「pattern Inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

The contact pin 10 of the IC socket comprises: a contact protruded part 11 having the contact part 11a brought into contact with the lead terminal of the IC chip; a connection part 13 inserted into an inspection circuit board and connected to a circuit pattern; and a substantially lateral U-shaped curved part 12 between the contact protruded part and the connection part.例文帳に追加

ＩＣソケットのコンタクトピン１０を、ＩＣチップのリード端子と接触する接触部１１ａを有する接触凸部１１と、検査用回路基板に差し込まれ回路パターンと接続される接続部１３と、接触凸部と接続部の間で略横Ｕ字形をした湾曲部１２によって構成する。 - 特許庁

Since the disk is irradiated by an inspection beam 44, and a reflection beam reflected from the patterns is received, and respective component disks 2, 3 are confirmed by a pattern recognition means, whether or not respective component disks of the sticking disk are correct is confirmed easily, and fully automatizing this confirmation process is also easy.例文帳に追加

ディスクに検査光を照射し、該パターンから反射される反射光を受光し、パターン認識手段で各構成ディスクを確認することができるから、貼合わせディスクの各構成ディスクが正しいものであるかどうかを容易かつ迅速に確認することができ、また、この確認を全自動化することも容易である。 - 特許庁

After acquiring images for the whole surface of the photomask in the orthogonal state, the photomask is rotated by 90° (step S2), and a direction to reciprocate the irradiation spot of the laser within the micro range is set parallel to the main direction of the pattern to acquire an image (step S3, inspection in a 90° direction).例文帳に追加

この直交させた状態でフォトマスクの全面に対して画像を取得した後、フォトマスクを９０°回転させて（ステップＳ２）、微小範囲でレーザーの照射スポットを往復させる方向がパターンの主たる方向に対して平行になるようにして画像を取得する（ステップＳ３、９０°の向きでの検査）。 - 特許庁

To provide a photomask detecting device and a photomask detecting method, capable of satisfactorily conducting a performance evaluation and a defect inspection of a large-sized photomask, and to provide a method of manufacturing a photomask for a liquid crystal device using the photomask detecting device and the photomask detecting method, and a pattern transferring method.例文帳に追加

大型のフォトマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができるフォトマスクの検査装置及びフォトマスクの検査方法を提供し、これらフォトマスクの検査装置及びフォトマスクの検査方法を用いた液晶装置製造用フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

To provide a print pattern for inspecting an optical sensor judging ink ejection in which ink ejection can be judged accurately and surely at all times at the time of screening inspection of the optical sensor being used as an ink ejection judging device, and to provide a system and a method for inspecting an optical sensor judging ink ejection.例文帳に追加

インク吐出判定装置として使用される光学式センサの選別検査において常に正確かつ確実な判定を行うことを可能とするインク吐出判定用光学式センサ検査用印刷パターン、インク吐出判定用光学式センサ検査システム及びインク吐出判定用光学式センサ検査方法を提供する。 - 特許庁

In the substrate inspection method, phase data classified by a plurality of projection parts in relation to the substrate is acquired by successively irradiating the substrate having the measuring object formed through the plurality of projection parts with pattern illumination, and height data classified by the projection parts in relation to the substrate is extracted by using the acquired phase data classified by the projection parts.例文帳に追加

本発明の基板検査方法によると、複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板にパターン照明を順に照射して基板に対する投影部別位相データを取得し、取得された投影部別位相データを用いて基板に対する投影部別高さデータを抽出する。 - 特許庁

Finally, by resequencing labels [1] to [8] in descending order of the x-coordinate of the central coordinate of the pattern for the labels [1] to [8] belonging to two adjacent lines of L1 and L2, the pitches of the x-directions of the obliquely neighboring patterns is inspected, so as to implement the pitch inspection in serial order of the label number resequenced.例文帳に追加

そして、隣り合う２つの行Ｌ１とＬ２に属するラベル［１］〜［８］に対してそのパターン中心座標のｘ座標値の大きさの順にラベル［１］〜［８］を並べ替え、その並べ替えたラベルの番号の順にピッチ検査を行うようにして、斜めに隣り合うパターンのｘ方向のピッチを検査するようにした。 - 特許庁

