弦グラフの英語

アグラフ高さおよび弦挿通孔の向きを適切かつ容易に設定することができるとともに、所定の締め付け力でフレームに取り付けることができ、また、部品点数の削減および取り付け工数の大幅な削減を図ることができるピアノのアグラフを提供する。例文帳に追加

To provide an agraff of a piano, which allows adequate and easy setting of an agraff height and directions of string slots, is mountable at a frame with prescribed tightening force and is reduced substantially in the number of parts and the man-hours for mounting. - 特許庁

ＡＫ１００Ｄ−ＴＡＢの翼型形状を示すグラフであり、厚み比１０％、後縁タブ長８％翼弦長、後縁タブ角０°の例である。例文帳に追加

The graph shows the shape of the aerofoil section of AK100D- TAB, and the example having a thickness ratio 10%, chord length 8% of trailing edge tab length, and trailing edge tab angle 0°. - 特許庁

積層セラミックコンデンサ１０に１０ｋＨｚ以上の周波数を有する正弦波電圧を印加し、サーモグラフィを用いて、積層セラミックコンデンサ表面の温度を測定する。例文帳に追加

A sinusoidal voltage with a frequency of 10 kHz or higher is applied to a laminated ceramic capacitor 10, and then the surface temperature of the laminated ceramic capacitor is measured using thermography. - 特許庁

ホログラフィック露光法により基板１０上に格子溝に対応した正弦波状又は正弦半波状のレジストパターン２１を作製し、その後、ＣＦ_4をエッチングガスとしてブレーズ角と同じ角度で斜めからイオンビームを照射する第１エッチング工程によりレジストが約１／３の高さになるまで基板１０とレジスト２１とを削る。例文帳に追加

A sine-wave or sine-wave half-wave type resist pattern corresponding to grating grooves is formed on a substrate 10 by a holographic exposure method, and then the substrate 10 and resist 21 are etched until the resist reaches an approximately 1/3 height through a 1st etching stage of irradiating them with an ion beam obliquely at the same angle as a blaze angle while using CF_4 as etching gas. - 特許庁

このリソグラフィ技術において、マスクＭに吸収体ＡＢＳと段差部ＤＬを形成し、かつ、入射光ＩＬ２の方向余弦成分のうちマスク面内に射影される射影成分を段差部ＤＬの延在方向とほぼ直交させるように構成する。例文帳に追加

In this lithography technique, an absorber ABS and a difference DL in level are formed on the mask M, and a projective component projected on a mask surface out of a direction cosine component of the incident light IL2 is set to be almost orthogonal to an extending direction of the difference DL in level. - 特許庁