roughnessを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 6443件
The roughness of the surface of the plated layer is controlled by previously adjusting a sheet to be plated into suitable roughness or by smoothing the surface of the plated layer after alloying.例文帳に追加
めっき層表面の粗度は、めっき原板を予め適当な粗度に調整したり、合金化後にめっき層表面を平滑化処理して制御する。 - 特許庁
This field-emissive element has a microchip, having the surface roughness of a fine structure of nanoscale order.例文帳に追加
ナノスケールの微細構造の表面粗度を有するマイクロチップを備える。 - 特許庁
The polyimide belt is characterized that surface roughness (Ra) inside the belt is 0.15-0.6 μm and the maximum surface roughness (Rmax) is 3-15 μm.例文帳に追加
ベルト内面の表面粗さ(Ra)が0.15〜0.6μmであり、最大表面粗さ(Rmax)が3〜15μmであることを特徴とするポリイミドベルト。 - 特許庁
To provide a mask inspection method and an apparatus therefor in which a defect can be detected stably even in a region where surface roughness varies.例文帳に追加
表面ラフネス(roughness)が変化している領域においても、安定して欠陥を検出することができるマスク検査方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
INTERFACE ROUGHNESS MITIGATING FILM, FORMING MATERIAL OF INTERFACE ROUGHNESS MITIGATING FILM, WIRING LAYER AND SEMICONDUCTOR DEVICE EMPLOYING THESE FILM AND MATERIAL AS WELL AS MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
界面ラフネス緩和膜、界面ラフネス緩和膜形成材料、これらを用いた配線層および半導体装置ならびに半導体装置の製造方法 - 特許庁
a second holding table holds a mold on which a second mark and a roughness pattern are formed, facing its side on which the roughness pattern is formed against the to-be-transferred substrate.例文帳に追加
第2の保持台が、第2のマーク及び凹凸パターンが形成された型を、凹凸パターンが形成された面を被転写基板に対向させて保持する。 - 特許庁
The center line average roughness (Ra) of the material is 2 μm or below.例文帳に追加
また、該感熱記録材料の中心線平均粗さ(Ra)を2μm以下とする。 - 特許庁
Further, the apparatus has a means for measuring the surface roughness of the recording medium 2, and automatically selects the transparent toner corresponding to the surface roughness of the recording medium 2.例文帳に追加
更に、記録媒体2の表面粗さの計測手段を有して、記録媒体2の表面粗さに対応した前記透明トナーを自動的に選択する。 - 特許庁
To provide a technology for reducing the micro roughness on the surface of a silicon substrate.例文帳に追加
シリコン基板表面のマイクロラフネスを減少させる技術を提供する。 - 特許庁
This painted metallic plate A for the substrate for adhering the decorative member to its surface has arithmetic average roughness of 1.0 μm or more as surface roughness.例文帳に追加
化粧材を表面に付着させる下地用塗装金属板Aにおいて、表面粗度として算術平均粗さが1.0μm以上を有する。 - 特許庁
The surface roughness Ra of the metallic plate is desirably controlled to ≤1.0 μm.例文帳に追加
金属板の表面粗度Raを1.0μm以下にするのが望ましい。 - 特許庁
This stranded wire is subjected to bluing at 420 to 460°C for 3 to 60 sec to control its tensile strength to ≥2300 MPa and its surface roughness to 2 to 15 μm by 10 point average roughness.例文帳に追加
このより線を420℃〜460℃、3秒〜60秒でブルーイングして、引張強さを2300MPa以上とし、表面粗さを10点平均粗さで2μm〜15μmとする。 - 特許庁
To take measurements using a three-dimensional measuring instrument for resin moldings, while taking into account the surface roughness of products when products with surface roughness are to be measured.例文帳に追加
樹脂成型品の3次元測定機において、表面粗さのある製品を測定する場合に、表面粗さを考慮して測定することを目的とする。 - 特許庁
Further, minute surface roughness which is the roughness of a portion other than a bubble portion of a surface in contact with an object to be polished is set to 1 to 3 μm.例文帳に追加
