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機械的分級の英語
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「機械的分級」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 15件
長期にわたって該機械的遠心力型風力分級機を含むトナー製造設備機内にトナー付着がなく、安定した分級粒度を確保する。例文帳に追加
To guarantee a stable classified particle size without toner adhesion in toner producing facilities including a mechanical centrifugation type pneumatic classification apparatus for a long duration. - 特許庁
機械的遠心力型風力分級機(TSP;トナーセパレータやTTSP;タンデムトナーセパレータ)の風力分級機における上記の問題点を解決し、長期にわたって該機械的遠心力型風力分級機を含むトナー製造設備機内にトナー付着がなく、安定した分級粒度の確保ができ、トナーを高処理量かつ高収率で生産できるトナーの製造設備、製造方法を提供すること。例文帳に追加
To provide an apparatus and method for producing a toner capable of assuring stable classification granularity, and producing a toner at high throughput and high yield without toner sticking within the apparatus for producing the toner including a mechanical centrifugal air classifier (TSP; toner separator and TTSP; tandem toner separator) for a long period of time by solving the problems in the air classifier. - 特許庁
また、湿式灰出装置から取出した湿潤状態の燃焼残さを、まず、機械的分離工程によって2つの分級物に分離し、次いで、本質的に粗分級物及びオーバサイズ分級物からなる主分級物を上記湿式灰出装置から抜き出された水によって洗浄し、燃焼残さに付着する微小粒子部分を分離することとした。例文帳に追加
Wet incineration residues which come out of a wet slag remover are firstly divided into two fractions by means of a mechanical separating process, after which a main fraction substantially composed of rough fractions and oversize fractions is washed with water taken from the wet slag remover to separate off fine pieces adhered to the combustion residues. - 特許庁
薬品及び機械的撹拌力により離解させて得た古紙パルプを、分級処理設備にて長繊維分、短繊維分に分級し、クラフトパルプと古紙パルプの長繊維分または短繊維分とを、90:10〜99:1の割合で混合し、さらに漂白設備にて漂白処理する。例文帳に追加
Wastepaper pulp obtained by disintegration by a chemical and mechanical stirring force is classified into a filament component and a short fiber component by classification equipment and kraft pulp is mixed with the filament component or the short fiber component of the wastepaper pulp in the ratio of 90:10-99:1 and bleached by bleaching equipment. - 特許庁
微小粒子の分級を精度良く(狭い粒子径分布で)且つ効率良く行うことができ、しかも十分な機械的強度を有する精密ふるい板を得る。例文帳に追加
To provide a precision screening plate which efficiently performs classification of fine particles precisely (in a narrow distribution of particle diameter) with good accuracy and, moreover, has a satisfactory mechanical strength. - 特許庁
湿式還元法により製造した銀粉に、粒子同士を機械的に衝突させる表面平滑化処理を施した後、分級により銀の凝集体を除去する。例文帳に追加
In the method for producing the silver powder, the silver powder produced by a wet reduction method is subjected to surface smoothing treatment where the respective particles are mechanically collided, and thereafter, the aggregate of silver is removed by classifying. - 特許庁
双ロールを備えた液体急冷装置を用いて、合金の粉末化を行い、次いで合金粉末に、機械的粉砕、目開き150μmの篩を用いた分級を施し、アスペクト比を1〜2の範囲に調整する。例文帳に追加
By using liquid quenching equipment comprising twin rolls, an alloy is powdered, and the alloy powder is then mechanically ground and classified by using a screen of mesh size of 150 μm, and thus an aspect ratio is adjusted within the range of 1 to 2. - 特許庁
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「機械的分級」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 15件
双ロールを備えた液体急冷装置を用いて、合金の粉末化を行い、次いで合金粉末に、機械的粉砕、目開き150μmの篩を用いた分級を施し、アスペクト比を1〜2の範囲に調整する。例文帳に追加
By using liquid quenching equipment comprising twin rolls, an alloy is powdered, and the alloy powder is then mechanically ground and classified by using a screen of a mesh size of 150 μm, and thus an aspect ratio is adjusted within the range of 1 to 2. - 特許庁
