roughnessを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 6443件
The surface roughness value Rz obtained by ten-point average roughness is preferably within a predetermined range.例文帳に追加
また、十点平均粗さにより求めた表面粗さ値Rzが所定の範囲内であることが好適である。 - 特許庁
The ratio of the maximum roughness Rt to the average roughness Ra, and Rt/Ra is ≤10.例文帳に追加
平均粗さRaと最大粗さRtの比Rt/Raが10以下である配線接続器具用金属材。 - 特許庁
Roughness of at least one of the sides of the film is 0. 02-1 μm in center line average roughness (Ra).例文帳に追加
また、前記ポリエステルフィルムは少なくとも片面の粗さが、中心線平均粗さ(Ra)で0.02〜1μmである。 - 特許庁
Roughness parts are prepared to the connecting parts of each of the wrapping case 7 and 8 and are fixed along the roughness parts.例文帳に追加
外装ケース7、外装ケース8の接合部分に凹凸部を設け、この凹凸部に沿ってはめ合わせる。 - 特許庁
Here, the surface roughness of the surface of the intermediate roller 405 is ≥3 μm in ten-point mean roughness Rz.例文帳に追加
ここで、中間ローラ405の表面の表面粗さを、十点平均粗さRzで3μm以上とする。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING STEEL WIRE OF EXCELLENT SURFACE ROUGHNESS例文帳に追加
表面粗度の良好な鋼線材の製造方法 - 特許庁
To provide an evaluation method of rear surface roughness of a semiconductor wafer for evaluating rear surface roughness easily.例文帳に追加
半導体ウェーハの裏面粗さ評価方法に関し、簡便に裏面の粗さを評価することができるようにする。 - 特許庁
To improve work surface roughness and work tooth profile precision.例文帳に追加
ワークの面粗度及びワーク歯形精度を向上する。 - 特許庁
ALKALI ETCHANT FOR CONTROLLING SURFACE ROUGHNESS OF SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加
半導体ウェーハの表面粗さ制御用アルカリエッチャント - 特許庁
In the substrate, the surface roughness Ra is 0.1-0.8 micrometers.例文帳に追加
基板は、表面粗さRaが0.1〜0.8μmである。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF PRECAST CONCRETE PRODUCT IMPROVED IN ROUGHNESS COEFFICIENT例文帳に追加
粗度係数を改善したプレキャストコンクリート製品の製法 - 特許庁
to make the surface of something have edges or points of roughness 例文帳に追加
(物の表面に)かどを作って滑らかでなくする - EDR日英対訳辞書
METHOD FOR ADJUSTING SURFACE ROUGHNESS OF STEEL STRIP AND STEEL STRIP例文帳に追加
鋼帯の表面粗さの調整方法及び鋼帯 - 特許庁
To obtain uniform machined surface roughness in finish-machining.例文帳に追加
仕上げ加工時において、均一な加工面粗度を得る。 - 特許庁
TRIAL ARTICLE WITH MINUTE ROUGHNESS PATTERN AND PREPARING METHOD THEREOF例文帳に追加
微細凹凸模様付試作品及びその作製方法 - 特許庁
The metallic material for a wiring connection fixture has an average roughness Ra of ≤0.3 μm and a maximum roughness Rt of ≤2.0 μm.例文帳に追加
平均粗さRaが0.3μm以下で、かつ、最大粗さRtが2.0μm以下である配線接続器具用金属材。 - 特許庁
The recording surface has an average roughness of less than about 2.5 nm.例文帳に追加
記録表面の平均粗さは約2.5nm未満である。 - 特許庁
To provide a roughness measuring device for measuring the roughness of a tooth flank while moving along the tooth flank of a gear.例文帳に追加
歯車の歯面に沿って移動しながら歯面粗さの測定を行うことができる粗さ測定装置を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition that forms a pattern having good resolution, line width roughness, and line edge roughness.例文帳に追加
優れた解像度、ラインウィドゥスラフネス又はラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
The surface roughness required for an antenna substrate of microwaves is satisfied because the surface roughness of the sintered compact is small.例文帳に追加
また焼結体の表面粗さが小さいので、マイクロ波のアンテナ基板などに要求される表面粗さを満足する。 - 特許庁
HORNY LAYER EVALUATION METHOD AND METHOD FOR SORTING SKIN ROUGHNESS PREVENTING COMPONENT例文帳に追加
角層評価方法及び抗肌荒れ成分選別方法 - 特許庁
The cartridge is formed, in such a way that the surface roughness of a predetermined region is larger than a predetermined surface roughness.例文帳に追加
そのカートリッジは、所定領域の表面粗さが所定の表面粗さより大きくなるように、形成されている。 - 特許庁
In the insulating film 2, a surface roughness Ra and another surface roughness Rz satisfy the inequalities: Ra<0.20 μm and Rz<2.0 μm.例文帳に追加
絶縁膜2の表面粗さRaおよびRzは、Ra<0.20μmおよびRz<2.0μmの関係を満たす。 - 特許庁
