Line Width Accuracyとは 意味・読み方・使い方

By this setup, the line width of the resist pattern is predicted by the use of the above function models, a feed forward control can be realized, and the line width of the resist pattern and the thickness of the resist film can be controlled with high accuracy.例文帳に追加

これにより、上記関数モデルによって、例えば線幅を予測することによりフィードフォワード制御が可能となり、精密な線幅制御及びレジスト膜厚制御を行うことができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method independent of the density of a pattern and giving a pattern having good line width accuracy to design value.例文帳に追加

パターンの疎密に依存せず、設計値に対する線幅精度の良好なパターンを得ることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To form a fine pattern of uniform line width with high accuracy by reducing focus error caused by flexure of mask.例文帳に追加

マスクの撓みに起因するフォーカス誤差を低減することにより、均一な線幅の微細なパターンを高い精度で形成できるようにする。 - 特許庁

To stably manufacture a transfer master disk substrate with a surface formed with rugged pattern excellent in line width accuracy, and excellent in pattern shape accuracy where pattern defect is inhibited.例文帳に追加

表面凹凸パターンの線幅精度が良好で、パターン欠陥が抑制されパターン形状精度が良好な転写用原盤基板を安定的に製造することを可能とする。 - 特許庁

To solve the problem that variation of the working accuracy of wiring of a power supply wiring line to a heating element becomes relatively large following the fact that a wiring width is made fine.例文帳に追加

発熱素子への電源配線が、配線幅の微細化にともない、配線の加工精度のバラツキが相対的に大きくなってきている。 - 特許庁

When the transverse edge is continued to the outside of the eye width, the transverse edge is excluded from candidates of eye profile line, whereby the detection accuracy of eye profile line is improved.例文帳に追加

そして、横方向エッジが眼の幅より外側に連続している場合に、当該横方向エッジを眼の輪郭線の候補から除外することで、眼の輪郭線の検出精度を向上させる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of correcting positional deviation in a main scanning direction with accuracy equal to or under pixel width and correcting positional deviation in a subscanning direction with accuracy equal to or under the width of a main scanning line, and to provide a printer device, a facsimile device, and a copying machine.例文帳に追加

主走査方向の位置ずれを画素幅以下の精度で補正でき、また、副走査方向の位置ずれを主走査ラインの幅以下の精度で補正できる画像形成装置、プリンタ装置、ファクシミリ装置及び複写機を提供すること。 - 特許庁

When the birefringence is 1.2 nm/cm or less, a pattern including an isolated line is exposed; when the birefringence is 2 nm/cm or less, a pattern including dense lines is exposed with high control accuracy of the line width; and when the birefringence is 4 nm/cm or less, a pattern containing dense lines is exposed at regular control accuracy of the line width.例文帳に追加

複屈折量が１．２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、孤立線を含むパターンを露光し、複屈折量が２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを高い線幅制御精度で露光し、複屈折量が４ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを通常の線幅制御精度で露光する。 - 特許庁