ヘリウムイオンの英語

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームで孤立パターンの欠陥を修正するときのチャージアップに起因する問題点を解決する。例文帳に追加

To solve problems resulting from charge-up upon correcting a defect in an isolated pattern with an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source. - 特許庁

ステップ（ａ）で堆積させる炭素層の厚みとしてステップ（ｂ）で使用されるバイアス電圧に対応するヘリウムイオンの縦方向ストップレンジより大きくない厚みが選択される。例文帳に追加

The thickness not larger than the longitudinal stop range of the helium ion corresponding to the bias voltage to be used in the step (b) is selected as the thickness of the carbon layer deposited in the step (a). - 特許庁

即ち、高粒子束ヘリウムイオンビーム照射（６．７×１０^20Ｈｅ／ｍ^2／ｓ）により、表面温度２２００℃程度まで加熱されたタングステン表面を多孔質化する。例文帳に追加

Namely, the tungsten surface heated up to about 2,200°C surface temperature is made porous by irradiation with the high particle flux helium ion beam (6.7x10^20 He/m_2/s). - 特許庁

Ｓｉ基板１と、該Ｓｉ基板上のＳｉＧｅ層ＳＧとを備え、前記Ｓｉ基板表面近傍に、水素イオンあるいはヘリウムイオンが注入された注入領域１ａを有する。例文帳に追加

The semiconductor substrate has an Si substrate 1, the SiGe layer SG formed on the surface of the substrate 1, and an implanted region 1a, into which hydrogen ions or helium ions are implanted near the surface of the substrate 1. - 特許庁

陽子、重陽子又はヘリウムイオンからなる大電流、高エネルギーイオンビームを生成するためのシングルエンド直流線形加速器を提供する。例文帳に追加

To provide a single-ended DC linear accelerator for the generation of high-current, high-energy ion beams of H, D or He. - 特許庁

ヘリウムイオンビームを用いて、表面・界面の原子配列を解析する装置に用いるイオンビーム発生装置に関し、簡便で汎用性のあるイオンビームの大電流化方法を提供する。例文帳に追加

To provide a simple and versatile method for making an ion beam carry a high current, as to an ion beam generating device used for a device for analyzing an atomic arrangement on a surface and an interface by using a helium ion beam. - 特許庁

ヘリウムイオンビームを用いることにより、加速エネルギーが小さくてすむため、蒸着の際の基板の温度上昇を押さえることができ、熱に弱い有機材料基板上にも酸化チタン薄膜を形成させることができる。例文帳に追加

Because acceleration energy can be minimized by the use of the helium ion beam, the rise in the temperature of the substrate at vapor deposition can be prevented and the titanium oxide thin film can be formed even on the substrate made of organic material easily affected by heat. - 特許庁

グロスリークの場合は、ヘリウムイオンビームを偏向せず、マイクロチャンネルプレートに入射させないで、セクター電極に入射し、セクター電極でイオンビーム電流を検出する。例文帳に追加

In the case of gross leak, the helium ion beam is not deflected so as not to enter the microchannel plate, but is allowed to enter a sector electrode, and an ion beam current is detected by the sector electrode. - 特許庁