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半変晶質の英語
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「半変晶質」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 87件
これにより、ゲート絶縁膜3との界面部の非晶質半導体膜を結晶性を有する微結晶半導体膜4に変換する。例文帳に追加
Consequently, the amorphous semiconductor film at a part of an interface with a gate insulating film 3 is converted into a microcrystal semiconductor film 4 having crystallinity. - 特許庁
アモルファス半導体材料を良質な半導体結晶に変換する装置を提供する。例文帳に追加
To provide a device for converting an amorphous semiconductor material to a high quality semiconductor crystal. - 特許庁
非晶質半導体膜をレーザー光の照射により結晶化する際に、非晶質半導体膜の形状変化(凸部または凹部)を用いて意図的に結晶成長の起点を規定し、結晶粒径の大粒径化を図る。例文帳に追加
At crystallization of a non-crystalized semiconductor film under laser irradiation, the change in shape of the semiconductor film (a protruding part or recessed part) is used intentionally to specify the start point of crystal growth, for larger crystal particle size. - 特許庁
結晶構造を有する半導体膜の形成過程における反応ガスの利用効率を向上させ、安価な基板上に結晶品質の優れた結晶質半導体膜を形成し、その結晶質半導体膜を光電変換層とする光電変換装置を得ることを目的とする。例文帳に追加
To provide a photoelectric converter with which efficiency of a reaction gas in the forming process of a semiconductor film having a crystal structure is improved, a crystalline semiconductor film improved in a crystal quality is formed on an inexpensive substrate and that crystalline semiconductor film is made into photoelectric converting layer. - 特許庁
半導体単結晶の直径変動を低減し、その直径制御の操作量である引上げ速度の変動を抑制し、設定通りの半導体単結晶を引上げて、高品質な半導体単結晶を製造する。例文帳に追加
To provide a semiconductor single crystal pulling process which manufactures a high quality semiconductor single crystal by decreasing the diameter variation of the semiconductor single crystal, controlling the variation of the pulling rate that is the manipulated variable of the diameter control and pulling the semiconductor single crystal as set. - 特許庁
結晶質半導体粒子の製造方法、光電変換装置の製造方法例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING CRYSTALLINE SEMICONDUCTOR PARTICLE, AND METHOD FOR PRODUCTION OF PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE - 特許庁
さらには、前記ヘテロ半導体領域として非晶質もしくは微結晶のヘテロ半導体を成膜させた場合、成膜後に、多結晶シリコンに変化させる再結晶化アニール処理を施すようにしても良い。例文帳に追加
Moreover, in the case where the amorphous whose crystal grain sizes are small or fine crystal grain size hetero semiconductor is formed as the hetero semiconductor region, it is allowable that re-crystallization annealing process may be conducted after formation of the film to generate polycrystal silicon from the hetero semiconductor region. - 特許庁
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「半変晶質」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 87件
光入射側から順に、非晶質シリコン系半導体からなる一導電型層と、微結晶シリコン相を含むバッファ層と、実質的に真性の非晶質シリコン系半導体からなる光電変換層と、非単結晶シリコン系半導体からなる逆導電型層とが、配置されてなる非晶質シリコン系光電変換装置によって、解決する。例文帳に追加
An amorphous silicon-based photoelectric conversion device comprises a conductivity type layer formed of an amorphous silicon-based semiconductor, a buffer layer containing a microcrystalline silicon phase, a photoelectric conversion layer formed of a substantially intrinsic amorphous silicon-based semiconductor and a reverse conduction type layer formed of a non-single-crystal silicon-based semiconductor which are arranged from a light incident side in this order. - 特許庁
ZnO系化合物半導体結晶の加工変質層による欠陥と、結晶固有の欠陥の双方を正確に検出する方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for precisely detecting both of defects due to a machining degradation layer and defects characteristic to a crystal of a ZnO-based compound semiconductor crystal. - 特許庁
非晶質型光電変換ユニット11のp型半導体層111とi型の非晶質光電変換層112とn型半導体層113とは、各々別々の堆積室1p、1i、1n内で成膜される。例文帳に追加
A p-type semiconductor layer 111 of an amorphous type photoelectric conversion unit 11, an i-type amorphous photoelectric conversion layer 112, and an n-type semiconductor layer 113 are formed in each of separate deposition chambers 1p, 1i, and 1n. - 特許庁
結晶質型光電変換ユニット12のp型半導体層121とi型の結晶質光電変換層122とn型半導体層123とは、各々同一の堆積室2pin内で引き続き成膜される。例文帳に追加
A p-type semiconductor layer 121, an i-type crystalline photoelectric conversion layer 122, and an n-type semiconductor layer 123 of a crystalline type photoelectric conversion unit 12 are successively formed in each same deposition chamber 2pin. - 特許庁
非晶質シリコン系薄膜光電変換装置に含まれるp型半導体層、i型非晶質シリコン系光電変換層およびn型半導体層の少なくとも1層が以下の条件で成膜される。例文帳に追加
On a substrate 1, a transparent conductive film 2 is formed, on which p-type semiconductor 11, i-type amorphous photoelectric conversion layer 112, and n-type semiconductor layer 113 are sequentially formed for an amorphous photoelectric conversion unit 11. - 特許庁
電極11にパルス電圧を印加すると、可動イオンが固体電解質層16と非晶質半導体層13との間で移動し、非晶質半導体層13の一部の伝導型が変化する。例文帳に追加
When a pulse voltage is applied to the electrode 11, a movable ion moves between the solid electrolyte layer 16 and the amorphous semiconductor layer 13, and the conduction type of a part of the amorphous semiconductor layer 13 is changed. - 特許庁
高い歩留まりで製造可能な、結晶質半導体を光電変換層に用いた光電変換装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a optoelectric transducer on device which is manufactured with its high yield and equipped with an optoelectric transducer layer formed of crystalline semiconductor. - 特許庁
高品質の多機能性基板層は高温及び水素雰囲気で下部のシード物質層の変形と分解とを防止することができ、良質の単結晶窒化物系半導体基板を成長するために六方晶構造である単結晶または多結晶構造を有する。例文帳に追加
A high-quality multifunctional substrate layer can prevent the deformation and decomposition of the lower seed substance layer at high temperature and in a hydrogen atmosphere, and has a single crystal that is a hexagonal structure or a polycrystalline structure to grow the good-quality single-crystal nitride-based semiconductor substrate. - 特許庁
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