極短紫外線ミラー作成方法および極短紫外線露光装置例文帳に追加

METHOD FOR FORMING EXTREME UV MIRROR AND EXTREME UV EXPOSURE APPARATUS - 特許庁

極短紫外線光学系用光学素子及び極短紫外線露光装置例文帳に追加

OPTICAL ELEMENT FOR EXTREMELY SHORT ULTRAVIOLET OPTICAL SYSTEM AND EXTREMELY SHORT ULTRAVIOLET EXPOSURE DEVICE - 特許庁

極端紫外線露光用マスク、極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスクの製造方法及びリソグラフィ方法例文帳に追加

EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE MASK, MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE MASK AND LITHOGRAPHY METHOD - 特許庁

極限紫外線露光用マスク、極限紫外線露光用マスクブランク、およびパターン転写方法例文帳に追加

MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE, MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE, AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁

極端紫外線露光用マスク及びその製造方法並びに極端紫外線の露光方法例文帳に追加

MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE, AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND EXPOSURE METHOD OF EXTREME ULTRAVIOLET RAYS - 特許庁

極紫外線（ＥＵＶ）露光に適した新規なフォトレジスト。例文帳に追加

To provide a new photoresist suitable for extreme ultraviolet (EUV) exposure. - 特許庁

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物例文帳に追加

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR EXPOSURE TO FAR UV RAY - 特許庁

ネガフィルム６を紫外線又は太陽光で露光する。例文帳に追加

The negative film 6 is exposed to ultraviolet rays or sunlight. - 特許庁

極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスク、極端紫外線露光用マスクの製造方法及び極端紫外線露光用マスクを用いたパターン転写方法例文帳に追加

MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, METHOD OF MANUFACTURING MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE - 特許庁

極端紫外線露光用マスク及びマスクブランク例文帳に追加

EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE MASK, AND MASK BLANK - 特許庁

極端紫外線光学系及び露光装置例文帳に追加

EXTREME ULTRAVIOLET RAY OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁

遠紫外線露光用ポジ型レジスト組成物例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR EXPOSURE WITH FAR ULTRAVIOLET RAY - 特許庁

紫外線ランプ及びこれを用いた露光装置例文帳に追加

ULTRAVIOLET LAMP, AND EXPOSURE DEVICE USING THIS - 特許庁

極端紫外線露光用マスク、マスクブランク、及び露光方法例文帳に追加

MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK BLANK, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

紫外線の被露光体に対する露光を全体的に均一にする。例文帳に追加

To uniformly expose an object to an ultraviolet ray. - 特許庁

極端紫外線光学鏡筒、極端紫外線反射光学素子、露光装置及び極端紫外線光学系の検査方法例文帳に追加

METHOD OF INSPECTING EXTREME ULTRAVIOLET OPTICAL BARREL, EXTREME ULTRAVIOLET REFLECTION OPTICAL ELEMENT, EXPOSURE SYSTEM, AND EXTREME ULTRAVIOLET OPTICAL SYSTEM - 特許庁

位置決めピン、配線板加工装置、紫外線露光装置および該紫外線露光装置を用いたプリント配線板の製造方法例文帳に追加

POSITIONING PIN, WIRING BOARD PROCESSING DEVICE, ULTRAVIOLET EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE ULTRAVIOLET EXPOSURE APPARATUS - 特許庁

極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスク及びその製造方法並びにパターン転写方法例文帳に追加

MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁

極端紫外線露光用マスクブランク及び極端紫外線露光用マスク並びにパターン転写方法例文帳に追加

MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁

紫外線露光方法、紫外線露光装置、微細構造体の製造方法、及びこれによって製造された微細構造体例文帳に追加

UV-EXPOSING METHOD AND DEVICE, FINE STRUCTURE MANUFACTURING METHOD, AND FINE STRUCTURE MANUFACTURED WITH METHOD - 特許庁

インクは、紫外線の露光を契機に硬化を開始するとともに、紫外線の露光量に応じた初期硬化状態に到達する。例文帳に追加

The ink starts curing triggered by exposure to ultraviolet light and reaches the initial cured state corresponding to the exposure amount of ultraviolet light. - 特許庁

インクは、紫外線の露光を契機に硬化を開始し、紫外線の露光量に応じた初期硬化状態に到達する。例文帳に追加

The ink starts to cure upon the exposure of the ultraviolet ray, and reaches an initial cured state corresponding to the exposure amount of the ultraviolet ray. - 特許庁

レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置およびその方法例文帳に追加

LASER BEAM/UV-IRRADIATION PERIPHERAL EXPOSURE APPARATUS AND METHOD THEREFOR - 特許庁

合成石英ガラス部材及びそれを用いた紫外線露光装置例文帳に追加

SYNTHETIC QUARTZ GLASS MEMBER AND ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE DEVICE USING THE SAME - 特許庁

極端紫外線露光用化学増幅型フォトレジスト組成物例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION FOR EXPOSURE TO EXTREME-ULTRAVIOLET RAY - 特許庁

極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法例文帳に追加

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE MASK AND BLANK AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁

紫外線領域に感度を持つ平版刷版用の露光装置例文帳に追加

EXPOSURE DEVICE FOR PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE HAVING SENSITIVITY IN UV REGION - 特許庁

