あぐろふぉれすとりーの英語

各フォトリソグラフィ工程を行った際には、当該フォトリソグラフィ工程で形成されるフォトレジストパターンの重ね合わせ誤差を測定し、測定した重ね合わせ誤差から当該フォトリソグラフィ工程での露光補正値（アライメント補正値）を算出する。例文帳に追加

In each photolithography process, an alignment error of a photo resist pattern generated in the photolithography process is measured and then an exposure correction value (alignment correction value) for the photolithography process is calculated from the measured alignment error. - 特許庁

半導体基板上にマイクロレンズとするための樹脂層を形成し、樹脂層の上にフォトレジスト層を形成した後、同フォトレジスト層をフォトリソグラフィーによってパターンニングして、マトリクス状に相互に近接配置された平面視矩形の多数のフォトレジストパターンを形成する。例文帳に追加

A resin layer to be microlenses is formed on a semiconductor substrate, and after a photoresist layer is formed on the resin layer, the photoresist layer is patterned by photolithography to form a large number of photoresist patterns mutually closely arranged in a matrix shape each rectangular-shaped in plan view. - 特許庁

フォトリソグラフィ処理によってフォトレジスト膜を選択的に露光してパターニングすることにより、開口部１３２ｘを有するフォトレジストパターン１３２ａを形成する。例文帳に追加

A photoresist pattern 132a having an opening part 132x is formed by selectively exposing the photoresist film for patterning in a photolithography process. - 特許庁

新しい Java プラットフォームを登録するには、メインメニューから「ツール」「Java プラットフォームマネージャー」を選択し、Java プラットフォームを含むディレクトリとデバッグに必要なソースおよび Javadoc を指定します。例文帳に追加

To register a new Java platform, choose Tools Java Platform Manager from the main menu. Specify the directory that contains the Java platform as well as the sources and Javadoc needed for debugging.発音を聞く  - NetBeans

また、グループ宛先のエクスポートまたはインポートが指示されたとき、インポート／エクスポート部３６が、選択されたグループ宛先の指定フォルダへの出力、選択されたフォルダのグループ宛先の取り込みを実行する。例文帳に追加

Furthermore, when it is instructed to export or import the group destination, an import/export unit 36 outputs the selected group destination to a designated folder and captures the group destination from a selected folder. - 特許庁

ドライバと一体に昇降するドライバカムフォロワ24にアンビル25を前後揺動自在に取付け、フォーミングプレート30による直線ステープルのフォーミング時にステープルSの中間部位を支持させる。例文帳に追加

An anvil 25 is attached to a driver cam follower 24, which is integrally raised and lowered along with the driver, in a freely forwardly and rearwardly slidable manner and allowed to support the intermediate region of a staple S at the time of formation of a linear staple due to a forming plate 30. - 特許庁

前後進切換機構４は、遊星歯車機構１０、フォワードクラッチ２０、リバースブレーキ３０、フォワードクラッチ２０用のアクチュエータ４０と、リバースブレーキ３０用のアクチュエータ５０とを含む。例文帳に追加

The forward/backward travel switching mechanism 4 includes a planetary gear mechanism 10, a forward clutch 20, a reverse brake 30, an actuator 40 for the forward clutch 20, and an actuator 50 for the reverse brake 30. - 特許庁

Java プラットフォームマネージャー (JPM) を使ってプラットフォームを追加する場合、このツールのブラウザはあらゆる J2ME Wireless Toolkit ディレクトリを認識し、ファイルダイアログでは、それらディレクトリに適切なアイコンを付けます。例文帳に追加

When adding the platform using the Java Platform Manager (JPM), the tool'sbrowser recognizes any J2ME Wireless Toolkit directories and marks them with the appropriate icon in the file dialog. - NetBeans