はいぐうたいふわごうせいの英語

本発明は、ドーピング処理後の半導体膜の結晶性の回復、不純物元素の活性化および配線形成後のコンタクト抵抗の低減を行なうために、配線形成後に基板の裏面側からレーザ光を照射することを特徴とする。例文帳に追加

In order to recover crystallinity of a semiconductor film after a doping process, activate impurity elements, and reduce contact resistances after the formation of a wiring, a laser beam is irradiated from the backside of the substrate after the formation of a wiring. - 特許庁

超伝導マグネットのための構造体（２６）は、熱伝導性で電気抵抗性の複合ボビン（４２）と、電流を超伝導状態で導通させるために該熱伝導性電気抵抗性複合ボビン（４２）の周りに配置させた超伝導コイル（４６）と、を含む。例文帳に追加

The structure 26 for the superconducting magnet includes a composite bobbin 42 of thermal conductivity and electric resistivity, and a superconducting coil 46 disposed around the bobbin 42 for conducting current in superconductive condition. - 特許庁

我々は，2012年末までに具体的な結果を伴う，世界銀行の不正蓄財回収（StAR）イニシアティブを基礎とする財産回復のための枠組み，公益通報者の保護，腐敗した公務員の入国拒否，及び公平で透明な公共調達を含む公共部門の透明性を含む作業計画に同意する。例文帳に追加

We agree on a work program which includes a framework for asset recovery, building on the World Bank's Stolen Asset Recovery (StAR) Initiative, whistle-blowers' protection, denial of entry to corrupt officials and public sector transparency, including fair and transparent public procurement, with concrete results by the end of 2012.発音を聞く  - 財務省

旋回フレーム４を構成する底板４Ａの前端部と上板４Ｄの前端部との間にはボス部１２を設け、このボス部１２の両端側には、スイングポスト１５のブラケット部１６，１７を配置する。例文帳に追加

A boss part 12 is provided between the front end of a bottom plate 4A and the front end of an upper plate 4D constituting a turn frame 4, and the bracket parts 16, 17 of a swing post 26 are arranged on both the end sides of the boss part 12. - 特許庁

ビフェニル骨格を有する単官能性不飽和基含有芳香族化合物と必要に応じてそれ以外の構造を有する単官能性不飽和基含有芳香族化合物、グリシジル基またはメチルグリシジル基を含有する単官能性（メタ）アクリレート化合物、および単官能性（メタ）アクリルアミド化合物またはアミノ（メタ）アクリレート化合物からなる共重合体を合成し、希釈剤を配合することにより樹脂組成物を調製する。例文帳に追加

The resin composition is obtained by synthesizing a copolymer made from a monofunctional unsaturated group-containing aromatic compound having a biphenyl skeleton and, as necessary, a monofunctional unsaturated group-containing aromatic compound having another structure, a monofunctional (meth)acrylate compound containing glycidyl or methylglycidyl group, and a monofunctional (meth)acrylamide compound or amino(meth)acrylate compound, followed by compounding a diluent in the copolymer. - 特許庁

水硬性組成物用添加剤は、（イ）不飽和モノカルボン酸及び不飽和ジカルボン酸からなる群より選ばれる１種以上の単量体を重合して得られる重合体又は共重合体の水溶性塩と、（ロ）糖及び糖アルコールからなる群より選ばれる１種以上の化合物とを重量比で（イ）／（ロ）＝97／３〜20／80の割合で含有してなる。例文帳に追加

The objective additive for a hydraulic composition contains (A) a water-soluble salt of a polymer or copolymer produced by polymerizing one or more monomers selected from unsaturated monocarboxylic acids and unsaturated dicarboxylic acids and (B) one or more compounds selected from sugars and sugar alcohols at an (A/B) weight ratio of 97/3 to 20/80. - 特許庁

ポリッシング装置１０１は、定盤２と、被研磨物である半導体ウェハ３が貼り付けられたウェハ保持治具４を定盤２の研磨面に押しつけるフィクスチャー５と、研磨砥液６を供給する研磨剤供給部１０２と、研磨屑１１を含む研磨砥液６を洗い流す流体噴射部１０３とで構成され、研磨剤供給部１０２を定盤２の回転方向に対しウェハ保持治具４の上流側でかつ定盤２の半径方向に配置し、研磨により生じる研磨屑１１を含む研磨砥液６を定盤２上から洗い流すための流体を噴射する流体噴射部１０３をウェハ保持治具４の下流側でかつ定盤２の半径方向に配置する。例文帳に追加

The fluid jet part 103 ejecting fluid for washing away the abrasive fluid 6 including the polishing chips 11 generated by the polishing is disposed in the downstream of the wafer retainer jig 4 and in the radius direction of the surface plate 2. - 特許庁

多塩基酸緩衝系、フッ化物系、水、該水溶性組成物用の水混和性有機溶媒を含み、随意に、キレート剤、金属腐食防止剤及び界面活性剤を含んでいてもよいCu低K誘電性半導体装置からエッチング及びアッシング後の残渣を除去するのに有用な水溶性及び半水溶性配合物。例文帳に追加

An aqueous and semi-aqueous composition, useful for removing residue after etching and ashing from a Cu low K dielectric semiconductor devices, contains a polyprotic acid buffer system, a fluoride system, water, and an water-miscible organic solvent for an aqueous composition, and may freely contain a chelating agent, a metal corrosion inhibitor and a surfactant. - 特許庁