なえしろ２ちょうめの英語

タイヤ２は、トレッド面の周長Ｌｔに対して７０％以上１００％以下の周長Ｌｂを有するベルト１６を備えている。例文帳に追加

The tire 2 is provided with a belt 16 having peripheral length Lb of 70% to 100% relative to peripheral length Lt of a tread surface. - 特許庁

キャリア２の上部内壁面２ａに膨張収縮可能なエアバッグ１６を設ける。例文帳に追加

An air bag 16 capable of swelling and contracting is provided on an internal wall face 2a of an upper part of a carrier 2. - 特許庁

導電板部材８に備えられるばね部材９の自然長は０．１〜２ｍｍ程度に設定する。例文帳に追加

A natural length of the spring member 9 being provided on the conductive plate member 8 is set to be about 0.1 to 2 mm. - 特許庁

Ｒ（４５０）＜Ｒ（５５０）＜Ｒ（６５０） （７） Ｌ=〔((450/550)-R(450)/R(550))^2+((650/550)-R(650)/R(550))^2〕^1/2＜0.10 （８） 〔式中、R(450)、R(550)、R(650)は、それぞれの波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける高分子配向フィルムの面内位相差である。例文帳に追加

The retardation at 450 nm, 550 nm and 650 nm wavelengths of the retardation film satisfies the following relation (7) and (8). - 特許庁

２　前項の帳簿書類の記載及び備付けについては、職業安定局長の定めるところによる。例文帳に追加

(2) The entry and installation of the books and records set forth in the preceding paragraph shall be conducted as determined by the Director-General of the Employment Security Bureau.発音を聞く  - 日本法令外国語訳データベースシステム

調光制御装置１は、照明器具２の調光レベルを制御する調光回路が実装された調光回路基板５０と、調光回路基板５０を内部に収納する器具本体１００を備える。例文帳に追加

The light control device 1 is provided with a light control circuit board 50 on which a light control circuit for controlling the light control level of the lighting fixture 2 is mounted and a lighting fixture body 100 which houses the light control circuit board 50 inside. - 特許庁

芳香発生装置３０は、外部信号により、2以上の芳香物質を任意の割合で調合するための調合手段を備えてなる。例文帳に追加

This aroma emitting device 30 is provided with a preparation means preparing two or more aromatic substances of an arbitrary ratio by an external signal. - 特許庁

細胞培養施設は、細胞調製に関わる作業を行うための作業室（細胞調製室２）と、この作業室（細胞調製室２）内に清浄空気を供給するための給気経路２４と、作業室（細胞調製室２）内の空気を清浄化した後、排出する排気経路２８とを備える。例文帳に追加

The cell culture facility is equipped with a working room (cell preparation room 2) for carrying out a cell preparation work, an air feed path 24 for feeding clean air into the working room (cell preparation room 2) and an exhaust path 28 for exhausting air in the working room (cell preparation room 2) after cleaning the same. - 特許庁