A TFT array inspecting device 1 is equipped with a TFT drive digital circuit portion 3, which outputs digital serial data of a TFT drive pattern outside the prover 2 and a plurality of TFT drive analog circuit portions 4 which output analog inspection signals of the TFT drive patterns inside the prober 2, and both the circuits are connected by serial communication 20.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ検査装置１は、ＴＦＴ駆動パターンのデジタルシリアルデータを出力するＴＦＴ駆動デジタル回路部３をプローバ２の外部に備え、ＴＦＴ駆動パターンのアナログ検査信号を出力する複数のＴＦＴ駆動アナログ回路部４をプローバ２の内部に備え、両回路間をシリアル通信２０で接続する。 - 特許庁

In the printed board 3 within the oscillator 3, a pattern is made in advance so as to generate stray capacity C_01 between a substrate electrode and GND, and at frequency adjustment or inspection of the oscillator unit, parts for the adjustment of frequency are determined to allow the user to perform frequency adjustment, after tempering it with the above stray capacity C_01.例文帳に追加

発振器内のプリント板３において予め基板電極とＧＮＤ間に浮遊容量Ｃ_０１を生ずるようにパターン形成しておき、発振器単体の周波数調整検査時には、前記浮遊容量Ｃ_０１を加味した上で、周波数調整用部品５を定めて周波数調整がなされるようにする。 - 特許庁

To provide a reticle with which an exposure region of the light emitting from an illumination optical system of an exposure apparatus can be aligned to a specified position of an inspection pattern so as to inspect the performance of the exposure apparatus with high reproducibility, to provide a method for inspecting an exposure apparatus by using the reticle, and to provide a method for manufacturing a reticle.例文帳に追加

露光装置の性能検査を再現性よく行うために、露光装置の照明光学系から照射される光の露光領域を検査用パターンの特定の位置に合わせることが可能なレチクル、そのレチクルを用いた露光装置の検査方法及びレチクル製造方法を提供する。 - 特許庁

When detection signals outputted from each photodetector of the line sensor of an image reading unit 28 are corrected as the inspection chart has been completely read, the correction data corresponding to the combination of the photodetector and the color of a read pattern are read out from the filter correction table 32, and a correction process is carried out by use of the correction data.例文帳に追加

検査チャートを読み取った時に画像読取部２８のラインセンサの各光検出器が出力する検出信号を補正する際、当該光検出器とそのとき読み取っているパターンの色との組合せに対応する補正データをフィルタ補正テーブル３２から読み出し、これを用いて補正を行う。 - 特許庁

To obtain three images which are to be compared in double detection through main scanning toward the same direction, and to perform main scanning in both the normal and reverse directions, in defect inspection for scanning a sample surface on which a repeated pattern where a plurality of basic patterns are repeated is formed, and comparing each image on corresponding parts of the plurality of respective basic patterns.例文帳に追加

複数の基本パターンが反復する反復パターンが形成された試料表面を走査し、複数の基本パターン相互の対応部分の画像同士を比較する欠陥検査において、ダブルデテクションで比較される３画像を同一方向に向かう主走査で取得しかつ正逆両方向において主走査を行う。 - 特許庁

To provide a method of inspecting a color filter defect in a color filter substrate which allows extraction of contaminations and defects (singularities) such as white pins on the color filter substrate with high accuracy by simultaneously imaging a color filter pattern by a line sensor and setting an inspection area used as a reference, and comparatively inspecting adjacent repetitive patterns.例文帳に追加

ラインセンサでカラーフィルタパターンを撮像すると同時に基準となる検査エリアを設定し、隣り合う繰り返しパターンを比較検査して、カラーフィルタ基板の異物、白ピン等の欠陥（特異点）を精度良く抽出するためのカラーフィルタ基板のカラーフィルタ欠陥検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Or the detection of the untrue defects can be suppressed and the pattern can be rapidly inspected by setting the selected area to reference data by using a conversion part, reading a predetermined threshold corresponding to inspection accuracy of each area and determining and detecting the defects.例文帳に追加

また、本発明によれば、変換部で基準データに選択エリアを設定し、欠陥判定部でアルゴリズムを用いて、各エリアの検査精度に応じた所定のしきい値を読み出し、欠陥の判定、検出を行うことにより、擬似欠陥の検出を抑制しつつ、かつ迅速なパターン検査をすることが可能である。 - 特許庁

The image processing part 12 determines the dirt on the printed matter when the number of colored pixels of the inspection image is over the maximum value, and determines the deficiency of the pattern 2 when the number is below the minimum value, based on the maximum value and the minimum value of the number of colored pixels of each row of pixels in the standard image information.例文帳に追加

画像処理部１２は、基準画像情報における画素の列毎の着色画素数の最大値と最小値に基づいて、被検査画像の着色画素数がこの最大値を上回った場合に、印刷物の汚れを判定し、最小値を下回った場合に、絵柄２の欠損と判定する。 - 特許庁

