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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 日英固有名詞辞典 > ふじきの3ちょうめの解説 

ふじきの3ちょうめの英語

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日英固有名詞辞典での「ふじきの3ちょうめ」の英訳

ふじきの3ちょうめ

地名

英語 Fujikino 3-chome

ふじき丁目


「ふじきの3ちょうめ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 23



例文

藤原原子(ふじわらのげんし(もとこ)、天元(日本)3年(980年)頃?-長保4年8月3日(旧暦)(1002年9月12日))は、平安時代中期の皇妃。例文帳に追加

FUJIWARA no Genshi (around 980? - September 12, 1002) was a wife of an Imperial Family member who lived in the middle era of the Heian period.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

長徳元年(995年)に関白藤原道隆が病気のために2月5日・16日・4月3日に上表して辞任が認められた例。例文帳に追加

In 995, when Kanpaku (chief adviser to the Emperor) FUJIWARA no Michitaka handed his Johyo three times on February 5, 16th and April 3, due to illness, his resignation was accepted.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

藤原嫄子(ふじわらのげんし(もとこ)、長和5年7月10日(旧暦)(1016年8月15日)-長暦3年8月28日(旧暦)(1039年9月19日))は、平安時代中期の皇妃。例文帳に追加

FUJIWARA no Genshi (Motoko) (August 21, 1016 - September 25, 1039) was an empress consort in the middle of the Heian period.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

上記の方法により製造され、不純物として1×10^20cm^-3のAlおよび2×10^18〜7×10^18cm^-3のNを含有することを特徴とするp型SiC半導体単結晶。例文帳に追加

A p-SiC semiconductor single crystal containing as impurities10^20 cm^-3 Al and10^18 to10^18 cm^-3 N is also provided. - 特許庁

(d) ハンガリー特許庁が(3)又は(4)に定める期限の不遵守に関して原状回復請求を認めたことを理由として,意見書を付した調査報告が付与された出願日から第6月の末日の後に郵送されない場合例文帳に追加

(d) the search report supplemented with a written opinion was not mailed after the last day of the sixth month from the accorded filing date because the Hungarian Patent Office admitted a request for restitution in integrum concerning a failure to comply with a time limit fixed in paragraph (3) or (4). - 特許庁

本発明の膨張黒鉛シートの使用方法は、外壁と内壁の間に、かさ密度0.7〜1.g/cm^、厚み0.2〜1.0mm、不純物含有量10ppm以下の膨張黒鉛シートを挟んで用いるものである。例文帳に追加

The method of using an expanded graphite sheet comprises using an expanded graphite sheet having a bulk density of 0.7-1.3 g/cm^3, a thickness of 0.2-1.0 mm, and an impurity content of 10 ppm or smaller by interposing the sheet between an outer wall and an inner wall. - 特許庁

例文

(3) 優先権主張に必要な出願について工業所有権の保護に関するパリ条約第4条により定められ,又は国内優先権の主張について規定(第61条(1)(c)される12月の期限の不遵守の場合は,原状回復請求は,当該期限の最終日から2月以内に認められる。例文帳に追加

(3) In the event of failing to comply with the time limit of twelve months fixed by Article 4 of the Paris Convention for the Protection of Industrial Property for filing the application necessary for claiming priority or prescribed for claiming internal priority [Article 61(1)(c)], a request for restitution in integrum shall be admissible within two months of the last day of that time limit. - 特許庁

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「ふじきの3ちょうめ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 23



例文

(3) 特許出願が所定の要件を満たしていないか又は部分的にのみ満たしている場合は,特許庁は,このことを出願人に通知して要件の不遵守について説明し,かつ,不備を除去し,不備についての考えを表明するための3月の期間を決定する。例文帳に追加

(3) If the patent application does not conform or conforms partly with the specified requirements, the Patent Office shall notify the applicant thereof, explaining the non-conformity, and shall determine a time period of three months for the elimination of the deficiencies and for the expression of their considerations. - 特許庁

(3) 特許出願が本条の要件を満たしていないか又は部分的にのみ満たしている場合は,特許庁は,このことを出願人に通知して当該不遵守について説明し,かつ,指摘された不備を除去するための3月の期間を決定する。例文帳に追加

