sputteringを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 6532件
To provide a magnetron unit of a sputtering apparatus, which can effectively cool a target, and provide the sputtering apparatus.例文帳に追加
ターゲットを効果的に冷却することができるスパッタリング装置のマグネトロンユニット及びスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁
To provide a sputtering apparatus for efficiently performing sputtering deposition, and a method for manufacturing a liquid crystal device.例文帳に追加
効率よくスパッタ成膜を行うことのできる、スパッタリング装置、及び液晶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING Co-Fe BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND Co-Fe BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加
Co−Fe系合金スパッタリングターゲット材の製造方法およびCo−Fe系合金スパッタリングターゲット材 - 特許庁
Nitrogen is introduced as a sputtering gas and carbon dioxide is introduced as a processing gas, into an oxidation sputtering chamber 11.例文帳に追加
酸化スパッタチャンバ11内には、スパッタガスとして窒素を導入し、プロセスガスとして二酸化炭素を導入する。 - 特許庁
To provide a magnetron sputtering apparatus having a function of monitoring nodules formed during the sputtering, a magnetron sputtering apparatus having a nodule removing function, and a method thereof.例文帳に追加
スパッタ中に形成されるノジュールをモニタする機能を具えたマグネトロンスパッタリング装置と、されに、ノジュール除去機能を具えたマグネトロンスパッタリング装置とその方法を提供すること。 - 特許庁
The method uses a reactor 150 in which long throw sputtering, self-ionized plasma (SIP) sputtering, induction coupling plasma (ICP) resputtering and coil sputtering are combined in one chamber.例文帳に追加
ロングスロースパッタリング、自己イオン化プラズマ(SIP)スパッタリング、誘導結合プラズマ(ICP)再スパッタリング及びコイルスパッタリングを1つのチャンバ内で組み合わせたリアクタ150を使う。 - 特許庁
To provide a method for producing a sputtering target for forming a phase change film having reduced generation of particles upon sputtering.例文帳に追加
スパッタリング時にパーティクル発生が少ない相変化膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a Te-based sputtering target for forming the film of an optical recording medium with reduced particle production during sputtering.例文帳に追加
スパッタリング時にパーティクル発生が少ない光記録媒体膜形成用Te系スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁
To provide a sputtering apparatus in which film deposition distribution and coverage distribution are more improved compared with a conventional sputtering apparatus.例文帳に追加
従来のスパッタ装置よりも、さらに成膜分布及びカバレージ分布を向上させたスパッタ装置を提供する。 - 特許庁
OXIDE SINTERED COMPACT, AND SPUTTERING TARGET COMPOSED OF THE SAME例文帳に追加
酸化物焼結体及びそれからなるスパッタリングターゲット - 特許庁
SPUTTERING DEVICE, ITS OPERATION CONTROL METHOD, AND OPTICAL DISK例文帳に追加
スパッタ装置、その運転制御方法および光ディスク - 特許庁
SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION OF OPTICAL RECORDING MEDIUM例文帳に追加
スパッタリングターゲットおよび光記録媒体の製造方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, AND BARRIER FILM例文帳に追加
スパッタリングターゲット、同ターゲットの製造方法及びバリア膜 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, LIGHT-SHIELDING FILM, COLOR FILTER AND DISPLAY ELEMENT BODY例文帳に追加
スパッタリングターゲット、遮光膜、カラーフィルタ及び表示素子体 - 特許庁
SPUTTERING TARGET FOR OPTICAL MEDIUM, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
光メディア用スパッタリングターゲット、および、その製造方法 - 特許庁
METHOD OF CLEANING SURFACE OF CONTAMINATION PLATE OF SPUTTERING SYSTEM, AND CONTAMINATION PLATE例文帳に追加
スパッタ装置の防着面清掃方法及び防着板 - 特許庁
SPUTTERING TARGET AND THIN FILM FOR OPTICAL INFORMATION-RECORDING MEDIUM例文帳に追加
スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体用薄膜 - 特許庁
BACKING PLATE AND SPUTTERING TARGET-BACKING PLATE ASSEMBLED BODY例文帳に追加
バッキングプレート及びスパッタリングターゲット−バッキングプレート組立体 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM例文帳に追加
スパッタリングターゲット、その製造方法及び透明導電膜 - 特許庁
To provide a sputtering apparatus superior in cooling performance.例文帳に追加
冷却性能に優れたスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁
PLASMA SPUTTERING PROCESS FOR FORMING THIN FILM AND FILM-FORMING APPARATUS例文帳に追加
プラズマスパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置 - 特許庁
RF-SPUTTERING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
