二次収差の英語

一次電子線の収差を減少し、マルチビームを用いる場合の二次光学系の構造を簡単化しスループットを高める。例文帳に追加

To heighten a throughput by decreasing aberration of primary electron beams and simplifying a secondary optical system structure in the case of using a multi-beam. - 特許庁

その結果５を参照し、二次電子像の流れと方向及び明瞭度に基づいてより二次電子像を明瞭なものにするような次の焦点制御値及び非点収差制御値に変更し、焦点制御値及び非点収差制御値を設定する。例文帳に追加

The next focal point control and astigmatism control are obtained and set to make the secondary electron image clear based on the flow, direction and articulation of the secondary electron image by referring to the result 5. - 特許庁

二次光学系（電子写像光学系）９で発生する歪曲収差と、光写像光学系１４で発生する歪曲収差が打ち消しあうように光写像光学系１４を設計する。例文帳に追加

The optical system 41 is designed, so that the distortion aberration generated in the secondary optical system (electronic mapping optical system) 9 sets off the distortion aberrations generated in the photo mapping optical system 14. - 特許庁

これにより、二次元の倍率色収差の中心位置を検出し、これを基準とすることで画像全域における収差量を精度良く、高速に求めることができる。例文帳に追加

Thus, the center position of the two-dimensional chromatic aberrations in magnification is detected, and the aberration amount in the entire image area can be obtained accurately and rapidly, with the detected central position as a reference. - 特許庁

より速く焦点制御値及び非点収差制御値を最適化し、明瞭な二次電子像に調整する方法を提供する。例文帳に追加

To provide an adjusting method for a clear secondary electron image by optimizing the focal point control and astigmatism control more quickly. - 特許庁

撮影レンズと、ニ次元光電返還素子と、該二次元光電変換素子の出力画像信号において所定歪曲中心とする方向の画像内所定位置を変更する歪曲収差変換回路とを有することを特徴とする歪曲収差変更撮影装置。例文帳に追加

The distortion aberration changeable photographing apparatus includes a photographing lens, a two-dimensional photo-electric transducer, and a distortion aberration conversion circuit that changes an intra-image predetermined position in the predetermined distortion center direction in an output image signal of the two-dimensional photo-electric transducer. - 特許庁

設定した焦点及び非点収差制御値１により二次電子像取得２を行い、そのデータ３に対し、二次電子像の流れと方向及び明瞭度を評価する操作４を行う。例文帳に追加

A secondary image is acquired 2 based on the set focal point and astigmatism control 1, and the flow, direction and articulation of the secondary electron image are evaluated 4 for the data 3. - 特許庁

次数Ｎ_１＋Ｎ_２−１、対称性｜Ｓ_１＋Ｓ_２｜あるいは｜Ｓ_２−Ｓ_１｜ ・・・＜条件１＞つまり、第１の場所１１及び第２の場所１２に相当する二つの補正子（収差導入素子）を用意して、コンビネーションアベレーションを利用し、＜条件１＞を持った収差を補正する。例文帳に追加

<condition 1> order N_1+N_2-1, the symmetric property |S_1+S_2| or |S_2-S_1|, namely, two correction elements (aberration introducing elements) equivalent to the first place 11 and the second place 12 are prepared, and the aberration having <condition 1> is corrected by utilizing the combination aberration. - 特許庁