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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > vacuum plating processに関連した英語例文

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vacuum plating processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 13



例文

The vacuum process is performed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method or the like.例文帳に追加

真空プロセスは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等である。 - 特許庁

To form a mirror face on which light is not scattered due to peeling or surface unevenness, by electroless plating without using a vacuum process.例文帳に追加

剥離や表面凹凸による光散乱が生じない鏡面を真空プロセスを用いることなく、無電解めっきにより形成する。 - 特許庁

On the base board the metal electrode is formed directly by vacuum evaporation process, PVD, CVD, MOCVD method such as sputtering, or by plating.例文帳に追加

金属電極は、真空蒸着法、スパッタリング等のPVD、CVD、MOCVD、メッキなどの方法で、絶縁基板上に直接形成される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing film carrier in which a resist pattern is stably formed using a batch type vacuum laminator for adhesion of dry film and a batch type vacuum ashing device for the ashing process and plating failure and adhesion failure in the mounting process are never generated.例文帳に追加

ドライフィルムの貼り合わせにバッチ式の真空ラミネータ装置、アッシングにバッチ式の真空アッシング装置を用いて、レジストのパターンを安定して形成し、まためっき不良や実装時の密着不良を発生させないフィルムキャリアの製造方法を提供すること。 - 特許庁

例文

The metal surface treatment method comprises: a process where a metal work is subjected to the conventional type bottom face lacquer treatment, and, thereafter, a vacuum plating film stage is introduced, thus a metal thin film layer is applied thereto, and transparent hard film lacquer protection is performed.例文帳に追加

金属ワークに対し、従来式の底面ラッカを経た後、真空めっき膜工程を導入することによって、金属薄膜層を被覆し、透明硬膜ラッカ保護を施す工程を含む金属表面処理方法。 - 特許庁


例文

To provide a plating solution which provides a high purity copper-indium-sulfur alloy coating film suitable as a light absorption layer of a CIS based solar battery by a non-vacuum process and in a system containing no selenium generating a poisonous gas.例文帳に追加

非真空のプロセスで、且つ、有毒ガスを発生するセレンを含まない系において、CIS系太陽電池の光吸収層として好適な、純度の高い銅−インジウム−硫黄合金皮膜を得ることができるめっき液を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum-film deposition apparatus and a vacuum film deposition method each using a pressure-gradient type ion-plating process which are adaptive even to film-deposition of an electrically conductive insulating material, achieve fully stable film deposition and continuous film-deposition on a target base material and stably provide a film-deposited base material.例文帳に追加

電気的絶縁性物質を成膜する場合にも対応でき、対象とする基材上に充分安定的に成膜することができ、且つ、連続的に成膜ができ、安定的に、成膜された基材を得ることができる、圧力勾配型イオンプレーティング方法を用いた真空成膜装置、真空成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition system and a vacuum film deposition method using a pressure gradient ion plating process capable of corresponding even to the case that an electrically insulating substance is film-deposited, capable of sufficiently stably depositing a film on a base material as an object, and also capable of obtaining a stably film-deposited base material.例文帳に追加

電気的絶縁性物質を成膜する場合にも対応でき、対象とする基材上に充分安定的に成膜することができ、且つ、安定的に、成膜された基材を得ることができる、圧力勾配型イオンプレーティング方法を用いた真空成膜装置、真空成膜方法を提供する。 - 特許庁

To omit a vacuum printing process for metallized paste on a green sheet in a manufacturing method for obtaining a ceramic wiring board, by forming a plated layer on large sintered ceramic through conduction from a common conductor layer for electrolytic plating in a recessed part on the side.例文帳に追加

焼成済セラミック大判に、側面の凹部の電解メッキ用共通導体層から導通をとってメッキ層を形成することでセラミック製配線基板を得る製法で、グリーンシートへのメタライズペーストの真空引き印刷工程を省略する。 - 特許庁

例文

A polymer having a carboxyl group is made to coexist in a ferrite plating reaction system in a ferrite plating reaction by a cold stirring process, thus the production of free ferrite particulates is suppressed, and consequently the method for producing the ferrite-coated metal magnetic particulates can employ a separation step by filtering or the like, a cleaning step by stirring and a drying step by vacuum drying or the like.例文帳に追加

常温撹拌法によるフェライトめっき反応において、前記フェライトめっき反応系に、カルボキシル基を有するポリマーを共存させることにより、遊離のフェライト微粒子の生成が抑制され、ろ過などの分離工程、撹拌による洗浄工程、真空乾燥などによる乾燥工程を採用したフェライト被覆金属磁性微粒子の製造方法。 - 特許庁

例文

In a vacuum vessel, metal fluoride such as magnesium fluoride (MgF_2) is heated and evaporated, further, fluorine-based gas such as carbon tetrafluoride (CF_4) is introduced therein, and a fluorine-based polymerized coating is formed on the surface of a base material by a composite ion plating process using plasma polymerization.例文帳に追加

真空容器内で、フッ化マグネシウム(MgF_2)等の金属フッ化物を加熱蒸発させるとともに、四フッ化炭素(CF_4)等のフッ素系ガスを導入し、プラズマ重合を用いた複合式イオンプレーティング法により基材の表面にフッ素系重合膜を形成する。 - 特許庁

To provide a primer coat which imparts high adhesive properties to a coating film formed by a vacuum plating process by applying one kind of primer coat without making the applied formation of discrete undercoats, to a resin which does not undergo a surface modification, even when it is merely exposed to a high frequency plasma or a CD plasma.例文帳に追加

単に高周波プラズマや直流プラズマに曝した程度では表面改質されない樹脂に、それぞれアンダーコートを塗り分けることなく、一種類のプラマーコートを塗布することで、真空メッキ法で成膜した膜に、高い密着性が得られるプライマーコートを提供する。 - 特許庁

例文

The method for producing the two-layer film includes a process for forming the first metal film containing nickel of 60-100 wt.% by a vacuum evaporation method, an ion plating method or a sputtering method under an atmosphere containing nitrogen gas on the polymer film; and a process for forming the second metal film having copper as the main component on the first metal film.例文帳に追加

高分子フィルム上に、窒素ガスを含む雰囲気下での、真空蒸着法またはイオンプレーティング法またはスパッタリング法によりニッケルを60重量%以上100重量%以下含む第1の金属膜を形成する工程と、第1の金属膜上に、銅を主成分とする第2の金属膜を形成する工程とを備える2層フィルムの製造方法。 - 特許庁




  
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