RFスパッタ装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING HARDLY WORKABLE ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加
難加工性合金スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR CONTROLLING REACTIVE SPUTTERING AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
反応性スパッタリングの制御方法及び成膜方法 - 特許庁
OPTICAL RECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET THEREFOR例文帳に追加
光記録媒体及び光記録媒体用スパッタリングターゲット - 特許庁
METHOD FOR FORMING THIN-FILM BY PLASMA SPUTTERING AND FILM-FORMING APPARATUS例文帳に追加
プラズマスパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置 - 特許庁
The selective patterning method includes a DC heating evaporation method, an ion beam evaporation method, a reactive ion beam evaporation method, a two-pole sputtering method, a magnetron sputtering method, a reactive sputtering method, a three-pole sputtering method, an ion beam sputtering method, an ion plating method, a hollow cathode beam method, an ion beam injection method and a plasma CVD method and the like.例文帳に追加
選択的パターニング方法は、直流加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、反応性イオンビーム蒸着法、2極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、3極スパッタ法、イオンビームスパッタ法、イオンプレーティング法、ホローカソードビーム法、イオンビーム注入法及びプラズマCVD法などである。 - 特許庁
DOUBLE SHUTTER CONTROL METHOD FOR MULTITARGET SPUTTERING DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
多元スパッタ成膜装置の二重シャッタ制御方法 - 特許庁
SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
焼結体及びスパッタリングターゲット並びにその製造方法 - 特許庁
COPPER MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
スパッタリングターゲット用銅材料及びその製造方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING ELECTRODE, FILM DEPOSITION SYSTEM, AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
マグネトロンスパッタ電極、成膜装置及び成膜方法 - 特許庁
PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET CONTAINING ZINC OXIDE例文帳に追加
酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
ALUMINUM SHEET FOR SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
スパッタリングターゲット用アルミニウム板、及びその製造方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND COPPER WIRING FILM例文帳に追加
スパッタリングターゲット、その製造方法および銅配線膜 - 特許庁
Then, an amorphous silicon film is formed through a sputtering method.例文帳に追加
つぎに、スパッタ法により、アモルファス・シリコン膜を形成する。 - 特許庁
PHASE CHANGE TYPE INFORMATION RECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加
相変化型情報記録媒体及びスパッタリングターゲット - 特許庁
Then titanium of a contact layer is deposited by sputtering.例文帳に追加
次に、スパッタリングによって密着層のチタンを堆積する。 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND PRODUCTION OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加
マグネトロンスパッタ法および磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁
PALLADIUM ALLOY SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加
Pd合金系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁
Furthermore, when performing the sputtering, ion bombarding treatment is performed.例文帳に追加
また、このスパッタリングを行う際、イオンボンバード処理を行う。 - 特許庁
SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE SINTERED BODY例文帳に追加
スパッタリングターゲット及び酸化物焼結体の製造方法 - 特許庁
A thin film of each layer is produced by magnetron sputtering.例文帳に追加
各層の薄膜は、マグネトロンスパッタリングにより作製される。 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加
スパッタリングターゲットとその製造方法、および電子部品 - 特許庁
SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTION LAYER AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
保護層形成用スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁
HIGH FREQUENCY SPUTTERING EQUIPMENT AND METHOD例文帳に追加
高周波スパッタリング装置及び高周波スパッタリング方法 - 特許庁
PLASMA SPUTTERING METHOD FOR FORMING THIN FILM, AND FILM- FORMING APPARATUS例文帳に追加
プラズマスパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置 - 特許庁
METAL MASK FOR SPUTTERING, COLOR FILTER, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
スパッタ用メタルマスク及びカラーフィルタ及びその製造方法 - 特許庁
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