patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
MASK FOR FORMING ELECTRICALLY CONDUCTIVE PATTERN AND MASK DEVICE例文帳に追加
導電パターン形成用マスク及びマスク装置 - 特許庁
To display a clear pattern by eliminating a burr in an edge peripheral part of a pattern though a metal foil is partially transferred in the pattern.例文帳に追加
柄状に金属箔転写を部分転写しても柄の縁周部にバリの発生を無くして鮮明な図柄の表現を可能にすること。 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND PATTERN MEASUREMENT METHOD例文帳に追加
荷電粒子線装置及びパターン測定方法 - 特許庁
An image compositing means 30 reads the patterns from a pattern storage means 10 according to a combination pattern stored in a pattern storage means 20.例文帳に追加
画像合成手段30はパターン記憶手段20に記憶された組み合わせパターンに従って、図柄記憶手段10から図柄を読み出す。 - 特許庁
CONTROL PROGRAM FOR PATTERN COMBINATION TYPE GAME MACHINE例文帳に追加
図柄組合せ式遊技機用の制御プログラム - 特許庁
By this density difference, the pattern is formed by creating a thickness and thinness, and an unevenness, to the pattern formation material even if the single pattern formation material is used.例文帳に追加
この密度差によって、単一の模様形成材料を用いても模様形成材料に濃淡や凹凸が生じ、図柄が形成される。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR COMPOSING ILLUMINATION PATTERN例文帳に追加
点灯パターンを作成するための方法と装置 - 特許庁
PATTERN SETTING DEVICE FOR FUNCTIONAL SWITCH OF HEAVY EQUIPMENT例文帳に追加
重装備の機能スイッチのパターン設定装置 - 特許庁
RECORDER AND RECORDING METHOD OF CORRECTION PATTERN例文帳に追加
記録装置および補正用パターンの記録方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁
An alignment pattern and a TEG pattern, which are used in a photolithography process, are formed in the alignment pattern forming regions 23 of the scribing regions 10.例文帳に追加
スクライブ領域10のアライメントパターン形成領域23にはフォトリソグラフィ工程で使用されるアライメントパターンやTEGパターンが形成される。 - 特許庁
APPARATUS FOR PRODUCING FINE PATTERN AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
微細パターンの製造装置および製造方法 - 特許庁
To provide a pattern recognition device and a pattern recognition method for improving pattern recognition performance by competitive learning using a mutual subspace method.例文帳に追加
相互部分空間法を用いた競合学習により、パターン認識性能を向上できるパターン認識装置、パターン認識方法を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加
液晶表示用パターン基板の製造方法 - 特許庁
To improve a metal pattern in shape accuracy.例文帳に追加
金属パターンの形状精度を向上させる。 - 特許庁
To simultaneously perform the detection of the shape of the upper part of a pattern and the detection of the shape of the lower part of the pattern in a pattern inspecting device.例文帳に追加
パターンの検査装置において、パターンの上部の形状の検出と、下部の形状の検出を、同時に行なえるようにすること。 - 特許庁
MYOELECTRIC CHARACTERISTIC PATTERN DISCRIMINATING METHOD AND DEVICE例文帳に追加
筋電の特徴パターン識別方法及び装置 - 特許庁
To provide a correcting method for a mask pattern which can bring a pattern formed on a wafer through a photolithography process close to a design pattern.例文帳に追加
フォトリソグラフィプロセスを経てウエハ上に形成されるパターンをより設計パターンに近づけることのできるマスクパターンの補正方法を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加
レジストパターンの形成方法および記録媒体 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN AND ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加
パターン形成方法及び有機薄膜トランジスタ - 特許庁
PATTERN CHARACTERISTIC EXTRACTION METHOD AND DEVICE FOR THE SAME例文帳に追加
パターン特徴抽出方法及びその装置 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
METHOD, APPARATUS AND PROGRAM FOR DISCRIMINATING PATTERN例文帳に追加
パターン識別方法及びその装置、そのプログラム - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR DECORATING DOT PATTERN例文帳に追加
ドットパターンの装飾方法および装飾装置 - 特許庁
To provide a curable composition for imprint being excellent in pattern formability regardless of an atmosphere in which a pattern is formed and also having fewer pattern defects.例文帳に追加
パターンを形成する雰囲気にかかわらず、パターン形成性に優れ、かつ、パターンの欠陥が少ないインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁
WATER REPELLENT PATTERN STRUCTURE AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加
撥水パターン構造物及びその製造方法 - 特許庁
To provide a test pattern generating device that easily and automatically generates a test pattern without the preparation of complicated test pattern in verification for wiring connection of a semiconductor chip.例文帳に追加
半導体チップの配線接続検証において、複雑なテストパターンの作成を必要とせず、テストパターンを容易に自動発生すること。 - 特許庁
PATTERN MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
パターン磁気記録媒体及びその製造方法 - 特許庁
The general control CPU 37a determines a second variation pattern on the basis of the first pattern designation command and first variation pattern designation command.例文帳に追加
統括制御CPU37aは、第1の図柄指定コマンド及び第1の変動パターン指定コマンドに基づいて第2の変動パターンを決定する。 - 特許庁
If the average print rate is less than 5%, a solid pattern is formed as a toner discharge pattern T, and if the average print rate is above 5%, a dot pattern is formed.例文帳に追加
5%未満である場合はトナー吐出パターンTとしてソリッドパターンを形成し、5%以上である場合はドットパターンを形成する。 - 特許庁
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