An area D2 for manufacturing the photo mask having the shading pattern formed of the organic film and areas D3-D9 for manufacturing the semiconductor integrated circuit device are arranged in the same clean room D1, and the manufacturing devices and inspection devices are shared when the photo mask and the semiconductor integrated circuit device are manufactured.例文帳に追加

同一のクリーンルームＤ１内に、有機膜からなる遮光パターンを有するフォトマスクを製造するエリアＤ２と、半導体集積回路装置を製造するエリアＤ３〜Ｄ９とを設け、そのフォトマスクの製造と、半導体集積回路装置の製造に際して、製造装置および検査装置を共用するようにした。 - 特許庁

In this moving amount arithmetic unit, matching inspection areas of a prescribed shape is cut out from frames imaged by the camera to be pattern-matched between the frames, the position of a subjected point, corresponding to the same feature point, is calculated at each of the frames, a displacement amount between the calculated positions of the subjected points is found to serve as the moving amount between the frames.例文帳に追加

カメラで撮像したフレームから所定形状のマッチング検査領域を切り出してフレーム間でパターンマッチングを行い、同一の特徴点に対応する被写点の位置をフレーム毎に算出し、算出した両被写点位置間の変位量を求めて両フレーム間での移動量とする移動量演算装置。 - 特許庁

As a result, even when the main controller 261 does not exist, that is, the condition in which none of the control signal from the main controller 261 is transmitted to the audio lamp controller 262, the inspection of the pattern display controller 400 is made possible by the action checking signal generated from the audio lamp controller 262.例文帳に追加

その結果、主制御装置２６１が無い場合、つまり、主制御装置２６１からの制御信号が音声ランプ制御装置２６２に送信されない状態においても、音声ランプ制御装置２６２で生成された動作確認信号により図柄表示制御装置４００の検査を行うことができる遊技機を提供することができる。 - 特許庁

The burn-in test of the semiconductor device 302 to be tested is performed by supplying scan-in signals S102, memory test signals S103 and test mode control signals S101 from the test pattern generation means 301 to the semiconductor inspection device 100, time measurement is performed in the time measurement means 305 for the test result and the generation time of a defect/a fault is specified.例文帳に追加

テストパターン発生手段３０１から半導体検査装置１００にスキャンイン信号Ｓ１０２、メモリテスト信号Ｓ１０３、テストモード制御信号Ｓ１０１を供給して被試験半導体装置３０２のバーンイン試験を行い、その試験結果は時間計測手段３０５で時間計測が行われ不良・故障の発生時間を特定する。 - 特許庁

To provide a reflection type photomask blank including a reflection prevention film having a reflection preventing function for the whole inspection light of a wavelength range of 190-260 nm and enabling the reflection prevention film applied to a pattern non-open portion of a reflection type photomask to be easily manufactured, and to provide the reflection type photomask and a method for manufacturing the reflection type photomask.例文帳に追加

反射型フォトマスクのパターン非開口部にかかる反射防止膜の製造を容易に行うことができ、且つ、波長範囲１９０ｎｍ〜２６０ｎｍの検査光全てに対して反射防止機能を有する反射防止膜を具備する反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク、並びに反射型フォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

The inspection method of an element mounted to a substrate includes a stage of generating a shape template corresponding to the element, a stage of irradiating the substrate with the lattice pattern light of an illumination part to acquire height information at each pixel, a stage of generating a contrast map corresponding to the height information at each pixel, and a stage of comparing the contrast map with the shape template.例文帳に追加

基板に装着された素子の検査方法において、素子に対応する形状テンプレートを生成する段階と、照明部の格子パターン光を基板に照射してピクセル別高さ情報を獲得する段階と、ピクセル別高さ情報に対応してコントラストマップを生成する段階と、コントラストマップと形状テンプレートとを比較する段階と、を含む。 - 特許庁

To improve an SN ratio of an image signal of a defect spot by adjusting an incident azimuth of each illumination light at a suitable angle for a pattern on a sample, when performing visual inspection of the sample by illuminating the sample with illumination light entering the sample obliquely with respect to the optical axis of an objective lens of a microscope, and by acquiring a sample image.例文帳に追加

顕微鏡の対物レンズの光軸に対して斜めに試料に入射する照明光により試料を照明して試料の画像を取得し試料の外観検査を行う際に、各照明光の入射方位を試料上のパターンに好適な角度に調整して、欠陥箇所の画像信号のＳＮ比を向上する。 - 特許庁