また、被研磨物との接触面のうち、気泡部分以外の部分の表面粗さである微小表面粗さを、1μm〜3μmとする。 - 特許庁
SURFACE ROUGHNESS ADJUSTING METHOD FOR METAL BODY AND MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME例文帳に追加
金属体の表面粗さ調整方法及び金属体の製造方法 - 特許庁
The roughness forming particle 22 is preferably harder than components of the surface layer 18 present around the roughness forming particle 22.例文帳に追加
粗さ形成用粒子22の硬さは、粗さ形成用粒子22の周りに存在する表層18の構成成分の硬さよりも硬いことが好ましい。 - 特許庁
The permission upper limit value of surface roughness of a rolling surface of the outer ring 51 is 0.3 μm at a central line average roughness (Ra) and 0.2 μm at a lower limit value.例文帳に追加
外輪51の転走面の面粗度の許容上限値は、中心線平均粗さ(Ra)で0.3μmであり、下限値が0.2μmである。 - 特許庁
The surface roughness of a separating plate 19a opposed to a feed roller 15, out of the separating plates 19, is greater than the surface roughness of other separating plates 19.例文帳に追加
分離板19のうち、給紙ローラ15と対向する分離板19aの表面粗さが、他の分離板19の表面粗さよりも粗い。 - 特許庁
The average value is set as roughness indicating the degree of irregularity of the bottom quality.例文帳に追加
そして、この平均値が底質の凸凹の度合いを示すラフネスとされる。 - 特許庁
This surface protective film includes a topmost layer having a surface roughness of 0.10-0.30, an intermediate layer and a self-adhesive layer having ≤0.1 surface roughness.例文帳に追加
表面粗さが、0.10〜0.30の範囲内である最表層、中間層、および表面粗さが0.1以下である粘着層からなる表面保護フィルム。 - 特許庁
To provide a photoresist composition exhibiting high sensitivity and good line edge roughness.例文帳に追加
高い感度及び良好なラインエッジラフネスを示すフォトレジスト組成物を製造。 - 特許庁
The surface roughness of the hardened layer 23 is formed to 0.1 μm or less in centerline average roughness Ra, and the DLC film 20 is formed into a thickness of 1.0 μm or less.例文帳に追加
硬化処理層23における表面粗さを、中心線平均粗さRaで0.1μm以下に形成し、DLC膜20を、1.0μm以下の厚さに形成する。 - 特許庁
The surface of the grain-oriented electromagnetic steel sheet having the base iron exposed thereon has preferably a roughness of 0.4 μm or less by the arithmetic mean roughness Ra.例文帳に追加
この発明において、地鉄が露出した方向性電磁鋼板表面の粗さは算術平均粗さRaで0.4μm以下であることとするのが好ましい。 - 特許庁
Moreover, the surface roughness (Ra) of the black resin film is 0.5 to 5.0μm.例文帳に追加
また、黒色樹脂皮膜の表面粗さ(Ra)を0.5〜5.0μmにする。 - 特許庁
HIGH STRENGTH HOT-ROLLED STEEL SHEET WITH HIGH WORKABILITY DUE TO LITTLE DIRECTIONAL SURFACE ROUGHNESS例文帳に追加
表面粗さの方向性の少ない高加工性高強度熱延鋼板 - 特許庁
This artificial bone is formed of a calcium phosphate-based porous ceramic such as hydroxyl apatite, wherein the surface roughness is set to a center line average roughness Ra of 0.5-50 μm.例文帳に追加
水酸アパタイトなど、リン酸カルシウム系の多孔質セラミックからなる人工骨で、その表面粗さを中心線平均粗さRa:0.5〜50μmとした。 - 特許庁
An overcoat layer 20 with a roughness different from the surface roughness of the overcoat layers 191, 192 is formed apart from the electrodes 14, 15 and the overcoat layers 191, 192.例文帳に追加
電極14,15およびオーバーコート層191,192以外にオーバーコート層191,192の表面粗さと異なる粗さのオーバーコート層20を形成する。 - 特許庁
To perform machining with fine surface roughness at high machining speed and with high efficiency.例文帳に追加
加工スピードが速く高能率で、表面粗度の細かい加工を行う。 - 特許庁
The surface roughness of the stainless steel wire for the spring is 1.5-2.3 μm.例文帳に追加
また、ばね用ステンレス鋼線の表面粗さは1.5〜2.3μmとなっている。 - 特許庁
POLYIMIDE COATED METAL FOIL OF LOW RELATIVE ROUGHNESS AND METHOD FOR SURFACE PROCESSING METAL FOIL例文帳に追加
