「stencil process」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

Prior to a pattern boring process by dry etching, a stencil mask substrate 1 on a region 13 of a fine pattern is etched away along the depth to make the substrate film thickness less than that of a region 12, and then even a stencil mask substrate having various pattern sizes can be processed to precise size in the mask surface.例文帳に追加

ドライエッチングによるパターン開口工程に先立って、微細パターンの領域１３上のステンシルマスク基板１をエッチングによりエッチング深さ方向に除去し、基板膜厚を他の領域１２に対し薄膜化することにより、種々のパターン寸法が混在するステンスルマスク基板においてもマスク面内の寸法を精度よく加工することができる。 - 特許庁

To provide a mask pattern verification method, mask pattern generation method, pattern data processor, and program, for fast pattern verification to prevent destruction of a stencil mask using a simple graphic process.例文帳に追加

簡易な図形演算処理を用いて、ステンシルマスクの破壊防止のためのパターン検証を高速に行うことができるマスクパターン検証方法、マスクパターン作成方法、パターンデータ処理装置、およびプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a stencil mask which reduces flexure of a membrane resulting from ion beam heat generation, and has excellent heat resistance, durability, and ion implantation accuracy, in an ion implantation process.例文帳に追加

イオン注入工程において、イオンビーム発熱に起因したメンブレンのたわみを低減し、優れた耐熱性や耐久性およびイオン注入精度を有するステンシルマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an ink level detection device which can stably detect the availability of ink even in case there is the variation of peripheral environments such as temperature and humidity or the quality change of the ink with time, and a stencil process printing device and an ink level detection method.例文帳に追加

温湿度等の周囲環境の変化や、経時変化によるインキの変質があっても安定したインキの有無を検出することが可能なインキ量検知装置、孔版印刷装置およびインキ量検知方法を提供する。 - 特許庁

To provide a water base ink composition printing which contains lime and water and can be suitably used in printing using an automatic printing machine, particularly intaglio printing (gravure printing) or stencil printing (screen process printing).例文帳に追加

石灰と水を含む水性インク組成物であって、自動印刷機、特に凹版式印刷（グラビア印刷）や孔版式印刷（スクリーン印刷）を用いた印刷に好適に用いることができる印刷用水性インク組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a stencil process printing device with a plate cylinder equipped with a porous supporting plate which is movable in the axial direction of the plate cylinder and a mesh screen which can certainly prevent the side leakage of ink from occurring without making the device oversized.例文帳に追加

軸方向への移動が可能であると共に、装置を大型化することなく、かつ、多孔性支持板及びメッシュスクリーンからの脇漏れの発生を確実に防止することが可能な版胴を備えた孔版印刷装置を提供する。 - 特許庁

To prevent a stepping motor from developing an out of step malfunction, ensure the highly precise control of printing pressure and the consequent maintenance of a uniform picture quality, in a stencil process printing device wherein the printing pressure is adjusted by the stretching of a printing pressure spring by the rotation of the stepping motor.例文帳に追加

ステッピングモータを回転させて印圧バネの伸長で印圧を調整する孔版印刷装置において、ステッピングモータの脱調を防止でき、常に精度の高い印圧制御ができ、均一な画質を維持できるようにする。 - 特許庁

The process for fabricating a semiconductor device comprises a step for irradiating a substrate 12 being processed with charged particles 13 through a stencil mask 11 having an opening disposed oppositely to the substrate 12 being processed, wherein the potential difference between the stencil mask 11 and the substrate 12 being processed is regulated depending on the level of a current flowing between the substrate 12 being processed and the ground.例文帳に追加

被処理基板１２に対して対向して配置された、開口部を有するステンシルマスク１１を介して、前記被処理基板１２に荷電粒子１３を照射する工程において、前記被処理基板１２とグランドの間を流れる電流値に応じて、前記ステンシルマスク１１と前記被処理基板１２との電位差を調整することを特徴とする半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

A stencil mask manufacturing process in the preceding back etching process includes forming gradations of a film thickness of a resist left in a pattern field, after developing by adjusting the amount of exposed light, and selectively thinning a masking substrate film in a minute pattern formation field, with an aspect ratio higher than that of the surrounding region, prior to patterning.例文帳に追加