In connection with the previous question, the bank's financial results showed a very irregular pattern in which its deficit, which was only 5.1 billion yen for the period ending March 2010, marked a whopping 187 billion yen for the period ending in June. What is your recognition of the supervision and inspection issue that the FSA left such financial management unaddressed? 例文帳に追加

先ほどの質問とも関連するのですけれども、財務の面で、平成22年3月期ではわずか51億円の赤字だったにもかかわらず、この6月期で1,870億円という巨大な赤字を出すに至ったという非常に特異な財務の動きをしている。こういった財務を放置していたということに対する監督検査上の問題点はどう認識されているのか。 - 金融庁

To improve inspection accuracy for missing electronic components in a circuit board which is provided with an insulating substrate 10, a conductor pattern 2 formed on the surface of the substrate 10 and a plurality of electronic components 4 and by which at least two types of electronic circuits can be constituted, depending on the types, the number and/or arrangement of the electronic components.例文帳に追加

絶縁基板10と、該絶縁基板10の表面に形成された導体パターン２と、該導体パターン２上に実装された複数の電子部品４とを具え、電子部品４の種類、数及び／又は配置によって少なくとも２種類の電子回路を構成することが可能な回路基板において、電子部品の欠品の検査精度を高める。 - 特許庁

In this manufacturing method of this inspection probe substrate for forming projections and a wiring pattern connected to the projections on a substrate equipped with a copper foil, formation of the projection is performed by bonding an Au ball and then moving a capillary on which an Au wire is clamped, and thereafter, first plating and second plating are applied onto the projection.例文帳に追加

銅箔を備えた基板に突起と該突起に接続する配線パターンとを形成する検査用プローブ基板の製造方法において、前記突起の形成は、Ａｕボールをボンディングした後にＡｕワイヤをクランプしたキャピラリを移動することにより行ない、その後前記突起の上に第１のめっき及び第２のめっきを施したことにある。 - 特許庁

Even if a cycle lag arises in the output signal 4 of the asynchronous circuit, the output signal 4 of the asynchronous circuit is outputted to the output terminal 5 at the same time by using the same value as the period number of the cycle lag as the value m of the setting signal 12, making it possible to perform correct inspection by using the same expectation value pattern.例文帳に追加

非同期回路の出力信号４にサイクルずれが生じても、そのサイクルずれの周期数と同じ値をサイクルずれ周期数設定信号１２の値ｍとすることで、出力端子５には同じタイミングで非同期回路の出力信号４が出力されるため、同じ期待値パターンを用いて正しい検査が可能になる。 - 特許庁

The compatibility between the measures against dielectric breakdown of the display device and the circuit inspection on the processing substrate can be realized by facilitating switching between the short-circuiting state and opening state across the signal input terminals of the display device by the contact and non-contact between this wiring pattern 0901 and detachable conductive tool 0902.例文帳に追加

この配線パターン０９０１と脱着可能な導電性器具０９０２との接触と非接触によって、表示装置の信号入力端子同士をショートする状態とオープンにする状態との切り替えを容易にすることにより、加工基板上の表示装置の静電破壊防止対策と回路検査との両立を実現する。 - 特許庁

The electrode pattern inspection device 500 makes a current flow to the plurality of electrode parts 26a, acquires a change form along the one direction (a circumferential direction of the toner carrying roller 17) of the strength of a magnetic field on the plurality of electrode parts 26a, and determines whether each of the plurality of electrode parts 26a is normal or abnormal on the basis of the change form.例文帳に追加

電極パターン検査装置５００は、複数の電極部２６ａに電流を流して、当該複数の電極部２６ａ上における磁界の強さの上記一方向（トナー担持ローラ１７の周方向）に沿う変化態様を取得して、当該変化態様に基づいて複数の電極部２６ａのそれぞれが正常又は異常であるか判定する。 - 特許庁

An inspection signal detector 70 of a receiver 60 changes an old threshold to a new one based on an average value of detected signal currents for one period as a reference each time when the waveform pattern of signal current for each one period is detected, and it compares an average value of signal currents for the next period with the newly changed threshold, thereby detecting the signal current for the next one period.例文帳に追加

受信器６０の点検信号検出部７０は、１周期毎の信号電流の波形パターンを検出する度に、検出した１周期の信号電流の平均値を基準にして閾値を新たな値の閾値に変更し、次の１周期の信号電流の平均値と新たな値に変更された閾値とを比較することによって、次の１周期の信号電流を検出する。 - 特許庁

