残留内部歪の英語

ミラーを有する振動体を往復揺動的に磁気的に振動させることにより、光学的なスキャンを行う光スキャナを、振動体内部の熱的な残留応力歪みに起因したミラー表面の反りおよびうねりが抑制されるように、製造することに適した方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method suitable for manufacturing an optical scanner for executing optical scanning by vibrating magnetically an oscillator having a mirror reciprocation-swingingly, to prevent the warpage and waviness of a mirror surface from being generated caused by a thermal remaining stress strain in an inside of the oscillator. - 特許庁

応力付与型偏波保持光ファイバの中間材である加工母材および応力付与部材の内部に残留している歪みおよび表面に付着している汚染物を効果的に除去し、特性の優れた応力付与型偏波保持光ファイバの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a stress imparted polarization maintaining optical fiber having excellent characteristics by which the strain remaining in the perform material as an intermediate material of the optical fiber and in a stress imparting material and the contaminant depositing on the surfaces of these materials are effectively removed. - 特許庁

光ファイバ母材表面の傷、凹凸、不純異物による不均一性の除去、光ファイバ母材内部の残留歪みの除去、および母材表面に付着したガラス微粒子による曇りの除去ができる、光ファイバ母材の熱処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a process for the heat treatment of a parent material for optical fibers that can remove ununiformity due to scratches, unevenness and contaminants on the surface of the parent material as well as the residual strain inside the parent material and the cloudiness caused by glass fine particles sticking to the surface on the parent material. - 特許庁

光ファイバプリフォーム表面の傷や不純異物による不均一性、光ファイバプリフォーム内部の残留歪み、およびプリフォーム表面に付着したガラス微粒子による曇りの除去ができ、平滑な光ファイバプリフォームとする火炎研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a flame polishing method which is capable of eliminating the nonuniformity by the flaws and impurity foreign matter on an optical fiber preform surface, the residual strain in the optical fiber preform and the cloud by the glass particulates adhered to the preform surface and producing the smooth optical fiber preform. - 特許庁

また、容器内面のうねりを３ｍｍ以下、表面粗さＲａを１０μｍ以下、更に好ましくは６μｍ以下の平滑な表面とすることによってシリコンの食い込みを低減して発生応力を逃げ易くし、シリコン内部歪の残留を軽減し、多結晶シリコンの光電変換効率を向上させる。例文帳に追加

The biting of silicon is suppressed, the generated stress is easily liberated, the residual amount of internal strain in silicon is reduced, and the photoelectric conversion efficiency of the polycrystalline silicon is improved by making the inner surface of the vessel into such a flat surface that the undulation is ≤3 mm and the surface roughness Ra is ≤10 μm, preferably ≤6 μm. - 特許庁

本発明においては、レンズやプリズムあるいはグレーティングなどのガラス製または樹脂製の光学素子Ｗをアニーリングしてその内部残留歪みなどを除いたり、所望の光学特性、例えば所望の屈折率に調整する場合、この光学素子Ｗのアニーリングを大気圧よりも高圧の加圧雰囲気にて行うことにより、光学素子Ｗに圧縮力を与えてアニーリング処理時間を短縮化させるようにした。例文帳に追加

When the glass made or plastic made optical device W such as a lens, a prism or a grating is annealed to eliminate internal residual strain or to adjust to a desired optical characteristic such as a desired refractive index, the annealing time is shortened by carrying out the annealing under an pressurized atmosphere higher than atmospheric pressure to give compressive force to the optical device W. - 特許庁