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平板ターゲットの英語
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英訳・英語 planar target
「平板ターゲット」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 13件
平板状のターゲットにおいて、ターゲット材料の中心面から半分に切断し２枚のターゲットとし、またさらに切断前のターゲット材料の中心面に位置する結晶配向が（２２２）優先である結晶組織を備えるターゲットを製造する。例文帳に追加
In the planar target, it is halfly cut from the central face of the target material, so as to be two targets, and further, each target has a crystal structure where crystal orientation located in the central face of the target material before cutting is preferential in (222). - 特許庁
平板状のターゲットにおいて、ターゲット材料の中心面から半分に切断し２枚のターゲットとし、またさらに切断前のターゲット材料の中心面に位置する結晶配向が（２２２）優先である結晶組織を備えるターゲットを製造する。例文帳に追加
The manufactured target is a tabular target, is formed with two sheets of the targets by cutting a target material to a half from its central surface and is further provided with the crystal texture of (222) priority in the crystal orientation existing at the central surface of the target before cutting is. - 特許庁
平行平板型スパッタ装置において、ターゲット１１と平行に保持された基板１２を、ターゲット１１の取付面に平行な軸を中心に所定の角度だけ回転させながら、基板１２への成膜を行う。例文帳に追加
This film-forming method in a parallel-plate sputtering apparatus includes forming a film on a substrate 12 while rotating the substrate 12 which is held in parallel to a target 11 around an axis which is parallel to the surface having the target 11 mounted thereon, by a predetermined angle. - 特許庁
センサ５９による回転位置の検出対象となるターゲットプレート５５を平板状に形成し、このターゲットプレート５５を前記突起軸２８に圧入によって取付ける。例文帳に追加
A target plate 55 to be a detected object of a rotational position with a sensor 59 is formed in a plate shape, and the target plate 55 is installed by pressing the target plate 55 in the projected shaft. - 特許庁
矩形平板ターゲットを有するロータリー式のスパッタ方法及び装置において、基板面内での膜厚均一性を向上する。例文帳に追加
To improve the uniformity in film thickness within the plane of a substrate in a rotary type sputtering method and device having a rectangular flat target. - 特許庁
平板状の基板部材１と、基板部材１のターゲット対向面１ｃに取り付けられた保護部材３を備える。例文帳に追加
This shutter is provided with a planar substrate member 1 and a protective member 3 fitted to the face 1c opposite to a target in the substrate member 1. - 特許庁
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「平板ターゲット」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 13件
本発明は、特に大型平板形状が要求されるスパッタリング用ターゲットの製造に対して有効である。例文帳に追加
The manufacturing method is effective particularly for the manufacture of a sputtering target to which a large-sized flat plate shape is required. - 特許庁
このバッキングプレート１は、ターゲットＴが表面に取り付けられるアルミニウム板からなるベース部２と、内部に冷却媒体流通路６を有する平板状の冷却部３とからなる。例文帳に追加
This backing plate 1 is composed of a base part 2 composed of an aluminum sheet to be fitted with a target T on the surface and a planar cooling part 3 having a cooling medium flow passage 6 at the inside. - 特許庁
マグネトロン放電用磁気回路が設けられた矩形平板ターゲットを有するロータリ式スパッタリング装置において、基板の表面に均一な膜厚の薄膜が形成できるスパッタリング方法とその装置を提供する。例文帳に追加
To provide a sputtering method capable of forming a thin film of uniform thickness on the surface of a substrate in a rotary type sputtering device having a rectangular planar target provided with a magnetic circuit for magnetron discharge and to provide the device. - 特許庁
ターゲット部材が貫通している貫通穴８９を有する環状かつ平板状の第１部分８１と、この第１部分８１に交差する平板状の第２部分８２とを有する基板９０の第１部分８１に、貫通穴８９を全周に亘って取り巻くように、第１コイル９２を配置する。例文帳に追加
A first coil 91 is arranged in a first part 81 of a substrate 90 having the annular and plate-like first part 81 having a through-hole 89 for penetrating a target member and a plate-like second part 82 intersecting with this first part 81 so as to surround the through-hole 89 over the whole periphery. - 特許庁
Ａｌをターゲット材とする平行平板型スパッタリング装置を用いて、Ａｒ，Ｎ_2 の混合ガスをスパッタガス３とし、その混合比及び堆積時間（膜厚）を制御することにより、紫外・可視・近赤外波長領域の光の殆どを吸収する１μｍ以下の膜厚の膜４を形成する。例文帳に追加
A film 4 of ≤1 μm thickness which absorbs almost all of light in the ultraviolet, visible and near infrared wavelength regions is deposited by using a parallel flat plate type sputtering apparatus with Al as a target material, using a gaseous Ar-N_2 mixture as a sputtering gas 3 and controlling the mixing ratio and deposition time (film thickness). - 特許庁
平板形状の基板素材上に金属膜層と誘電体膜層を積層状に形成する際に、この光学膜層を基板表面と裏面にターゲット物質を不活性ガスでスパッタリングしてスパッタ粒子で被膜を形成する。例文帳に追加
When a metallic film layer and a dielectric film layer are formed in a laminate shape on a plate-shaped substrate raw material to constitute an optical film layer, a target material is sputtered with an inert gas onto a surface and a rear surface of the substrate to form a coating film of sputtering particles. - 特許庁
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