPECTION例文帳に追加

パターン形状検査装置及びパターン形状検査方法 - 特許庁

PATTERN INSPECTION METHOD USING ELECTRON BEAM AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

電子線を用いたパターン検査方法及びその装置 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTION OF DEFECT OF PATTERN例文帳に追加

パターン欠陥検査装置及びパターン欠陥検査方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR PATTERN INSPECTION, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体 - 特許庁

LIQUID JET DEVICE AND NOZZLE INSPECTION PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液体噴射装置、及び、ノズル検査パターン形成方法 - 特許庁

PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE AND IMAGE SENSOR CALIBRATION METHOD例文帳に追加

パターン欠陥検査装置及びイメージセンサの校正方法 - 特許庁

LIQUID JETTING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING NOZZLE INSPECTION PATTERN例文帳に追加

液体噴射装置、及び、ノズル検査パターン形成方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTION OF WIRING PATTERN例文帳に追加

配線パターン検査方法および配線パターン検査装置 - 特許庁

Then an inspection pattern is formed on the basis of the basic pattern, the variation condition and the inspection condition.例文帳に追加

また、ＴＥＧパターンの基本形状、バリエーション条件、及び検査条件に基づいて、検査用パターンを作成する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR PATTERN INSPECTION USING ELECTRON BEAM例文帳に追加

電子線を用いたパターン検査方法及びその装置 - 特許庁

INSPECTION DEVICE FOR CONTROL UNIT, PATTERN SIGNAL GENERATION DEVICE AND INSPECTION PROGRAM GENERATION DEVICE例文帳に追加

制御装置の検査装置、パターン信号作成装置及び検査プログラム生成装置 - 特許庁

To provide a pattern inspection method not requiring the setting alteration of the inspection condition corresponding to an inspection target, simple in structure, low in cost and enabling high speed processing, and a pattern inspection device.例文帳に追加

検査対象に応じた検査条件設定変更の必要がなく、簡単な構造かつ低コストで、高速処理が可能なパターン検査方法および装置を提供する。 - 特許庁

SUBSTRATE INSPECTION DEVICE FOR CIRCUIT PATTERN USING CHARGED PARTICLE BEAM AND SUBSTRATE INSPECTION METHOD例文帳に追加

荷電粒子線を用いた回路パターン用基板検査装置および基板検査方法 - 特許庁

This configuration inspection is a process to estimate the outline of an inspection object pattern and compute the degree of closeness of the inspection object pattern to a right configuration.例文帳に追加

形状検査は、被検査パターンの輪郭を推定し、被検査パターンが正しい形状にどの程度近いかを算出する処理である。 - 特許庁

In the inspection stage, the inspection region 35 of the pattern 30 for inspection is measured to inspect line widths and misalignment of the main pattern.例文帳に追加

検査工程では、検査用パターン３０の検査領域３５を計測することにより、主パターンにおける線幅とアライメントずれとを検査する。 - 特許庁