ぬぐい液の英語

そして、その洗浄液４０は、洗浄液流出部２１、２１１より下方に配置された洗浄液収集部２３、２３１により拭い取られ、洗浄液収集部２３、２３１の溝部を通って洗浄液回収タンク２４に流れ込み回収される。例文帳に追加

The cleaning liquid 40 is scraped off by cleaning liquid collecting sections 23, 231 disposed at lower parts of the cleaning liquid outlet sections 21, 211, and flows into the cleaning liquid collection tank 24 through grooves of the cleaning liquid collecting sections 23, 231 to be collected. - 特許庁

水分および油分という液体の拭き取り性に加えて、対象物を磨いたり、汚れや細かい粉塵等を拭い取る機能も担うことができる拭き布を提供する。例文帳に追加

To provide a wiping cloth having functions of polishing objects and wiping off stains and fine dust and the like as well as of wiping off liquids including water and oil. - 特許庁

弁当等をパック詰めする工場等において、作業者が作業台から離れずに、その場所で直ちに手や手袋等を消毒液で殺菌し、また、手拭いで手や手袋等を拭うことができようにする。例文帳に追加

To enable a worker to sterilize hands and gloves or the like with an antiseptic solution immediately at the position where the worker works and to wipe the hands and the gloves or the like with a towel, without leaving from a working table, in a factory or the like where pack stuffing of box lunches or the like is carried out. - 特許庁

そして、ピニオン３９に歯合するラック４１が設けられた操作棒４０を進退させると、溶液槽収納部３２が回転し、基板保持台３１上の半導体基板４６,４７に対する溶液の接触と拭い取りとが自動的に行われる。例文帳に追加

When the operation lever 40 equipped with a rack 41 biting to the pinion 39 is allowed to move back and forth, the solution tank housing 32 is rotated and the solution is automatically brought into contact with and wiped off from the semiconductor substrates 46, 47 on the substrate-holding stand 31. - 特許庁

このプライミング処理装置は、プライミングローラ１４の周囲に回転方向に沿って、洗浄パッド２０を有する粗洗浄処理部１８と、２流体ジェットノズル４２を有する仕上げ洗浄処理部３８と、拭いパッド５２を有する液滴除去部４８と、隙間５８およびガスノズル６０を有する乾燥ブロー部５０とを配置している。例文帳に追加

In a priming treatment apparatus, a coarse cleaning treatment part 18 having a cleaning pad 20 around the priming roller 14 along the rotation direction, a finishing cleaning treatment part 38 having a twin fluid jet nozzle 42, a droplet removing part 48 having a wiping pad 52 and a drying blow part 50 having a gap 58 and a gas nozzle 60 are arranged. - 特許庁

このプライミング処理装置は、プライミングローラ１４の周囲に回転方向に沿って、洗浄パッド２０を有する粗洗浄処理部１８と、２流体ジェットノズル４２を有する仕上げ洗浄処理部３８と、拭いパッド５２を有する液滴除去部４８と、隙間５８およびガスノズル６０を有する乾燥ブロー部５０とを配置している。例文帳に追加

A priming treatment apparatus comprises a roughly cleaning treatment part 18 having a cleaning pad 20 on the circumference of a priming roller 14 along a rotation direction, a finishing cleaning treatment part 38 having a 2-fluid jet nozzle 42, a droplet removal part 48 having a wiping pad 52, and a drying blow part 50 having a gap 58 and a gas nozzle 60. - 特許庁