湿式還元法により製造した銀粉に、粒子同士を機械的に衝突させる表面平滑化処理を施した後、分級により銀の凝集体を除去する。例文帳に追加
In the method for producing silver powder, silver powder produced by a wet reduction method is subjected to surface smoothing treatment where the respective particles are mechanically collided, and thereafter, the aggregate of silver is removed by classifying. - 特許庁
雑誌古紙由来の古紙パルプを、機械的分級処理により短繊維分を分離し、得た長繊維分を新聞古紙パルプに混合し、この混合パルプを抄紙すると共に、新聞用紙中の古紙パルプの配合率を高める。例文帳に追加
This method for making the paper for the newspaper is provided by separating a short fiber component from the wastepaper pulp derived from the magazine wastepaper with a mechanical screening treatment, mixing the obtained long fiber component with the newspaper wastepaper pulp and papermaking the above mixed pulp for also increasing the wastepaper pulp-blending ratio in the paper for the newspaper. - 特許庁
ナノメートル級の正方晶ジルコニア粒子を用いることで、屈折率および機械的特性の向上と共に透明性の維持を可能とするジルコニア透明分散液及び透明複合体並びに透明複合体の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a transparent zirconia dispersion liquid having improved refractive index and mechanical properties while keeping transparency by using tetragonal zirconia particles of nanometer size and provide a transparent composite material and a method for producing a transparent composite material. - 特許庁
ナノメートル級の正方晶ジルコニア粒子の表面を、表面修飾剤を用いて修飾することにより、屈折率および機械的特性の向上と共に透明性の維持を可能とするジルコニア透明分散液及び透明複合体並びに透明複合体の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a zirconia transparent dispersion liquid and a transparent composite making it possible to maintain the transparency together with improvement of refractive index and mechanical characteristics, and a method of manufacturing the transparent composite. - 特許庁
ミル又は分級機のような方法技術的な機械から成る装置であって、クリーンルーム運転、グローブボックス運転、SIP運転又はCIP運転及びこれらの組合せにおけるすべての要求に対応し、製品室と周囲との間に回転貫通部を有していない装置を提供する。例文帳に追加
To provide an apparatus consisting of a methodological and technical machine such as a mill or classifier which deals with all demands in the clean room operation, glovebox operation, SIP operation or CIP operation and combination with these and has not a rotation penetration part between a product room and surroundings. - 特許庁
銅または銅合金配線を形成する半導体製造工程中の化学的機械的研磨の後に続く工程において使用される洗浄剤であって環状ポリアミン(A)、水酸基を2〜5個含むポリフェノール系還元剤(B)、第4級アンモニウムヒドロキシド(C)、アスコルビン酸(D)、および水を必須成分とすることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。例文帳に追加
The cleaning agent for the copper wiring semiconductor is used in a process succeeding to chemical mechanical polishing in a semiconductor manufacturing process for forming the wiring of copper or a copper alloy, and contains, as essential components, a cyclic polyamine (A), a polyphenol-based reductant (B) containing 2 to 5 hydroxy groups, a quaternary ammonium hydroxide (C), an ascorbic acid (D), and water. - 特許庁
半導体集積回路の平坦化工程において化学的機械的研磨に用いられる研磨液であって、四級アンモニウムカチオン、有機酸、無機粒子、並びに、下記一般式(I)で示される化合物及び下記一般式(I)で示される構造単位を含む高分子の少なくとも一方を含み、pHが1〜7の範囲である研磨液である。例文帳に追加
The polishing liquid used for chemical mechanical polishing in a planarization process of a semiconductor integrated circuit contains a quaternary ammonium cation, an organic acid, an inorganic particle, and at least one of a compound expressed by general formula (I) and a polymer including a structure unit shown by the general formula (I), and has a pH of 1 to 7. - 特許庁
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