ポリイミド付き低粗度金属箔および金属箔表面の処理方法 - 特許庁
The arithmetical mean roughness (Ra) of the indium oxide layer 9 on the rear surface side is larger than the arithmetical mean roughness (Ra) of the indium oxide layer 5 on the surface side.例文帳に追加
裏面側の酸化インジウム層9の算術平均粗さ(Ra)は、表面側の酸化インジウム層5の算術平均粗さ(Ra)より大きい。 - 特許庁
The surface roughness Rz of the inner peripheral surface of the loading roller 11 is 4.0 to 10.0μm, and the surface roughness Rz of the outer peripheral surface is 3.0 to 8.0μm.例文帳に追加
ローディングローラ11の内周面の表面粗さRzは4.0〜10.0μmであり、外周面の表面粗さRzは3.0〜8.0μmである。 - 特許庁
Also the surfaces of the reflection bodies 36 are provided with roughness in a prescribed range.例文帳に追加
また、反射体36の表面は、所定範囲の粗さを備えている。 - 特許庁
The surface roughness is adjusted, for example, by containing a roughness adjusting agent in the film, and the content in such a case is about 2-20 pts.wt.例文帳に追加
表面粗さ調整は例えば粗さ調整剤をフィルムに含有することで行え、その場合の含有量は2重量部〜20重量部程度。 - 特許庁
A surface roughness Ra of the metal tube is preferably ≥1 μm.例文帳に追加
金属管の表面粗度がRaで1μm以上であると好ましい。 - 特許庁
The surface roughness of the collar surface (Ra, ring) and the surface roughness of the end surface of the roller that slidably comes into contact with the collar surface (Ra, roller) satisfy the following relationship: 0.1≤Ra, ring/Ra, roller≤1.0.例文帳に追加
さらに、つば面の表面粗さ(Ra,ring)及びつば面に摺接するころの端面の表面粗さ(Ra,roller)を、0.1≦Ra,ring/Ra,roller≦1.0の関係とした。 - 特許庁
Surface roughness Rmax in a top portion of insulation walls 2 is 2-20 μm, and further surface roughness Rmax of a dielectric layer 7 is not more than 10 μm.例文帳に追加
隔壁2の頂上部の表面粗さRmaxを2μm〜20μmとし、また、誘電体層7の表面粗さRmaxを10μm以下とする。 - 特許庁
The roughness of face is practically formed by making unevenness of the packing surface different.例文帳に追加
面粗度は具体的にはパッケージ表面の凹凸を異なるようにする。 - 特許庁
As for the hard film formed on the surface having smaller surface roughness, also the surface roughness of the hard film itself becomes small according to surface roughness of a surface to be formed and also mating attackability that the hard film itself has becomes small.例文帳に追加
表面粗さの小さい面に形成された硬質皮膜は、この硬質皮膜自身の表面粗さも形成される面の表面粗さに応じて小さくなり、該硬質皮膜自身のもつ相手攻撃性も小さくなる。 - 特許庁
Around the circular portion 46a, a ring portion 46b processed in surface roughness of 0.4 μm (Ra), a ring portion 46c processed in surface roughness of 0.2 μm (Ra) and a ring portion 46d processed in surface roughness of 0.4 μm (Ra) are formed in order.例文帳に追加
円形部分46aの周りには、順に、面粗度0.4μm(Ra)に加工されたリング状部分46b、面粗度0.2μm(Ra)に加工されたリング状部分46c、面粗度0.4μm(Ra)に加工されたリング状部分46dが形成されている。 - 特許庁
The axial surface roughness in the outer peripheral face 5a of the roller 5 is set to be larger than the circumferential surface roughness in the outer peripheral face 5a of the roller 5 and be 1.0 or larger and 2.0 or smaller at the ten point average roughness (Rz).例文帳に追加
ローラ5の外周面5aにおける軸方向での表面粗さを、ローラ5の外周面5aにおける円周方向での表面粗さよりも大きくかつ十点平均粗さ(Rz)で1.0以上、2.0以下に設定している。 - 特許庁
This member consists of glassy carbon and has surface roughness values of at least its glassy carbon surface being in contact with a metal melt, such that the arithmetic mean surface roughness value Ra is ≤0.8 μm and the maximum surface roughness value Rmax is ≤10 μm.例文帳に追加