SULFUR FREE-CUTTING STEEL HAVING EXCELLENT SURFACE ROUGHNESS AND FEW SURFACE FLAWS例文帳に追加
面粗さに優れた表面疵の少ない硫黄快削鋼 - 特許庁
METHOD FOR ESTIMATING SURFACE ROUGHNESS OR FRICTIONAL COEFFICIENT OF ICE SURFACE例文帳に追加
氷表面粗さ又は摩擦係数を予測する方法 - 特許庁
ROUGHNESS JUDGMENT METHOD OF TEST PIECE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加
試料の凹凸判定方法、及び荷電粒子線装置 - 特許庁
As a result, the surface roughness of the wafer can be improved.例文帳に追加
その結果、ウェーハ表面粗さを改善することができる。 - 特許庁
MANUFACTURE OF CONCRETE-PAVING PLATE HAVING ROUGHNESS ON SURFACE例文帳に追加
表面に粗さを施したコンクリート舗装板の製造方法 - 特許庁
The height difference of the surface roughness is in the range of 0.3-1.5 μm.例文帳に追加
表面粗さの高低差は0.3〜1.5μmの範囲内にある。 - 特許庁
To further reduce the surface roughness of a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板の表面粗さをより一層低減する。 - 特許庁
having a surface free from roughness or bumps or ridges or irregularities 例文帳に追加
粗さ、隆起、うねまたは不連続性のない表面を持つ - 日本語WordNet
The recess 3 has preferable and moderate roughness that is formed by laser light and the roughness is suitable for coating YAG series phosphor 4.例文帳に追加
凹部3はレーザー光による形成が適度の荒れを生じて好ましく、YAG系蛍光体4を塗布しやすい。 - 特許庁
The substrate has a surface roughness less than 0.45 μm expressed as an arithmetic-mean center line roughness Ra.例文帳に追加
支持体は、算術平均中心線粗さRaとして表される0.45μm未満の表面粗さを特徴とする。 - 特許庁
The coating layer has a surface roughness, expressed as an arithmetic average roughness height (Ra), of 1/20-1/65 against the thickness of the fired product.例文帳に追加
コート層を、算術平均粗さ(Ra)で、被焼成体の厚さに対し、1/20〜1/65の表面粗さとする。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING FERRITIC STAINLESS STEEL SHEET HAVING LITTLE SURFACE ROUGHNESS例文帳に追加
肌荒れの少ないフェライト系ステンレス鋼板の成形方法 - 特許庁
The rhombus roughness 25 also has four sides 28.例文帳に追加
また、菱形となる粗度25は、四つの辺28を有している。 - 特許庁
The wiring body has the plated composition layer, and the arithmetic average roughness Ra of the surface roughness thereof is in the range of 0.1-0.5 μm.例文帳に追加
本発明の配線体は、メッキ組成層を有し、表面粗さの算術平均粗さRaが0.1〜0.5μmの範囲内にある。 - 特許庁
At this time, the roughness (interface roughness) of the base film is about 0.5 nm (RMS) or less so that the scattering loss may be not derived from reflecting the roughness on the surface of the multilayer reflection film 3.例文帳に追加
このとき下地膜部分の粗さ(界面粗さ)はおよそ0.5nm(RMS)以下であり多層反射膜3の表面に粗さが反映されて散乱損失の原因となることはない。 - 特許庁
To improve a machined surface roughness by preventing the machined surface roughness from becoming rougher than an ideal surface roughness due to an error at a connecting point position of an arced cutting edge ridge and a straight cutting edge ridge.例文帳に追加
円弧状切れ刃稜と直線状切れ刃稜の接続点位置の誤差により、仕上面粗度が理想面粗さより粗くなるのを防ぎ、同面粗度を向上させる。 - 特許庁
In the release sheet 14, the surface roughness of the surface closely adhered to the adhesive layer 12 is 0.1 μm or less in arithmetic average roughness, and the surface roughness is transferred to the surface of the adhesive layer 12.例文帳に追加
剥離シート14は、粘着層12に密着する面の表面粗さが算術平均粗さで0.1μm以下であり、この表面粗さが粘着層12の表面に転写される。 - 特許庁
Then, processing for improving surface roughness Ra (reducing surface roughness Ra) is applied only to a surface-roughness improving processing region which is part of the conical orbit face 153.例文帳に追加
そして、円すい状軌道面153の一部分である面粗度向上加工領域のみに対して面粗度Raを向上する(面粗度Raを小さくする)加工を施している。 - 特許庁
Additionally, the pulley sheave surfaces 1C, 1D, 2C, 2D are formed by continuously changing surface roughness from the inner-diameter end having small surface roughness to the outer-diameter end having large surface roughness.例文帳に追加
また、プーリシーブ面1C、1D、2C、2Dは、表面粗さが小さい内径端から表面粗さが大きい外径端に向かって連続的に表面粗さを変化させて形成した。 - 特許庁
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