ふじきの１ちょうめの英語

生まれて初めて富士山を祀る神社に参拝する行事で、山開きの日（多くは6月1日）の例祭に、初山団扇と呼ばれる団扇を購入して親類縁者に配り、子供の成長の御礼と報告を兼ねる場合が多い。例文帳に追加

In an event that a child visits the shrine where Mt. Fuji is enshrined for the first time, his or her parents buy Uchiwa fan called Hatsuyama Uchiwa in the annual festival held on the opening day of a mountain to climbers (usually June 1), distributing it to relatives for expressing their appreciation and telling relatives about their child's growth.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

上記の方法により製造され、不純物として１×１０^20ｃｍ^-3のＡｌおよび２×１０^18〜７×１０^18ｃｍ^-3のＮを含有することを特徴とするｐ型ＳｉＣ半導体単結晶。例文帳に追加

A p-SiC semiconductor single crystal containing as impurities 1×10^20 cm^-3 Al and 2×10^18 to 7×10^18 cm^-3 N is also provided. - 特許庁

地下に埋設する金属製のガスタンク１であって、その周面にガスタンク１が浮上するのを防止するための突起３を備え、突起３がガスタンク１を地中に埋設するときにガスタンク１を回転・貫入させる回転貫入用羽根として機能することを特徴とする地下ガスタンク。例文帳に追加

The projection 3 functions as a blade for rotary intrusion which rotates and intrudes the gas tank 1 when the gas tank 1 is buried underground. - 特許庁

シリコン基板１上に素子分離領域２を形成した後、Ｐウェル層３を形成し、これにしきい値電圧Ｖｔｈ調整用のイオン注入を行った後、ジシランを含む混合気体等を原料として、アクティブ領域のみに、選択的に不純物濃度１Ｅ１４〔ｃｍ^-3〕以下の低不純物濃度シリコン層６のエピタキシャル成長を行う。例文帳に追加

After an element separation area 2 is formed on a silicon board 1, a P well layer 3 is formed, after ion injection for threshold voltage Vth regulation is performed thereon, mixture gas or the like containing disilane is made a raw material, and epitaxial growth of the silicon layer 6 of low impurity concentration of impurity concentration 1E14 [}cm-3] less is selectively performed. - 特許庁

2006年11月に奈良県他により「飛鳥・藤原－古代日本の宮都と遺跡群」として暫定リスト追加掲載の提案が行われ、翌2007年1月23日、文化庁が富岡製糸場（群馬県富岡市など）、富士山（山梨県・静岡県）、長崎の教会群とキリスト教関連遺産（長崎県長崎市など）とともに追加申請を決めた。例文帳に追加

Nara Prefecture and others proposed the additional inscription of 'Asuka-Fujiwara: Archaeological sites of Japan's Ancient Capitals and Related Properties' on the Tentative List in November 2006 and the Agency for Cultural Affairs decided to apply for it together with Tomioka Seishi-jo (Tomioka Silk Mill) (Tomioka City, Gunma Prefecture, etc.), Mt. Fuji (Yamanashi Prefecture, Shizuoka Prefecture) and Churches and Christian Sites in Nagasaki (Nagasaki City, Nagasaki Prefecture, etc.) on January 23, 2007.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

期限の不遵守は，行為を履行すべきであった期間の満了から1年の期間の満了後は許容することができない。また，優先権の主張と証明の期限，特許出願の完全審査請求の期限，及び第28条(3)に基づく手続の継続請求の期限の不遵守も同様に許容することができない。例文帳に追加

Failure to comply with a time limit may not be excused after expiry of a period of one year as from expiry of the period within which the act should have been performed, failure to comply with a time limit for claiming and proving a priority right or for filing a request for full examination of an application for an invention or a request for continuation of the procedure under Section 28(3) may likewise not be excused.発音を聞く  - 特許庁

第九条　内閣総理大臣は、第五条第一項及び第六項若しくは第七条の規定による届出書類に形式上の不備があり、又はその書類に記載すべき重要な事項の記載が不十分であると認めるときは、届出者に対し、訂正届出書の提出を命ずることができる。この場合においては、行政手続法（平成五年法律第八十八号）第十三条第一項の規定による意見陳述のための手続の区分にかかわらず、聴聞を行わなければならない。例文帳に追加

Article 9 (1) When the Prime Minister finds any deficiencies in formalities in the statement set forth in Article 5(1) and other documents set forth in Article 5(6) or Article 7, or finds insufficiency of the statements on important matters to be stated therein, he/she may order the person submitting them to submit an amendment. In this case, a hearing shall be held irrespective of the categories of procedures for hearing statements of opinion under Article 13(1) of the Administrative Procedure Act (Act No. 88 of 1993).発音を聞く  - 日本法令外国語訳データベースシステム

意匠が第4条，第9条2)及び4)若しくは第10条 (1)若しくは(2)の要件の何れかに違反している場合，登録出願が第19条及び第33条 (3)に規定する実体及び方式の要件を遵守していない場合，又は出願人が第31条 (3)に定める通知に応じて登録出願における不備の除去若しくは説明の提出をしなかった若しくは不十分な説明を提供した場合は，特許庁は，意匠登録を拒絶する旨の決定をし，出願人にその旨を書面をもって通知するものとする。例文帳に追加

If an industrial design is contrary to any of the requirements of § 4, clauses 9 2) and 4) or subsection 10 (1) or (2) of this Act, or the registration application fails to comply with the substantive and formal requirements provided for in § 19 and subsection 33 (3) of this Act or the applicant, upon responding to the notification specified in subsection 31 (3), has failed to eliminate the deficiencies in the registration application or to provide explanations or provides insufficient explanations, the Patent Office shall make a decision to refuse registration of the industrial design and shall notify the applicant thereof in writing.発音を聞く  - 特許庁