To provide an electrical inspection method of a film carrier tape for mounting determinable electronic components, without generating external appearance defects due to discharge breakage until a distance between projections extended between pieces of wiring is a comparatively long wiring pattern so that the insulation fault can be caused by folding a film carrier, and to provide an electrical device and a computer-readable recording medium.例文帳に追加

例えばフィルムキャリアを折り曲げることにより絶縁不良が引き起こされる可能性があるような、配線間に延出する突起間の距離が比較的長い配線パターンまで、放電破壊による外観不良を生じることなく判別可能な電子部品実装用フィルムキャリアテープの電気検査方法および電気検査装置ならびにコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

This pattern defect inspection device includes a nearest 8 chips, which are adjacent to the detected image and positioned diagonally in the lateral and vertical directions while putting the detected image between them, and has a means creating an average reference image from images of the same shape patterns by statistical computing and a means detecting the defect by comparing the detected image with the average reference image.例文帳に追加

このパターン欠陥検査装置は、検出画像に隣接する少なくとも検出画像を挟んだ左右上下斜めに隣接する最近接８チップを含んで同一形状のパターンの画像から統計的演算処理により平均参照画像を生成する手段と検出画像を生成された平均参照画像と比較して欠陥を検出する手段とを備える。 - 特許庁

In this structure electrically connecting the solder ball 2 serving as a connection electrode of the semiconductor IC 1 to a land pattern 4 formed on a inspection circuit base board 3, contacts 5 each formed of a ring-shaped coil spring are arranged in correspondence to the respective solder balls 2, and the solder balls 2 are forcibly pressed to the contacts 5.例文帳に追加

半導体ＩＣ１の接続電極としての半田ボール２を検査回路基板３上に形成されたランドパターン４に電気的に接続する構造であって、検査回路基板３のランドパターン４上には、半田ボール２に個別に対応してコイルばねをリング状に形成してなる接触子５が設けられており、これらの接触子５に対して半田ボール２が圧接されている。 - 特許庁

This inspection jig 30 is characterized by being equipped with a base material 31, a stress relaxation layer 32 provided on the base material 31, a contactor 33 provided on the stress relaxation layer 32, a wiring pattern 34 connected electrically to the contactor 33, and a driving IC 36 mounted on the base material 31 and connected electrically to the wiring patterns 34, 35.例文帳に追加

本発明の検査用治具３０は、基材３１と、基材３１上に設けられた応力緩和層３２と、応力緩和層３２上に設けられた接触子３３と、接触子３３と電気的に接続された配線パターン３４と、基材３１上に実装され配線パターン３４，３５に電気的に接続された駆動用ＩＣ３６が備えられたことを特徴とする。 - 特許庁

In an IC mount region 60 of an element substrate 10, wide light shield patterns 63 which form parallel stripes and an insulating layer 64 for short-circuit prevention which covers the surface sides of those light shield patterns 63 are formed in an area overlapping with an IC 4 in a plane, and a narrow inspection pattern 69 is formed on the surface of the insulating layer 64 for short-circuit prevention.例文帳に追加

素子基板１０のＩＣ実装領域６０において、ＩＣ４と平面的に重なる領域には、ストライプ状に並列する幅広の遮光パターン６３と、これらの遮光パターン６３の表面側を覆う短絡防止用絶縁層６４とが形成され、短絡防止用絶縁層６４の表面には、幅の狭い検査パターン６９が形成されている。 - 特許庁

This spike reduction circuit for inspecting the organic EL panel inputs a signal from the each pixel of the organic EL panel driven by an inspection driving pattern, limits an upper limit value and/or a lower limit value of the signal to reduce a spike portion included in the signal, and restrains only the spike component without affecting the signal component of the measuring object, by outputting the signal component as it is.例文帳に追加

有機ＥＬパネル検査用スパイク低減回路は、検査用駆動パターンによって駆動される有機ＥＬパネルの各ピクセルからの信号を入力し、当該信号の上限値及び／又は下限値を制限して信号に含まれるスパイク分を低減し、信号成分はそのまま出力することで、測定対象である信号成分に影響を与えることなくスパイク成分のみを抑制する。 - 特許庁

The failure analysis apparatus 10 comprises an inspection information acquisition section 11 for acquiring at least a pattern image P1 of the semiconductor device, a layout information acquisition section 12 for acquiring a layout image P3, a failure analysis section 13 for the analysis of a failure of the semiconductor device, and an analysis screen display control section 14 for allowing a display device 40 to display information on the failure analysis.例文帳に追加

