「pattern Inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an inspection device capable of performing an accurate inspection, an inspection method and a method for manufacturing a pattern substrate using the method.例文帳に追加

正確に検査を行うことができる検査装置、検査方法及びそれを用いたパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Since each of the inspection sections 10 is provided with the data processing section 12, the data processing time of the pattern inspection device 1 can be shortened, as compared with the conventional inspection device.例文帳に追加

各検査部１０がデータ処理部１２を備えているので、従来の検査装置よりもデータ処理の時間を削減できる。 - 特許庁

Inspection probe pins PB to the number corresponding to the number of inspection points of a wiring pattern on a board 4 are planted on a lower-part inspection jig 2B.例文帳に追加

下部検査治具２Ｂには、基板４の配線パターンの検査ポイントの数に応じた本数の検査プローブピンＰＢが植設さている。 - 特許庁

Such the constitution makes it possible for an inspector to accurately determine the inspection target area only by looking at the inspection pattern 13, and efficiently perform the quality determination of flaws and dents by referring to the flaw inspection pattern 13a and the dent inspection pattern 13b.例文帳に追加

検査者は、検査用パターン１３を見るだけで検査対象エリアを正確に特定することができ、また、傷検査用パターン１３ａと打痕検査用パターン１３ｂを参照することで、傷と打痕の良否判定を効率的に行うことができる。 - 特許庁

The inspection condition of the electron beam type pattern inspection device is prepared using an inspection condition of several kinds of defaults set in advance and an inspection condition prepared in the past.例文帳に追加

電子線式パターン検査装置の検査条件は、予め設定された数種のデフォルトの検査条件、及び、過去に作成した検査条件を利用して作成する。 - 特許庁

To provide a circuit pattern inspection device capable of easily inspecting a disconnection in the middle of a pattern, a partial notch, or a short-circuit to an adjacent pattern, regardless of the shape of a conductive pattern which is an inspection object, for example, even in the case of a branch pattern.例文帳に追加

検査対象の導電パターンの形状にかかわらず、例えば分岐パターンであっても、パターン途中の断線、一部切欠、隣接パターンとの短絡を容易に検査することが可能な回路パターン検査装置を提供する。 - 特許庁

A tester is easy to touch the foot pattern for easy inspection of products.例文帳に追加

さらに、テスタをフットパターン上に当てやすく、製品検査が容易になる。 - 特許庁

PRE-PROCESSING METHOD FOR ELECTRIC INSPECTION OF CONDUCTOR PATTERN, ELECTRIC INSPECTION METHOD AND APPARATUS OF CONDUCTOR PATTERN, PRE-PROCESSING APPARATUS FOR ELECTRIC INSPECTION OF CONDUCTOR PATTERN, INSPECTED PRINTED WIRING BOARD, AND INSPECTED SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

導体パターンの電気検査用前処理方法、導体パターンの電気検査方法、導体パターンの電気検査用前処理装置、導体パターンの電気検査装置、検査済みプリント配線板、及び検査済み半導体装置 - 特許庁

XY COORDINATE CORRECTION DEVICE AND METHOD IN SAMPLE PATTERN INSPECTION DEVICE例文帳に追加

試料パターン検査装置におけるＸＹ座標補正装置及び方法 - 特許庁

To provide a pattern forming board and a pattern forming method which offer a precision inspect pattern useful to an inspection device with a broader scope of inspection, such as a defect inspection device using an ultraviolet light source or an ultraviolet laser light source.例文帳に追加

紫外光源または紫外レーザ光源を用いた欠陥検査装置のように視野が広い検査装置の精度点検パタンとして使用可能なパタン形成基板およびパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method and a pattern inspection device for constantly performing accurate pattern inspection to a body to be inspected without being affected by the optical system characteristics or the like of a sensor, and a method for manufacturing a mask.例文帳に追加

センサの光学系特性等に影響されず、被検査体に対して、常に、正確なパターン検査を行なうことができるパターン検査方法及びその装置、ならびにマスク製造方法を提供すること。 - 特許庁

The pattern 30 for inspection has an inspection region 35 having the same constitution with a specified region of the main pattern which includes a part to be inspected.例文帳に追加

検査用パターン３０は、主パターンにおける検査対象部を含む所定領域と同じ構成を有する検査領域３５を備えている。 - 特許庁

PATTERN INSPECTION METHOD FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD例文帳に追加

電子ビーム描画用パターン検査方法及び電子ビーム描画方法 - 特許庁

Inspection of existence of a defect in each divided pattern region is performed by using the inspection standard of each registered pattern region (S7).例文帳に追加

その分割された各パターン領域の欠陥の有無の検査を、その登録されている各パターン領域ごとの検査基準を用いて行う（Ｓ７）。 - 特許庁

The image feature amount is calculated from an inspection image of a semiconductor wafer, pattern region division is performed, and the inspection method and sensitivity (defect inspection threshold) preset for each pattern region are changed, thereby performing the defect inspection.例文帳に追加

