本磨仕上面の英語

本発明の目的は、研磨性能の再現性が高く電解条件の設定が容易で、繰り返し安定して作業でき、かつ研磨面の仕上がりも良いステンレス鋼の電解研磨液を提供することにある。例文帳に追加

To provide an electrolytic polishing liquid for stainless steel, which is excellent in reproduction of polishing performance, facilitates the setting of electrolytic conditions, achieves stable repeated work and provides the satisfactory finishing of a polished surface. - 特許庁

研磨装置本体は、外周面が精密仕上げ加工がされた筒状の回転ドラムとテープリールと研磨テープを巻き取る巻取リールと研磨テープとを備える。例文帳に追加

A polishing machine main unit is provided with a cylindrical rotary drum having a precisely finished external peripheral surface, a tape reel, a winding reel for winding the abrasive tape, and the abrasive tape. - 特許庁

本発明の木彫仕上げ用工具は、図１に示すような球面やＲ面を有する壺（つぼ）や花瓶などの木彫り製品の内外表面を研磨するための組合せ使用の研磨具である。例文帳に追加

The tool for wood carving finish is a polishing tool combined and used to polish inner and outer surfaces of the wood carved product such as the pot and vase, having the spherical surface or the round surface shown in a drawing 1. - 特許庁

本発明に係る表面研磨方法は、絞り加工により製造されるフェライト系ステンレス鋼製品の表面研磨方法であって、絞り加工後に、所定の砥粒径により所定時間粗研磨を行った後、所定の砥粒径により所定時間仕上研磨を行うことを特徴とする。例文帳に追加

In the surface grinding method for the ferritic stainless steel product manufactured by drawing, after drawing, rough grinding using abrasive grains with a designated diameter is applied at a designated period, and then, finish grinding using abrasive grains with a designated diameter is applied for a designated period. - 特許庁

本発明は曲面形状の光学素子またはその金型を光学部品として使用可能な鏡面に仕上げる研磨工具の製造方法、研磨工具及び光学素子またはその金型を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing for a polishing tool for finishing an optical element of a curved shape or its metal mold to a mirror surface useable as an optical part, a polishing tool and optical element or its metal mold. - 特許庁

本発明は、荒研磨(ラップ)した化学的に安定な炭化珪素単結晶ウェハ表面から加工変質層を除去して仕上げ研磨(ポリッシュ)することで、高品質な表面を得る効果的な方法を提供する。例文帳に追加

To provide an effective method of obtaining a surface of high quality by removing a layer deteriorated by processing from the surface of a silicon carbide single crystal wafer which has been rough-lapped for chemical stability, and then finish polishing. - 特許庁

本発明は、荒研磨(ラップ)した化学的に安定な炭化珪素単結晶ウェハ表面から加工変質層を除去して仕上げ研磨(ポリッシュ)することで、高品質な表面を得る効果的な方法を提供する。例文帳に追加

To provide an effective method for polishing the surface of a silicon carbide single crystal wafer capable of finish polishing (polishing) by removing a work-affected layer from the surface of the chemically stable silicon carbide single crystal wafer roughly polished (lapped) to provide a high quality surface. - 特許庁

把持部（１）を正面にして、頚部（２）を左へ３０°前後傾斜させたものを１本、頚部（２）を左へ３０°前後傾斜させたものを１本、計２本を一対とした仕上げ磨き歯ブラシ。例文帳に追加

Viewing a holding part (1) of the finish polishing toothbrush in the front, one brush with a neck part (2) tilted at about 30° to the left and one brush with a neck part (2) tilted at about 30° to the right are made one pair. - 特許庁