先行バックエッチングプロセスのステンシルマスク製造工程において、現像後のパターン領域のレジスト残膜厚に露光量を調整することにより階調をつけ、周辺領域よりアスペクト比が高い微細パターン形成領域のマスク基板膜厚を選択的にパターニング以前に薄膜化することにより、ステンシルマスクを形成する。 - 特許庁

In the imaging device 1 having an imaging part 2 and a paper feeding part 3, a stencil process printing unit 8 using a master 64 or a plateless imaging unit 9 not using the master 64 is selectively removable from the imaging part 2.例文帳に追加

画像形成部２と給紙部３とを有する画像形成装置１において、画像形成部２に対して、マスタ６４を用いる孔版印刷ユニット８とマスタ６４を用いない無版画像形成ユニット９とを選択的に着脱可能とした。 - 特許庁

In the master for thermal stencil process printing which has at least a porous resin film obtained by applying and drying a fluid on a thermoplastic resin film, irregularities are formed on the film surface in the master wrapping direction.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルム上に、流動体を塗布、乾燥してなる多孔性樹脂膜を少なくとも有する感熱孔版印別用マスターにおいて、マスターの巻き方向にフィルム面に凹凸を設けたことを特徴とする感熱孔版印刷用マスター。 - 特許庁

This used master scrapping device is equipped with a means 36 to make impossible the reuse of the master M which incapacitates the master M unloaded from a stencil process printing machine 10 in the state that the former is taken up by the core 22, and a master breakaway means 37 which makes the master M break away from the core 22.例文帳に追加

巻芯２２に巻き取られた状態で孔版印刷機１０から取り出されたマスタＭを、再使用不可能な状態に処理する再使用不可処理手段３６と、前記マスタＭを前記巻芯２２から離脱させるマスタ離脱手段３７と、を備える。 - 特許庁

To provide a stencil mask for ion implantation, which is used in an ion implantation process in the manufacture of a semiconductor device, has excellent ion irradiation resistance, and stably carries out high precision and high purity ion implantation for a long period of time.例文帳に追加

半導体デバイスの作製におけるイオン注入工程で使用するイオン注入用ステンシルマスクであって、イオン照射耐性に優れ、長時間に渡って、高精度かつ高純度のイオン注入を安定して行うことができるイオン注入用ステンシルマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a varnish coater which utilizes a stencil process printer of conventional common digital plate making-type and enables simple/convenient applying of a uniform varnish film to a specified area of the surface or cover of printed matter by any user.例文帳に追加

一般的な従来のデジタル製版式の孔版印刷装置を利用・活用して、誰でもが簡単手軽に、印刷物の表面や表紙等の所定エリアに均一皮膜のニス塗布を行うことを可能にするための孔版印刷装置を利用したニスコーティング装置を実現し提供する。 - 特許庁

This stencil mask 10 is used in the semiconductor lithography process for near exposure like the LEEPL and is provided with a supporting material 12 consisting of a Si substrate, a membrane 16 consisting of a Si film extended on the supporting material 12 via a SiO_2 film 14, and a groove type pattern 18 provided on the membrane 16.例文帳に追加

本ステンシルマスク１０は、ＬＥＥＰＬのような近接露光を行う半導体リソグラフィ工程で使用するステンシルマスクであって、Ｓｉ基板からなる支持体１２と、ＳｉＯ_２ 膜１４を介して支持体１２上に延在するＳｉ膜からなるメンブレン１６と、メンブレン１６に設けられた溝状のパターン１８とを備えている。 - 特許庁

To eliminate the continuous defective perforation in the processing for a stencil base paper using a perforation means such as a thick film thermal head or the like to prevent the generation of defective printings such as strike- through, set-off and others and achieve the simplification of a manufacturing process and the lowering the manufacturing cost and material cost while preventing the generation of paper wastes and resin wastes caused by the continuous defective perforation.例文帳に追加

厚膜式サーマルヘッドなどの穿孔手段を用いた孔版原紙の製版における連続穿孔不良を解消して、裏抜けや裏移りなどの印刷不良の発生を防ぐと共に、その連続穿孔不良に起因した紙滓や樹脂滓の発生を防ぎつつ、製造工程の簡素化および製造コストや材料コストのさらなる低廉化を達成する。 - 特許庁