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周端プラズマの英語
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英訳・英語 edge plasma
「周端プラズマ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 42件
誘導結合型プラズマ源は、アンテナ20の両端部25に高周波電力を供給してプラズマ生成室2の内部に誘導結合型プラズマPを生成する高周波電源8を備えている。例文帳に追加
The induction coupling type plasma source has a high frequency power supply 8 which supplies high frequency power to the both ends parts 25 of the antenna 20 and generates induction coupling type plasma P inside the plasma generating chamber 2. - 特許庁
それによって基板の周端部付近におけるプラズマの活性種の分布の偏りを抑える。例文帳に追加
Accordingly, an uneven distribution of active species of plasma near the peripheral end of the substrate is prevented. - 特許庁
励起コイル6で形成された高周波磁界の磁束線20は、磁路構造体7のコア部7Aの設けられたプラズマ室ボディ3の上端面からプラズマ室2に導入され、プラズマ室2を交差した後に側面リターン部7Bへと導かれる。例文帳に追加
A flux line 20 of a high frequency magnetic field formed by the exciting coil 6 is introduced from the upper end face of the plasma chamber body 3 provided in a core portion 7A of the magnetic path structure 7 into a plasma chamber 2 and then introduced into a rear side return portion 7B after crossing the plasma chamber 2. - 特許庁
プラズマ電極のテーパ部25aに形成された切り欠き部26は、プラズマ電極25の軸心部と直角方向に広がる底面26aと、この底面26aの最大外周部からプラズマ電極25の基端部の方向へ伸びる側面26bとを有している。例文帳に追加
A notch 26 formed in the tapered part 25a of the plasma electrode includes a bottom surface 26a expanding in a direction perpendicular to an axis part of the plasma electrode 25, and a side surface 26b extending in a direction of a base end of the plasma electrode 25 from the maximum peripheral part of the bottom surface 26a. - 特許庁
試料ガスおよびプラズマ用ガスを噴出するプラズマトーチ10の先端外周付近に設けた高周波誘導コイル21の外周部に、該コイル21を取り囲むように円筒形の強磁性部材23を配置する。例文帳に追加
On the outer periphery of a high-frequency induction coil 21 mounted in the vicinity of the end outer periphery of a plasma torch 10-jetting a sample gas and a gas for plasma, a cylindrical ferromagnetic member 23 is disposed so as to surround the coil 21. - 特許庁
これにより、遮蔽部と基板支持部により基板の周縁部を除く領域でのプラズマ生成を防ぎ、誘導結合型プラズマ放電を用いて高密度のプラズマを生じさせて、基板の端部領域のパーチクル及び薄膜を除去することができ、誘導結合型プラズマ放電により基板の端部のエッチング率を高めることができる。例文帳に追加
Production of plasma in a region other than the peripheral portion of the substrate is prevented by the shielding portion and the substrate supporting portion, particles and a thin film can be removed from the end region of the substrate by producing high density plasma using induction coupled plasma discharge, and etching rate can be enhanced at the end of the substrate by induction coupled plasma discharge. - 特許庁
FPC23は、プラズマディスプレイパネル17の周縁部に設けられた外部接続端子アレイ部27に、プラズマディスプレイパネル17の内側から、その先端縁がプラズマディスプレイパネル17の外方を向く態様で、接続されて、プラズマディスプレイパネル17の側方にはみ出さないように配置されている。例文帳に追加
An FPC 23 is connected to an external connection terminal array portion 27 provided on an outer peripheral portion of a plasma display panel 17 so that its tip end edge faces on the outside of the plasma display panel 17 from the inside of the plasma display panel 17, and arranged not to protrude by the plasma display panel 17. - 特許庁
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「周端プラズマ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 42件
誘電体パーツ31を支持する梁26は,その端部周辺でのプラズマ電子密度N_eがカットオフのプラズマ電子密度N_c以上になるように基板側に突出して設けられる。例文帳に追加
In order to make the plasma electron density N_e around the end of the beam 26 not less than the cutoff plasma electron density N_c, the beam 26 for supporting the dielectric parts 31 is so installed as to project to the substrate side. - 特許庁
噴出口211からアルゴン流が電極41及び電極42間の高周波電力によりプラズマ化され、予備プラズマとして筒状部15内部に左端から右方向へ噴出される。例文帳に追加
An argon flow from a jet nozzle 211 is processed to plasma by means of a high-frequency power in between electrodes 41, 42, and blown out inside a cylindrical member 15 from a left end to a right direction as a preliminary plasma. - 特許庁
高周波電力の供給によって、プラズマキャピラリ40の内部でガスがプラズマ化し、その先端部からボンディング対象8に対し噴出して表面処理が行われる。例文帳に追加
The gas is changed into plasma in the plasma capillary 40 by the supply of the high-frequency power, and the surface treatment is carried out by jetting it to the target 8 to be bonded. - 特許庁
プラズマを誘導加熱する電流は、リング状の導体11に流れる電流であり、通常のコイルのように端をもたないため、完全な周方向のプラズマ均一性が実現される。例文帳に追加
Since the currents for effecting the induction heating to the plasma flow through the annular conductors 11, there exists no terminal in contrary to the case with a normal coil, so that perfect circumferential directional uniformity of the plasma can be realized. - 特許庁
噴出口221においては、アルゴン流が電極43及び電極44間の高周波電力によりプラズマ化され、予備プラズマとして筒状部15内部に右端から左方向へ噴出される。例文帳に追加
In the blowing nozzle 221, the argon flow is processed to the plasma by means of the high-frequency power in between the electrodes 43, 44, and blown out inside the cylindrical member 15 from the right end to the left direction as the preliminary plasma. - 特許庁
基板端部を研磨することなく,またプラズマを発生させることなく,基板端部全周の洗浄を簡単な制御で一度に行う。例文帳に追加
To perform washing of all circumferences of the substrate ends at one time with an easy control, without polishing the substrate ends, and without generating plasma. - 特許庁
このプラズマ処理装置は、X方向の一端部から他端部に高周波電流I_R が流されるアンテナ30を備えている。例文帳に追加
A plasma processing apparatus has an antenna 30 in which a high-frequency current I_R is flowed from one end part to the other end part in an X direction. - 特許庁
大気圧又はその近傍の圧力下でプラズマを生成して管状部材(フッ素樹脂部材)12の開口端(被処理表面)12Aを改質する表面改質方法であって、開口端12Aが、プラズマ生成領域18を越えてプラズマ生成領域18の周囲10mm未満の距離で囲まれる処理領域17内に配されて行われることを特徴とする。例文帳に追加
The surface modifying method comprises generating plasma at atmospheric pressure or its neighboring pressure to modify the open end (surface to be treated) 12A of a tubular member (fluororesin member) 12, and the open end 12A is arranged in the treating region 17 within a radius of the plasma generation region 18 plus less than 10 mm and is subjected to modification. - 特許庁
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