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Ion Source Magnetとは 意味・読み方・使い方
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「Ion Source Magnet」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 16件
The electron bombarded ion source comprises a source magnet that deflects a part of generated ions from the center axis direction of the ion reserve, and at the rear stage of the electron bombarded ion source, an electrostatic lens that further assists the deflection of ion by the source magnet and a differential discharge slit for cutting off the deflected ion are provided.例文帳に追加
電子衝撃イオン源は、発生したイオンの一部を、イオン溜の中心軸方向から偏向させるソースマグネットを備え、電子衝撃イオン源の後段には、ソースマグネットによるイオンの偏向を更に助長する静電レンズと、偏向されたイオンを遮断する差動排気スリットとを備えた。 - 特許庁
The ion implanting device is composed of an ion source 10, a mass-spectrometry magnet unit 22, a mass-spectrometry slit 28, and a beam scanner 36 or the like.例文帳に追加
イオン注入装置は、イオン源10、質量分析磁石装置22、質量分析スリット28、ビームスキャナ36等で構成される。 - 特許庁
This ion implanter is provided with an ion generation source 2 and a beam line 11 for selecting ions fed from the ion generation source 2 by means of a mass separation magnet 7 and leading ions with a predetermined mass to an end station 8.例文帳に追加
イオン発生源2と、該イオン発生源2から送出されたイオンを質量分離マグネット7で選択し、所定質量のイオンをエンドステーション8に導くためのビームライン11とを備えたイオン注入装置である。 - 特許庁
The ion implantation apparatus of the present invention is a mass-spectrometry type ion implantation apparatus 1 which radiates a ribbon-shaped ion beam 3 on a glass substrate 7, and is provided with ion beam divergence means on a transportation route of the ion beam 3 from an ion source 2 to a mass spectrometry magnet 4.例文帳に追加
本発明のイオン注入装置は、リボン状のイオンビーム3をガラス基板7に照射する質量分析型のイオン注入装置1であって、さらに、イオン源2から質量分析マグネット4までのイオンビーム3の輸送経路にイオンビーム発散手段を備えている。 - 特許庁
The ion implanting device 101 comprises an ion source 11 which generates and extracts ion beam IB, a mass spectrometer 12 having a magnet, an ion beam convergence part such as an electrostatic lens and Q lens (four-pole lens), and an ion beam emittance measuring mechanism 15 between the ion source 11 and the mass spectrometer 121, preferably at the rear stage of the electrostatic lens 141.例文帳に追加
イオン注入装置101は、イオンビームIBを発生、引き出すイオン源11、マグネット(電磁石)を有する質量分析器12、イオンビームを加速する加速器13、静電レンズ、Qレンズ(4極レンズ)等のビーム収束部14、そして、イオン源11と質量分析器121の間、好ましくは静電レンズ141の後段にイオンビームエミッタンス測定機構15が設けられる。 - 特許庁
This ion implantation device is provided with an ion source 2 for extracting ions 8 by extraction voltage VE, an accelerating tube 12 for accelerating the ions from the ion source by accelerating voltage VA, and a momentum separating magnet 14 for selecting the ion having specific momentum in the ions from the accelerating tube, and is constituted so as to make the objective ion incident on the target 16.例文帳に追加
このイオン注入装置は、イオン8を引出し電圧V_E で引き出すイオン源2と、それからのイオンを加速電圧V_A で加速する加速管12と、それからのイオンの内の特定の運動量を有するイオンを選別する運動量分離マグネット14とを備えていて、目的のイオンをターゲット16に入射させる構成をしている。 - 特許庁
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「Ion Source Magnet」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 16件
A w_1 width ribbon form ion beam is pulled out from an ion source 102 and put into a mass spectrometry magnet 110, made divergent in a non-dispersive plane (xz plane), and made convergent in a dispersive plane (xy plane).例文帳に追加
イオン源102から幅w_1のリボン形イオンビームを引き出して質量分析磁石110に入れ、非分散平面(xz面)内で発散させ、分散平面(xy面)内で集束させる。 - 特許庁
Since the mount plates 13, 15 are made of magnetic material as described above, the slits 12a, 14a as passages for the ion beam IB are shielded from the magnetic field of a source magnet 6.例文帳に追加
このように取付プレート13,15を磁性体で形成したので、イオンビームIBの通り道であるスリット12a,14a内では、ソースマグネット6の磁場が遮蔽される。 - 特許庁
The ion implantation apparatus includes a mass spectrometry magnet 114, a power source 174 applying an electric field to a passage 139, and a magnetic apparatus 170 applying a multi-cusp magnetic field to the passage 139.例文帳に追加
本発明のイオン注入装置は、質量分析磁石114、通路139に電界を与えるパワー源174、及び通路139にマルチ−カスプド磁界を与える磁気装置170を含む。 - 特許庁
The ion implantation device according to the invention comprises a beam guide 200 of mass analysis magnet, a power source for providing electric field, and a magnetic device 170 providing a multicusped magnetic field and having multiple magnets 220.例文帳に追加
本発明のイオン注入装置は、質量分析磁石のビームガイド200、電界を与えるパワー源、及びマルチ−カスプド磁界を与え、複数の磁石220を有する磁気装置170を備える。 - 特許庁
To provide a microwave ion source or a plasma source stabilizing beam current without precise magnetic field adjustment by reducing change of plasma density caused by change of strength of magnet field in axial direction or ion beam current, and to provide an application device utilizing the above devices such as a linear accelerator system, an accelerator system for medical use, or the like.例文帳に追加
軸方向磁場の強度変化によるプラズマ密度或いはイオンビーム電流の変化を低減し、精密な磁場調整なしでビーム電流を安定化するマイクロ波イオン源或いはプラズマ源と、それを利用した線形加速器システム、医療用加速器システム等の機器等の応用装置を提供する。 - 特許庁
The ion source is constituted of an electrode 2 for extracting cations produced at a plasma source 13 and accelerating them, and the electrode 2 is installed with a coolant path 5, in which a magnet 6 for separating electron from the cation flow is embedded.例文帳に追加
プラズマ源13で生成した負イオンを引き出して加速する電極2を備え、前記電極2は冷却媒体流路5を内設され、この冷却媒体流路5内に前記負イオンの流れ8の中から電子を分離する磁石6が埋設されている構成とする。 - 特許庁
The ion source device has a pair of mirror electromagnets 11, 12 arranged at regular intervals on the outside of a plasma chamber 10, and a multipole permanent magnet device 20 arranged between a pair of mirror electromagnets, on the outside of the plasma chamber 10.例文帳に追加
プラズマチャンバ10の外側に間隔をおいて配置された一対のミラー電磁石11、12と、前記チャンバの外側であって前記一対のミラー電磁石の間に設けられた多極永久磁石装置20とを備える。 - 特許庁
A structure for insulating a discharging vessel top plate 2 from a discharging vessel 1 which is a discharging cathode by an insulating spacer 12, while removing a plasma closing magnet on a discharging vessel top plate 2 having been mounted as a conventional ion source, is provided.例文帳に追加
従来イオン源で設置していた放電容器天板2上のプラズマ閉じこめ用磁石を取り除くとともに、絶縁スペーサー12によって放電容器天板2を放電の陽極である放電容器1から絶縁する構造にする。 - 特許庁
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