ろいことりえんでぃーふぉーじゅようたいの英語

この保持体１０は、コータデベロッパでのフォトリソグラフィー用樹脂の加熱硬化又は半導体絶縁膜の加熱焼成に用いられる。例文帳に追加

The holder 10 is used for hot curing of a resin for photolithography at a coater developer or for hot baking of a semiconductor insulating film. - 特許庁

この保持体１０は、コータデベロッパでのフォトリソグラフィー用樹脂の加熱硬化又は半導体絶縁膜の加熱焼成に用いられる。例文帳に追加

The holder 10 is used to the thermal curing of resin for photolithography in a coater developer and the heat baking of a semiconductor insulating film. - 特許庁

この保持体１０は、コータデベロッパでのフォトリソグラフィー用樹脂の加熱硬化又は半導体絶縁膜の加熱焼成に用いられる。例文帳に追加

The holder 10 is used for hot curing of the resin for photolithography at a coater developer as well as for hot baking of a semiconductor insulating film. - 特許庁

半導体基板１上に絶縁体膜２、下部電極膜３、誘電体膜４、上部電極膜５を順に積層させた積層構造の形成後に、フォトリソグラフィ技術を用いて積層構造上にフォトレジストを塗布し、上部電極加工用のフォトレジストパターン６を形成させる。例文帳に追加

An insulator film 2, a lower electrode film 3, a dielectric film 4 and an upper electrode film 5 are sequentially formed on a semiconductor substrate 1 to form a laminated layer structure, and a photo resist is coated on the laminated layer structure by a photolithography technique to form a photo resist pattern 6 for processing of an upper electrode. - 特許庁

情報端末機３は、サーバ５のパーソナルページ２５をアクセスし、大学情報検索フォーム２２に従ってエントリ大学ＤＢ１２上の大学情報を検索し、マッチングエントリフォーム２３に従って所望大学に対して個人情報を公開し、接触要求するマッチングエントリを行い、閲覧・返信フォーム２４に従って大学６からの返信確認、返信を行う。例文帳に追加

The information terminal 3 accesses a personal page 25 on the server 5 to retrieve university information in an entry university DB 12 according to a university information retrieval form 22, opens personal information to the desired university according to a matching entry form 23, makes a matching entry for a contact request, and performs replay confirmation and replaying from the university 6 according to a browsing and replying form 24. - 特許庁

ウエハ保持面の均熱性に優れ、コータデベロッパでのフォトリソグラフィー用樹脂膜の加熱硬化や、Ｌｏｗ−ｋのような低誘電率の絶縁膜の加熱焼成に好適に使用でき、装置全体の小型化が可能な半導体製造装置用保持体を提供する。例文帳に追加

To provide a holder for a semiconductor manufacturing apparatus having superior heat-uniformity of a wafer holding surface, which provides a suitable use for heat-hardening a resin film for photolithography in a coater/developer or for sintering an insulation film having a low dielectric constant such as Low-k, and furthermore allows down-sizing the entire apparatus. - 特許庁

フォトダイオードＰＤを含む画素セルＰＸx,y を半導体チップＩＣ上にマトリクス状に配列し、各画素セルにおいて、フォトダイオードＰＤによる入力画像情報を、抵抗回路網で拡散さて、２つの異なる時刻ｔ２，ｔ３におけるの拡散後の画像情報を得、これらの比を演算部１８でとるよう構成する。例文帳に追加

Pixel cells PXx,y including photodiodes PD are arrayed in matrix on a semiconductor chip IC, each pixel cell diffuses input image information obtained by the photodiode PD by a resistance network to obtain image information having been diffused at two different time points t2 and t3, and an arithmetic part 18 computes their ratio. - 特許庁