(3) If the patent application does not conform or partially conforms with the requirements of this Section, the Patent Office shall notify the applicant thereof, explaining the non-conformity, and shall determine a time period of three months for the elimination of the specified deficiencies. - 特許庁

空気の供給・排出によって膨張・収縮自在に形成され膨張による浮力で底網を水面に浮上させる浮き袋5を底網に取り付ける。例文帳に追加

Floats 5 formed freely as expanded or shrank by the feeding or exhausting of air and capable of floating the bottom net to water surface by the buoyancy of its expansion, is attached to the bottom net 3. - 特許庁

原状回復は,次の場合は排除される。 (a) 優先権宣言書の提出のために定められた期限(第53条(2))の不遵守の場合 (b) 条約による優先権又は博覧会優先権を主張するために定められた6月の期限の不遵守の場合 (c) 異議を申し立てるために定められた期限(第61/B条(1)及び(2)並びに第76/P条(3))の不遵守の場合 (d) 加速手続請求の提出のために定められた期限(第64/A条(1))の不遵守の場合例文帳に追加

Restitutio in integrum shall be excluded: (a) in the event of failing to comply with the time limit prescribed for filing the declaration of priority [Article 53(2)]; (b) in the event of failing to comply with the time limit of six months fixed for claiming convention or exhibition priority; (c) in the event of failing to comply with the time limit prescribed for filing the opposition [Article 61/B(1) and (2) and Article 76/P(3)]; (d) in the event of failing to comply with the time limit fixed for submitting the request for accelerated procedure [Article 64/A(1)]. - 特許庁

その象徴が永祚(日本)元年(989年)3月に予定されていた一条天皇の春日大社(藤原氏の氏社)行幸が、陰陽頭賀茂光栄の勘文を受けた円融法皇の命令で延期の宣旨が出された。例文帳に追加

The case of the imperial visit of the Emperor Ichijo to Kasuga-taisha Shrine (guardian god of the Fujiwara clan) planned for March 989 was symbolic to such situations where a senji to postpone the imperial visit was issued based on the order by the Cloistered Emperor Enyu, who received a kanmon (report) from Onmyo no kami (the head of Onmyoryo, or Bureau of Divination), KAMO no Mitsuyoshi.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

次に、開リミットスイッチLS2がオフ状態からオン状態に変化するまで駆動軸を開方向へ動作させ(矢印())、その時のポテンショメータの出力値を第2の調整値として記憶する。例文帳に追加

Then, the driving shaft is operated in the opening direction until a closed limit switch LS2 is changed from an OFF-state into an ON-state (Arrowmark 3), and an output value for the potentiometer at this time is stored as a second adjusted value. - 特許庁

シリコン基板1上に素子分離領域2を形成した後、Pウェル層を形成し、これにしきい値電圧Vth調整用のイオン注入を行った後、ジシランを含む混合気体等を原料として、アクティブ領域のみに、選択的に不純物濃度1E14〔cm^-3〕以下の低不純物濃度シリコン層6のエピタキシャル成長を行う。例文帳に追加

After an element separation area 2 is formed on a silicon board 1, a P well layer 3 is formed, after ion injection for threshold voltage Vth regulation is performed thereon, mixture gas or the like containing disilane is made a raw material, and epitaxial growth of the silicon layer 6 of low impurity concentration of impurity concentration 1E14 [}cm-3] less is selectively performed. - 特許庁

例文

(2) 出願が第28条(2),(3)及び(4)の要件を満たしていないか又は部分的にのみ満たしている場合は,特許庁は,このことを出願人に通知して要件の不遵守について説明し,かつ,指摘された不備を除去するための2月の期間を決定する。例文帳に追加

(2) If the application does not conform or partially conforms with the requirements of Section 28, Paragraphs two, three and four of this Law, the Patent Office shall notify the applicant thereof, explaining the non-conformity, and shall determine a time period of two months for the elimination of the indicated deficiencies. - 特許庁

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1
Fujikino 3-chome 日英固有名詞辞典

2
ふじき野3丁目 日英固有名詞辞典

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