C. C. Liとは 意味・読み方・使い方

Also, a Li ion-conductive glass ceramic production method comprising heating the Li ion-conductive sulfide glass produced by the above Li ion-conductive sulfide glass production method to 200-360°C is provided.例文帳に追加

また、上記Ｌｉイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法により製造されたＬｉイオン伝導性硫化物ガラスを２００℃以上３６０℃以下で加熱するＬｉイオン伝導性硫化物ガラスセラミックスの製造方法である。 - 特許庁

A Li ion-conductive sulfide glass production method which is a method for producing a Li ion-conductive sulfide glass containing Li, P, and S and comprises vitrifying a raw material by mechanical milling at 60-160°C is provided.例文帳に追加

ＬｉとＰとＳとを含むＬｉイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法であって、原料を６０℃〜１６０℃でメカニカルミリング処理してガラス化させるＬｉイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法である。 - 特許庁

A diamond thin film piled on a diamond substrate or substrate material heated to ≥300°C and ≤2,000°C is irradiated with a particle containing at least S, a particle containing at least Li or a particle containing at least Cl.例文帳に追加

３００℃以上２０００℃以下に加熱されたダイヤモンド基板または基板素材上に堆積されたダイヤモンド薄膜に、少なくともSを含む粒子、少なくともLiを含む粒子,あるいはClを含む粒子を照射する。 - 特許庁

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次のタグを除く全てのガイドXMLタグの後で直ちに改行します。 (開始タグ、終了タグともに):comment,mailです。 - Gentoo Linux

To provide a roller hearth kiln for the heat treatment of an Li system material free from a phenomenon that a compound of a low melting point falls down even if the heat treatment of the Li system material is performed at a high temperature of 1,030°C or higher.例文帳に追加

Ｌｉ系原料を１０３０℃以上の高温で熱処理した場合にも、低融点化合物の流れ落ち現象を生ずることがないＬｉ系原料熱処理用のローラハースキルンを提供する。 - 特許庁

The manufacturing process for a (Li, Na, K)(Nb, Ta)O_3 type piezoelectric material comprises firing a formed article from powder particles constituted of a composition of (Li, Na, K) (Nb, Ta)O_3 at a specific temperature in the range of 850-1,000°C for a specific period of time.例文帳に追加

（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ_３の組成からなる粉末粒子の成形体を焼成することにより、（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ_３系圧電材料を製造する方法であって、８５０〜１０００℃の範囲内の一定温度で一定時間キープする。 - 特許庁

If the stored quantity of Li per unit area in the fully charged state of the negative electrode 12 is represented by A, the quantity of the Li which can be electrochemically stored per unit area is represented by B, and a maximum utilization factor C% is represented by (A/B)×100, the maximum utilization factor C% is not less than 35% and not more than 85%.例文帳に追加

負極１２の満充電状態における単位面積当たりのＬｉの吸蔵量をＡ、単位面積当たりにおける電気化学的に吸蔵可能なＬｉの量をＢとし、最大利用率Ｃ％を（Ａ／Ｂ）×１００とすると、最大利用率Ｃ％は３５％以上８５％以下となっている。 - 特許庁

A source material prepared by mixing an Ni compound and an Li compound as start materials is fired at a temperature of 618°C or lower in a non-oxidative atmosphere and then fired at a temperature of 618°C or higher in an oxidative atmosphere.例文帳に追加

出発原料であるＮｉ化合物とＬｉ化合物とを混合した原料を６１８℃以下の温度かつ非酸化雰囲気で焼成し、その後、酸化雰囲気かつ６１８℃以上の温度で焼成する。 - 特許庁