半導体ウェハの検査画像から画像特徴量を算出し、パターン領域分割を行い，予めパターン領域毎に設定した検査方式及び感度（欠陥検出閾値）を切り替えて欠陥検出を行う。 - 特許庁

In the second configuration inspection, an outline where the inspection object pattern contained in the separate regions of the inspection object has the right configuration is estimated based on the inspection object pattern having the right configuration and being in the periphery first.例文帳に追加

第２の形状検査では、まず正しい形状を備えた周囲の被検査パターンに基づいて、検査対象の個別領域に含まれる被検査パターンが正しい形状を備えている場合の輪郭を推定する。 - 特許庁

To improve an operation rate of an inspection device by setting an inspection condition, in a state where an actual inspection object does not exist, in defect inspection that uses a substrate with a pattern as the inspection object.例文帳に追加

パターン付基板を検査対象とした欠陥検査において，実際の検査対象物物が存在しない状態で、検査条件を設定することにより、検査装置の稼働率を向上させる。 - 特許庁

To provide an inspection method for a semiconductor device, a wafer for inspection, and a pattern mask for inspection capable of mutually evaluating different inspection modes and easily deriving a more optimized inspection condition.例文帳に追加

異なる検査モードに対し互いに評価でき、より最適化される検査条件を容易に導き出せる半導体装置の検査方法及び検査用ウェハ及び検査用パターンマスクを提供する。 - 特許庁

The pattern forming method includes a pattern forming stage of forming a main pattern in a display region by photolithography and forming a pattern 30 for inspection in a non-display region and an inspection stage of indirectly inspecting the formation state of the main pattern by directly inspecting the pattern 30 for inspection.例文帳に追加

パターン形成方法は、フォトリソグラフィにより、表示領域に主パターンを形成すると共に、非表示領域に検査用パターン３０を形成するパターン形成工程と、検査用パターン３０を直接に検査することにより、主パターンの形成状態を間接的に検査する検査工程とを含んでいる。 - 特許庁

IMAGE PATTERN CORRECTION METHOD, SIMULATION IMAGE GENERATION METHOD USING SAME, AND PATTERN APPEARANCE INSPECTION METHOD例文帳に追加

画像パターン補正方法、及びそれを適用した模擬画像生成方法、並びにパターン外観検査方法 - 特許庁

To form an observable misalignment inspection mark, from a fine pattern in conformation with the design rule of a device pattern.例文帳に追加

観察可能な合わせずれ検査マークをデバイスパターンのデザインルールに従った微細なパターンから構成する。 - 特許庁

To provide an impedance measuring circuit pattern capable of executing accurately inspection of a signal circuit pattern.例文帳に追加

信号回路パターンの検査を精度良く行うことができるインピーダンス測定用回路パターンを提供する。 - 特許庁

To remove a defect derived from a correction pattern in a defect inspection of a photomask having the correction pattern.例文帳に追加

補正パターンを有するフォトマスクの欠陥検査において、補正パターンに由来する欠陥を除外すること。 - 特許庁

IMAGE PATTERN CORRECTION METHOD, SIMULATED IMAGE GENERATION METHOD USING THE SAME AND PATTERN APPEARANCE INSPECTION METHOD例文帳に追加

画像パターン補正方法、及びそれを適用した模擬画像生成方法、並びにパターン外観検査方法 - 特許庁

For example, the rectangular land pattern and normal solder pattern of a QFP are registered for solder inspection at first.例文帳に追加

先ずはんだ検査のために例えばＱＦＰの矩形ランドパターンと正常はんだパターンを登録しておく。 - 特許庁

To provide an inspection instrument of a circuit pattern whose defective inspection performance is improved by controlling the electrification status according to a structure or a material of the circuit pattern which is an inspection object.例文帳に追加

検査対象である回路パターンの構造または材質に応じて、帯電状態を制御することで、欠陥検査性能が向上した回路パターンの検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of creating an efficient inspection recipe for inspecting a plurality of inspection regions of different picture brightness by roughness and fineness of a pattern in a circuit pattern inspection of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハの回路パターン検査において、パターンの粗密により画像明るさの異なる複数の検査領域を検査するための効率的な検査レシピ作成法の提供。 - 特許庁

Then image data of an inspection image obtained by a pattern defect inspecting device with inspection wavelength is compared and contrasted with the data for phase shift mask correspondence inspection to detect a pattern defect.例文帳に追加

続いて、検査波長でのパターン欠陥検査装置により得た検査画像の画像データと位相シフトマスク対応検査用データとを比較対照してパターン欠陥を検出する。 - 特許庁

An inspection pattern 13 which edges an inspection target area is provided on an external surface of a second electrode substrate 2 which is to be an inspection target for flaws or dents.例文帳に追加

