over exposureとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 露光過度
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over exposureの学習レベル | レベル:15 |
「over exposure」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 324件
An amount of over-exposure which a pattern size is stabilized and an amount of size variation when the object to be exposed is over-exposed in an mount of over-exposure is found.例文帳に追加
パターンサイズが安定化するオーバー露光量と、当該オーバー露光量でオーバー露光する場合の寸法変動量を求める。 - 特許庁
Dynamic range control amount is obtained from the amount of maximum over-exposure and dynamic range correcting amount is obtained from the number of estimated regions of over-exposure.例文帳に追加
この最大白トビ量からダイナミックレンジ制御量を取得し、また白トビ予想領域数からダイナミックレンジ補正量を取得する。 - 特許庁
As for the frame image, the area where the number of the filled under exposure pixels or over exposure pixels is larger than a threshold ψ is set as an under exposure area or over exposure area.例文帳に追加
そして、上記コマ画像について、充填されているアンダー露光画素またはオーバー露光画素の数が閾値ψより多い領域をアンダー露光領域またはオーバー露光領域に設定する。 - 特許庁
To perform exposure control over right and left imaging systems in optional timing.例文帳に追加
左右の撮像系を任意のタイミングで露光制御することができる。 - 特許庁
After the exposure operation is over, the substrate is lifted and isolated from the substrate table.例文帳に追加
露光動作が終了したら、基板を持ち上げて、基板テーブルから離す。 - 特許庁
A plurality of exposure patterns are formed with a kind of light shielding member by generating the phenomenon such as over exposure and/or under exposure in the pre-exposure and post-exposure processes.例文帳に追加
先の露光工程と後の露光工程において、オーバー露光及び/又はアンダー露光等の現象を生じさせることによって、一種類の遮光部材で複数の露光パターンを実現する。 - 特許庁
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「over exposure」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 324件
To perform auxiliary exposure over an entire image recording region without increasing an exposure apparatus in size, in an image information reading exposure apparatus having a line light source for performing reading scanning exposure and a panel light source for performing auxiliary exposure different from the reading scanning exposure.例文帳に追加
読取走査露光を行うためのライン光源と、読取走査露光とは異なる補助露光を行うためのパネル光源とを有する画像情報読取用露光装置において、露光装置を大型化することなく、画像記録領域全域に対して、補助露光を行う。 - 特許庁
To transfer a designated pattern well even when an exposure light over the wavelength of 200 nm is used in an exposure process using a resist mask.例文帳に追加
レジストマスクを用いた露光処理において波長200nmを越える露光光を用いる場合でも、所定のパターンを良好に転写する。 - 特許庁
The 1st lens 12 is irradiated with the parallel light and then uniform exposure is performed over wide area to enable exposure in wafer units.例文帳に追加
前記平行光を第1レンズ12に照射することで、広い面積にわたって均一な露光が可能となり、ウエハ単位での露光が可能となる。 - 特許庁
To provide a master disk exposure device which can bake the photoresist on a master disk uniformly over the entire circumference thereof and master disk exposure method.例文帳に追加
原盤上のフォトレジストを全周にわたって均一にベークできる原盤露光装置及び原盤露光方法を提供する。 - 特許庁
This is executed over a range from -9% of exposure value to +6% of exposure value, and is executed also as to an image of 20% gradation by the same manner.例文帳に追加
これを、−9%の露光量から+6に渡って実行し、さらに20%階調の画像についても同様に行う。 - 特許庁
An estimated saturation luminance value, produced by adding a predetermined value to the exposure value, is compared with the average luminance value of each regions to count the number of estimated over-exposure regions.例文帳に追加
露出値に所定の値を加算した飽和予想輝度値と領域毎の平均輝度値を比較し、白トビ予想領域数を数える。 - 特許庁
To get over the shortcoming of an exposure unit using a line print head, which performs exposure while displacing in parallel with an instant film.例文帳に追加
インスタントフイルムに対して平行移動しながら露光するラインプリントヘッドを用いた露光ユニットの欠点を克服する。 - 特許庁
To provide an exposure method by which deformation in a unit exposure region is rapidly measured with a high degree of accuracy, and patterns are overlaid over a substrate with a high degree of accuracy.例文帳に追加
単位露光領域内の変形を迅速に且つ高精度に計測し、基板上でのパターンの重ね合わせを高精度に行う露光方法。 - 特許庁
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