アクセプタ濃度の英語

これにより、軟らかいアクセプター性を有する金属イオンの析出反応が促進され、黒の書き込み濃度の温度依存性を小さくすることができる。例文帳に追加

Consequently, deposition reaction of metal ions with soft acceptor property is accelerated to reduce temperature dependency of writing density of black. - 特許庁

イオンドーピング装置を用いてドーピングをおこなった被処理体中のドナー不純物又はアクセプタ不純物の濃度を制御し、その濃度のばらつきを小さくする。例文帳に追加

To control a concentration of a donor impurity or an acceptor impurity in a processing object in which a doping is carried out by using an ion doping system, and to reduce a dispersion of the concentration. - 特許庁

基板１１は、溶解酸素濃度が８×１０^１７（ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３）以下で、アクセプタあるいはドナーとなる不純物濃度が１×１０^１５（ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３）以下である。例文帳に追加

A substrate 11 has the dissolved oxygen concentration which is not higher than 8×10^17(atoms/cm^3) and the impurity concentration which is to become an acceptor or a donor is not higher than 1×10^15(atoms/cm^3). - 特許庁

さらに、ベース層を均一なアクセプタ濃度を有する第１のｐ型ベース層と、深さ方向に濃度傾斜を有する第２のｐ型ベース層から構成した。例文帳に追加

Furthermore, the base layer is composed of a first p-type base layer having a uniform acceptor concentration, and a second p-type base layer having a concentration gradient in the depth direction. - 特許庁

ゲート酸化膜４５直下のｐベース領域４２の表面層に、実効的なアクセプタ濃度が１×１０^13〜１×１０^16ｃｍ^-3と内部より低濃度のｐ^- チャネル領域５０を設ける。例文帳に追加

A p--channel area 50 with an effective concentration of acceptor of 1×1013-1×1016 cm-3 which is lower than that of the inside is provided on the surface layer of a p base area 42 just beneath a gate oxide film 45. - 特許庁

或いは、水溶液Ｗ２の製造方法は、ドナー性分子とアクセプタ性分子との会合体が分散した水溶液にアクセプタ性材料を添加して０．１％体積濃度以上５０％体積濃度以下の水溶液を得る工程と、水溶液を粒子径が１μｍ以下になるよう微粒子化する工程と、を有する。例文帳に追加

Or, the manufacturing method of the aqueous solution W2 comprises a process of obtaining aqueous solution with a volume concentration of 0.1% or more and 50% or less by adding an acceptor material to aqueous solution with associated bodies of the donor molecules and acceptor molecules dispersed, and a process of pulverizing the solution into fine particles with a particle size of 1 μm or less. - 特許庁

水溶液Ｗの製造方法は、ドナー性分子とアクセプタ性分子との会合体が分散した水溶液を粒子径が１μｍ以下になるよう微粒子化する工程と、水溶液が０．１％体積濃度以上５０％体積濃度以下となるようにアクセプタ性材料を添加する工程と、を有する。例文帳に追加

The manufacturing method of the aqueous solution W comprises a process of pulverizing aqueous solution with associated bodies of donor molecules and acceptor molecules dispersed into fine particles with a particle size of 1 μm or less, and a process of adding an acceptor material so as the solution to have not less than 0.1% and not more than 50% volume concentration. - 特許庁

前記シリコン原料として、トリクロロシランを原料としてシーメンス法により製造された多結晶シリコンを使用する場合、原料中の不純物濃度が（ドナー濃度−アクセプター濃度）で表して−５〜５０ｐｐｔａの範囲内のものを選別して使用する。例文帳に追加

When a polycrystalline silicon manufactured by a Siemens method using trichlorosilane as a raw material is used as the silicon raw material, the polycrystalline silicon being a silicon raw material, containing impurities in amount of -5 to 50 ppta expressed in terms of (donor concentration - acceptor concentration) is selected and used. - 特許庁