半導体デバイスのパターン画像Ｐ１を少なくとも取得する検査情報取得部１１と、レイアウト画像Ｐ３を取得するレイアウト情報取得部１２と、半導体デバイスの不良についての解析を行う不良解析部１３と、不良解析についての情報を表示装置４０に表示させる解析画面表示制御部１４とによって不良解析装置１０を構成する。 - 特許庁

To provide an anisotropic conductive connector capable of surely accomplishing required electrical connection to respective electrodes regardless of a pattern of electrodes, and of accomplishing required electrical connection to the respective electrodes even if the electrodes are arranged at minute intervals and in high density, and manufacturable at a low cost; to provide an adapter device equipped with it; and to provide an electrical inspection device of a circuit device.例文帳に追加

電極のパターンに関わらず、電極の各々に対して所要の電気的接続が確実に達成され、電極のピッチが微小で高密度に配置されていても、電極の各々に対して所要の電気的接続が確実に達成され、小さいコストで製造可能な異方導電性コネクターおよびその製造方法、これを具えたアダプター装置並びに回路装置の電気的検査装置を提供する。 - 特許庁

There is provided a method for inspecting variation in grain size of fine particles in an inspection object containing homogeneous fine particles, the method comprising the steps of: using a liquid in which the fine particles are dispersed in a solvent for electrophoresis using a separation medium which serves as a sieve; and inspecting variation in grain size of the fine particles from an electrophoretic pattern after the electrophoresis.例文帳に追加

本発明の方法は、均質な微小粒子を含んでいる検査対象における当該微小粒子が有している粒度のばらつきを検査する方法であって、上記微小粒子が溶媒に分散している液体を、ふるいとして機能する分離媒体を用いた電気泳動に供する工程と、上記電気泳動後の泳動パターンから上記微小粒子の粒度のばらつきを検査する工程とを包含している。 - 特許庁

In a reflective mask blank for EUV lithography where a layer 12 reflecting EUV light, a layer 14 for absorbing EUV light, and a low reflection layer 15 for the inspection light (wavelength 190-260 nm) of a mask pattern are formed on a substrate 11 in this order, the low reflection layer 15 contains hafnium Hf, nitrogen N and oxygen O at content in total of 80 at% or more.例文帳に追加

基板１１上に、ＥＵＶ光を反射する反射層１２と、ＥＵＶ光を吸収する吸収体層１４と、マスクパターンの検査光（波長１９０〜２６０ｎｍ）に対する低反射層１５が、この順に形成されたＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクであって、前記低反射層が、ハフニウム（Ｈｆ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）を合計含有率で８０ａｔ％以上含有する。 - 特許庁

The inspection pattern 501 is provided with multiple lower wirings 502, multiple upper wirings 503, an insulating layer 504 disposed between the lower wring 502 and upper wiring 503 and multiple contact units 505 with electrically connect upper wiring 503 and lower wiring 502, so that a contact chain where upper wirings 503 and lower wirings 502 are mutually connected in series and a pair of electrode terminals 506 and 507.例文帳に追加

検査パターン５０１は、複数の下層配線５０２と、複数の上層配線５０３と、下層配線５０２と上層配線５０３との間に備えられた絶縁層５０４と、上層配線５０３と下層配線５０２とが交互に直列に接続されたコンタクトチェーンを構成するように上層配線５０３と下層配線５０２とを電気的に接続する複数のコンタクトユニット５０５と、１対の電極端子５０６，５０７とを有する。 - 特許庁

The printer comprises a plurality of color ink nozzles and a plurality of clear ink nozzles and forms a pattern for inspecting ejection from each clear ink nozzle on a medium with clear ink being ejected from each clear ink nozzle toward the medium and color ink being ejected from a color ink nozzle toward a region on the medium to which the clear ink should adhere wherein the inspection patterns are formed at an interval.例文帳に追加

印刷をするために、色インクを吐出する複数の色インクノズルと、クリアインクを吐出する複数のクリアインクノズルとを備え、前記各クリアインクノズルから媒体に向けて吐出するクリアインクと、前記色インクノズルから前記クリアインクが付着すべき前記媒体上の領域に向けて吐出する色インクとにより、前記各クリアインクノズルの吐出検査に用いる検査用パターンを前記クリアインクノズル別に前記媒体上に形成する印刷装置において、前記各検査用パターンを相互に間隔をあけて形成することを特徴とする。 - 特許庁