傷又は打痕の検査対象となる第ニ電極基板２の外表面に、検査対象エリアを縁取る検査用パターン１３を設ける。 - 特許庁

To provide an inspection device and an inspection method capable of performing accurate inspection in a short time, and a manufacturing method of a pattern substrate.例文帳に追加

正確な検査を短時間で行うことができる検査装置及び検査方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM OF PATTERN DEFECT INSPECTION BY USING ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE AND MIRROR ELECTRON PROJECTION TYPE OR MULTIPLE BEAM TYPE ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE例文帳に追加

電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステム、並びに写像投影型又はマルチビーム型電子線検査装置 - 特許庁

An inspection image is obtained by imaging an inspection target 1, including a substrate 14 in which the wiring pattern 12 is formed.例文帳に追加

配線パターン１２が形成された基板１４を含む検査対象物１を撮像して検査画像を得る。 - 特許庁

DEFECT INSPECTION APPARATUS, DEFECT INSPECTION METHOD, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD, PATTERN TRANSFERRING METHOD AND SEMICONDUCTOR WAFER MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

欠陥検査装置及び方法、フォトマスクの製造方法、パターン転写方法、並びに半導体ウェハの製造方法 - 特許庁

To provide a photomask inspection method and a photomask inspection device which can simply and accurately inspect a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンを簡易に、かつ、正確に検査できるフォトマスク検査方法およびフォトマスク検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection apparatus of a wiring pattern for stably detecting the defective section of the appearance of the wiring pattern, when automatically inspecting the wiring pattern using images.例文帳に追加

画像を用いて配線パターンを自動的に検査する際、配線パターン外観の欠陥部分を安定に検出し得る配線パターンの検査方法及び検査装置を提供することにある。 - 特許庁

To implement a highly sensitive defect inspection method in a pattern inspection apparatus by reducing the effect of the unevenness of the brightness of a pattern generated from the variation of the film thickness and the scattering of the pattern width.例文帳に追加

パターン検査装置において、膜厚の違いやパターン幅のばらつきなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度な欠陥検査を実現する。 - 特許庁

To provide an inspection device capable of simply discriminating the flaw on a transmission pattern or the flaw on a shading pattern, and to provide an inspection method and a manufacturing method of a pattern substrate.例文帳に追加

透過パターン上の欠陥か、遮光パターン上の欠陥かを簡便に判別することができる検査装置及び検査方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Two kinds; a line pattern and a space pattern formed by a negative-to-positive reversal thereof are used as a dimensional inspection pattern to be used in a wafer process.例文帳に追加

ウェハプロセスで用いる寸法検査パタンとして、ラインパタンとこれをネガポジ反転したスペースパタンの２種類を用いるようにする。 - 特許庁

The first edge is compared with the edge of a first referential pattern to match the objective pattern image for inspection with the referential pattern.例文帳に追加

第１のエッジと第１の基準パターンのエッジとを比較することにより、検査対象パターン画像と基準パターンとのマッチングを行う。 - 特許庁

A pattern KP for inspection for the purpose of measuring the line width of the pattern to be transferred to a substrate is formed on the mask having a circuit pattern CP.例文帳に追加

回路パターンＣＰを有するマスクに、基板に転写されるパターンの線幅を計測するための検査用パターンＫＰを形成する。 - 特許庁

This condition is maintained at automatic defect classification time, after circuit pattern inspection.例文帳に追加

この状態は回路パターン検査後の自動欠陥分類時に維持される。 - 特許庁

An inspection expected value indicating the shape of a target TEG pattern is calculated on the basis of the variation condition and the inspection condition of the TEG pattern.例文帳に追加

また、ＴＥＧパターンのバリエーション条件、及び検査条件に基づいて、目標とするＴＥＧパターンの形状を示す検査期待値を算出する。 - 特許庁

According to the pitch of the pattern, a correction quantity is calculated by using the rule base to correct data for pattern inspection and then data for phase shift mask correspondence inspection.例文帳に追加

次いで、パターンのピッチに基づいて、ルールベースから補正量を算出してパターン検査用データを補正して、位相シフトマスク対応検査用データを作成する。 - 特許庁

INSPECTION METHOD AND DEVICE OF PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

パターンの検査方法、パターンの検査装置および電子デバイスの製造方法 - 特許庁

The mask pattern are macroprojected on the wafer 9 and the macroprojected pattern on the wafer 9 are subjected to the defect inspection, by which the defect inspection of the mask is performed.例文帳に追加

ウエハ９上にマスクパターンを拡大投影し、ウエハ９上の拡大投影パターンを欠陥検査することによりマスクの欠陥検査を行う。 - 特許庁