少なくとも金属融液と接する部材面の表面粗度が、表面粗さの平均値Raが0.8μm 以下、最大値Rmax が10μm 以下の性状を備えたガラス状カーボンからなる液相エピタキシャル成長用部材。 - 特許庁
Otherwise, data of edge roughness in a sufficiently long area are divided, and fitting by statistic processing and logic calculation is performed thereto, and a long period roughness and a short period roughness corresponding to an optional inspection area are calculated and displayed on a length measuring SEM.例文帳に追加
または、十分長い領域のエッジラフネスデータを分割し、統計処理と理論計算によるフィッティングを行って、任意の検査領域に対応する長周期ラフネスと短周期ラフネスを算出し測長SEM上で表示する。 - 特許庁
Alternatively, the data of the edge roughness of the sufficiently long area are divided, fitting by statistic processing and logic calculation is performed, and long-period roughness and short-period roughness corresponding to an arbitrary inspection region are calculated and displayed on the length measurement SEM.例文帳に追加
または、十分長い領域のエッジラフネスデータを分割し、統計処理と理論計算によるフィッティングを行って、任意の検査領域に対応する長周期ラフネスと短周期ラフネスを算出し測長SEM上で表示する。 - 特許庁
A hard film in a work W is ground to some degree of surface roughness by first grinding, and the surface roughness after the first grinding is made to a predetermined surface by performing the number of times of grinding paths obtained according to the state difference between the surface roughness and the predetermined surface roughness in a second grinding.例文帳に追加
第1研削加工により、ワークWにおける硬質皮膜の表面粗さがある程度研削加工され、その第1研削加工後の表面粗さは、第2研削加工において、その表面粗さと予定表面粗さとの状態差に基づき得られる研削パス回数を実行することにより、該予定表面粗さとされる。 - 特許庁
To provide a trial article whereon a demanded minute roughness pattern is easily formed in a short preparation period for demands for diversified minute roughness patterns, and to provide, based on this trial article, the trial article with the minute roughness pattern which enables an exact evaluation of a design including the minute roughness pattern, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加
多様化した微細凹凸模様の要求に対して、簡易に短い作製期間で、要求された微細凹凸模様が形成された試作品を提供し、この試作品により、微細凹凸模様を含めた設計を正確に評価することができる微細凹凸模様付試作品及びその製作方法を提供する。 - 特許庁
To provide a practical method and detector for detecting a micro surface roughness and defect, capable of detecting surely such the micro surface roughness and defect having about several μm of roughness difficult generally to be visually confirmed, and difficult to be automatically detected, as detected by grinding using a grinding stone, in an objective specimen with a coarse surface roughness.例文帳に追加
表面粗さの粗い被検査対象物において通常視認困難で、砥石がけ検査により検出しているような自動検出が困難な凹凸が数μm程度の微小凹凸欠陥を確実に検出できる実用的な微小凹凸表面欠陥の検出方法及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
The method for obtaining the roughness of the substrate and the device for obtaining the roughness of the substrate include: a first step of obtaining design information on the patterns formed on the substrate; and a second step of obtaining a surface roughness measurement region where the surface roughness of the substrate can be obtained by using the design information.例文帳に追加
基板に形成されたパターンに関する設計情報を得る第1のステップと、前記設計情報を用いて、前記基板の表面粗さを得ることができる表面粗さ測定領域を得る第2のステップとを有する基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置である。 - 特許庁
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