photo fieldとは 意味・読み方・使い方

The photographing element photo-electrically transfers an image of a field to be photographed based on a luminous flux from the photographing lens to produce an image signal.例文帳に追加

撮像素子は、撮影レンズからの光束に基づく被写界の像を光電変換して画像信号を生成する。 - 特許庁

The source/drain areas of a CMOS-type field effect transistor with low off current can be formed only of one photo process.例文帳に追加

オフ電流の低いＣＭＯＳ型電界効果トランジスタのソース・ドレイン領域を１回のフォト工程のみで形成できる。 - 特許庁

Then the image forming lens 9 is controlled in such a way that the image of photo-electrons emitted from index substance 13 is formed in a field restricting aperture 20.例文帳に追加

そして、指標物質１３から放出される光電子が視野制限絞り２０に結像されるように、結像レンズ９を制御する。 - 特許庁

The critical size and the process latitude of the main feature can be improved by strengthening photo-field effect interference or can be deteriorated by weakening photo-field effect interference in accordance with the phase of an electric filed, which is generated by the adjacent feature.例文帳に追加

隣接するフィーチャによって生成される電界の位相に応じて、主フィーチャの臨界寸法およびプロセスラチチュードを、強め合う光電界干渉によって改善するか、または弱め合う光電界干渉によって劣化させることができる。 - 特許庁

An exposure field detection processing 102 identifies number of exposure fields and their positions from an unenhanced digital X-ray photo 101 but includes the exposure fields and an exposure field extract processing 103 generates each exposure field 104A or the like.例文帳に追加

複数の露光フィールドを含む未強調のデジタルＸ線写真１０１から、露光フィールド検出処理１０２により、露光フィールドの数とその位置を識別し、露光フィールド取出し処理１０３により、各露光フィールド１０４Ａ等を作成する。 - 特許庁

Each pixel portion P_m, n dominates a nearly square-shaped area, most of which is a photo diode PD region, and a field effect transistor as the swich SW_1 for reading out is formed at one corner of the photo diode PD region.例文帳に追加

各画素部Ｐ_ｍ,ｎは略正方形の領域を占めていて、その領域の殆どの部分がフォトダイオードＰＤの領域であり、その領域の一つの角部に読出用スイッチＳＷ_１としての電界効果トランジスタが形成されている。 - 特許庁

A first photo-resist is formed for exposing the field region defined in the peripheral region; and the pad nitride film 22, the pad oxide film 21, and the semiconductor substrate 20 are etched by using the first photo-resist as a mask so that a second trench 25 can be formed.例文帳に追加

ペリ領域に定義されたフィールド領域を露出させる第１フォトレジストを形成し、第１フォトレジストをマスクとしてパッド窒化膜２２とパッド酸化膜２１と半導体基板２０をエッチングして第２トレンチ２５を形成する。 - 特許庁

A light source control part 50a of the image processing apparatus 50 controls a light source 10 irradiating an object 2 to be turned on while a photo-diode corresponding to the odd-numbered field of an imaging apparatus 20 generates a charge, and to be turned off while the photo-diode corresponding to an even-numbered field generates a charge, based on a vertical synchronization signal included in a video signal output by the imaging apparatus 20.例文帳に追加

画像処理装置５０の光源制御部５０ａは、撮像装置２０が出力するビデオ信号に含まれる垂直同期信号に基づいて、撮像装置２０の奇数フィールドに対応するフォトダイオードが電荷を生成している間に点灯し、偶数フィールドに対応するフォトダイオードが電荷を生成している間に消灯するように、被写体２を照射する光源１０を制御する。 - 特許庁