紫外線照射部３の上部に露光部２が配置されている。例文帳に追加

The exposing part 2 is arranged above the ultraviolet ray irradiation part 3. - 特許庁

極限紫外線露光用マスクブランク及びマスク並びに転写方法例文帳に追加

MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE AND MASK, AND TRANSFERRING METHOD - 特許庁

紫外線レーザ光用ミラー及び光学系及び投影露光装置例文帳に追加

ULTRAVIOLET LASER LIGHT MIRROR, OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION EXPOSURE DEVICE - 特許庁

光学素子、光学素子の製造方法、及び極端紫外線露光装置例文帳に追加

OPTICAL ELEMENT, ITS MANUFACTURING METHOD, AND EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE DEVICE - 特許庁

極端紫外線用の光学素子及びこれを用いた投影露光装置例文帳に追加

OPTICAL ELEMENT FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY, AND PROJECTION ALIGNER USING THE SAME - 特許庁

極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法例文帳に追加

MASK FOR EXTREME ULTRA-VIOLET EXPOSURE, BLANK, AND METHOD FOR PATTERN TRANSFER - 特許庁

極端紫外線露光装置用の光学素子の保管・設置方法例文帳に追加

STORING/INSTALLATION METHOD OF OPTICAL ELEMENT FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE DEVICE - 特許庁

この真空紫外線用光学部品を使用して露光装置を作ることができる。例文帳に追加

An exposure system can be manufactured by using the optical component. - 特許庁

極端紫外線露光装置に用いられる光学素子の劣化抑制方法例文帳に追加

METHOD OF SUPPRESSING DEGRADATION OF OPTICAL ELEMENT USED FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE DEVICE - 特許庁

対象物の孔内に紫外線硬化型樹脂を充填し、この孔内の紫外線硬化型樹脂を紫外線により露光して硬化させるに際して、紫外線の強度分布が、波長範囲３５０〜３７０ｎｍにおける強度ピーク波長３６５ｎｍと、波長範囲３９０〜４２０ｎｍにおける強度ピーク波長４１０ｎｍを有した紫外線を、前記紫外線硬化型樹脂に照射する紫外線硬化型樹脂の露光装置である。例文帳に追加

When filling the ultraviolet curing resin in the hole of the object, exposing the ultraviolet curing resin in the hole with the ultraviolet ray, and curing it, the exposure device of the ultraviolet curing resin irradiates the ultraviolet curing resin with the ultraviolet ray whose intensity distribution has an intensity peak wavelength 365 nm in a wavelength range 350-370 nm and an intensity peak wavelength 410 nm in a wavelength range 390-420 nm. - 特許庁

露光ユニット３０から紫外線を照射してガラス基板１６を露光する。例文帳に追加

The glass substrate 16 is exposed by irradiation with ultraviolet rays from an exposure unit 30. - 特許庁

露光装置１の本体ケ−ス２内に露光用の紫外線ランプを取付ける。例文帳に追加

An ultraviolet lamp for exposure is attached to the inside of the main body case 2 of the exposure device 1. - 特許庁

そして、流路９３ａを流れる湯水が、紫外線殺菌灯９２の側面９２ａから照射される紫外線に露光し、滞留領域９Ｃにある湯水が、紫外線殺菌灯９２の先端部９２ｂから照射される紫外線に露光するタンクの殺菌構造とする。例文帳に追加

In the sterilization structure of the tank, hot water running in the flow passage 93a is exposed to ultraviolet rays irradiated from the side face 92a of the ultraviolet germicidal lamp 92, and hot water in the retention region 9C is exposed to ultraviolet rays irradiated from the tip 92b of the ultraviolet germicidal lamp 92. - 特許庁

とくに、露光光として、波長が短くてエネルギーの強い紫外線２３の積算紫外線暴露量と紫外線暴露密度とで管理するものである。例文帳に追加

In particular, UV rays 23 at short wavelengths and high energy as the exposure light as the exposure light are controlled by the cumulative dose of UV rays and the dose density of UV rays. - 特許庁

紫外線発光手段の紫外線の照射強度は、紫外線硬化インクが硬化するのに必要な露光量を記録媒体１１１が照射範囲を通過する時間で割った値になるよう制御する。例文帳に追加

An irradiation strength of ultraviolet rays of the ultraviolet ray emitting means is controlled to be a value obtained by dividing an exposure amount necessary for hardening the ultraviolet curing ink by a time while a recording medium 111 passes an irradiation range. - 特許庁

反射型ＥＵＶマスクの製造困難性を解消するために、ステンシル構造を有するＥＵＶ露光のための極端紫外線露光用マスク並びにそれを用いた極端紫外線の露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask for extreme ultraviolet rays exposure used for the EUV exposure which has stencil structure so as to solve the manufacturing difficulty of a reflection type EUV mask, and to provide an exposure method of extreme ultraviolet rays by using it. - 特許庁

レジスト膜１１に対して極紫外線１２を選択的に照射してパターン露光を行なう。例文帳に追加

The resist film 11 is selectively irradiated with extreme UV rays 12 for pattern exposure. - 特許庁