希釈領域の英語

昆虫性フェロモンを直接検出する場合や、風向風速計を用いる場合に比べて、簡単且つ廉価な構成で、フェロモン散布領域の全体に効率良く均一に希釈化フェロモンを放散できる。例文帳に追加

The diluted pheromone is dissipated uniformly in high efficiency over the whole pheromone-dissipation area with the apparatus having a simple and inexpensive structure compared with the direct detection of the insect pheromone or the use of a vane anemometer. - 特許庁

好ましい位置としては、シェルの旋回衝突を受ける領域、およびシェルの希釈穴、ボアスコープ穴または点火器口穴のような大きい開口のすぐ下流の箇所がある。例文帳に追加

Preferred locations includes a region of the shell that is subjected to swirl impingement and a spot immediately downstream of a large opening in the shell such as a dilution hole, a borescope hole or an igniter port hole. - 特許庁

外孔と内孔とを位置あわせすることにより、燃焼筒の内部と外部を連通する開口部ができ、希釈空気が燃焼領域に流入する。例文帳に追加

By aligning the inner holes and the outer holes, openings communicating an interior with an exterior of the combustion tube are formed, and the dilution air flows into a combustion area. - 特許庁

反応室内でのエッチングは１０Ｔｏｒｒ程度の減圧雰囲気、塩酸を水素で希釈したガス中で６００℃〜８００℃程度の温度領域で行う。例文帳に追加

Etching in the reaction chamber is conducted in a temperature range of approximately 600-800°C in a decompression atmosphere of approximately 10 Torrs and in a gas, in which hydrochloric acid is diluted with hydrogen. - 特許庁

結晶領域を含む半導体層は、半導体材料ガスに対して希釈ガスの流量比を１倍以上１０倍未満、好ましくは１倍以上６倍以下として反応空間に導入してプラズマを生成し、成膜する。例文帳に追加

The semiconductor layer including the crystalline region generates plasma and forms a film by introducing dilution gas, of which a flow rate ratio to a semiconductor material gas is 1-10 times, more preferably 1-6 times, to a reaction space. - 特許庁

これにより、低温領域では、機関停止（ＥＶ運転）の機会を増加させ、オイル希釈率が増大し易い機関駆動運転やＨＶ運転を回避することができる。例文帳に追加

Thus, opportunities for engine stop (EV operation) are increased in the low-temperature region so that engine drive operation and HV operation which are apt to increase in an oil dilution ratio can be avoided. - 特許庁

制御表面１５および第１および第２のチャンバ１７、１６ａは、協働して、気体のマスフローが制御される領域を画定し、気相成分の希釈を著しく低減する。例文帳に追加

The control surface 15 and the first and second chambers 17, 16a together define a region in which the mass flow of gas is controlled to significantly reduce the dilution of the gas phase component. - 特許庁

冷却孔（４４）密度が増大された領域が、主希釈孔（４８）の上流にかつ燃料カップセンタ（８２）と周方向に整合させて配置される。例文帳に追加

A region where the density of cooling apertures 44 is increased is arranged and adjusted with a fuel cup center 82 in the peripheral direction upperstream of main dilution holes 48. - 特許庁