| 例文 (10件) |
smooth polishの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 10件
to polish smooth surfaces so that they are able to reflect clear images 例文帳に追加
(鏡などを)曇らないようにきれいに磨く - EDR日英対訳辞書
To make smooth the surface of a silica substrate in a method to finally polish the silica substrate.例文帳に追加
シリカ基板を最終研磨する方法において、表面をなめらかにする。 - 特許庁
To polish a non-oxide single crystal substrate, such as a silicon carbide single crystal substrate, with high polishing speed, thereby obtaining a high quality surface smooth and excellent in surface characteristics even at an atomic level of a crystal.例文帳に追加
炭化ケイ素単結晶基板等の非酸化物単結晶基板を、高い研磨速度で研磨し、平滑で結晶の原子レベルにおいても表面性状に優れた高品質な表面を得る。 - 特許庁
To stably ensure smooth operation of a plunger over a long period, and constantly maintain the electrical resistance of a contact probe over a long period, without having to polish the barrel in the rotating contact probe.例文帳に追加
回転式のコンタクトプローブにおいて、バレル研磨を施すことなく、プランジャーのスムースな動作を長期に亘り安定的に確保すると共に、コンタクトプローブの電気抵抗を長期に亘り一定に維持する。 - 特許庁
To provide a polishing process which can briefly and efficiently polish a surface to be polished of a workpiece such as an optical element mainly composed of silicon oxide, a silicon wafer or the like into a smooth surface with a high degree of accuracy.例文帳に追加
酸化シリコンを主成分とする光学素子やシリコンウェハ等の被加工面を能率良く短時間に高精度の平滑面に加工できる研磨加工方法を提供する。 - 特許庁
Thus, the end part of the top member 103 has a smooth curve shape, so that a conventional polish treatment is omitted to the portion.例文帳に追加
このように上面部材１０３の最端部１１０は滑らかな曲面状となっているので、この部分に対して従来のような研磨処理を施すことが省略されている。 - 特許庁
To provide a magnesium alloy plate polishing method in which any polish burn is hardly formed on a surface of a magnesium alloy plate, and any stripe pattern is less conspicuous when the surface of the magnesium alloy plate is subjected to the wet polishing to be smooth, and a magnesium alloy plate produced by the polishing method.例文帳に追加
マグネシウム合金板の表面を平滑に湿式研磨した場合に、その表面に研磨焼けが生じにくく、縞模様が目立たないようにすることができるマグネシウム合金板の研磨方法およびその研磨方法によって作製されたマグネシウム合金板を提供する。 - 特許庁
To provide a large amount of glass substrates for magnetic discs and magnetic discs having stable quality inexpensively by providing a manufacturing method of the glass substrate for the magnetic disc, which may simply polish the principal plane of the glass substrate to have a very smooth surface.例文帳に追加
ガラス基板の主表面を簡易に、かつ、極めて平滑な面に研磨することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供し、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することを可能にする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor substrate which can polish a metallic film at a high speed with a low load with use of a polishing pad having a smooth surface and can suppress occurrence of such a fault on the polished surface as scratch or dishing in a step of polishing the metallic film formed on the substrate using the polishing pad.例文帳に追加
基板の上に形成された金属膜を研磨パッドを用いて研磨する工程において、平滑な表面を有する研磨パッドで、低荷重で高速に金属膜を研磨し、かつスクラッチ、ディッシング等研磨面の欠陥の発生も抑制できる半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a cloth for giving a polish finish and water repellency, which is produced using a solution of organopolysiloxane of trimethylsiloxysilicic acid as an immersion treatment agent for cloth, and which forms a smooth, polishing, and water-repellant coating that lasts long, after a simple wiping work on a surface to be applied.例文帳に追加
布帛に含浸させるクロス処理剤に、トリメチルシロキシケイ酸のオルガノポリシロキサン溶液を用いている艶出し撥水性付与クロスに関して、塗装面の拭上げ作業を行うだけで、撥水性と共に艶や滑り感が長期に渡って持続する被膜を塗装面に形成することのできる艶出し撥水性付与クロスを提供する。 - 特許庁
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