「Line Width Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The device is constituted so that a line-width measuring function executed by a line-width measuring means and a superposition-accuracy measuring function executed by a superposition-accuracy measuring means are unified in the shared high-vacuum chamber 4, and an X-Y stage 1 for high-accuracy positioning is shared between the line-width measuring function and the superposition-accuracy measuring function.例文帳に追加

線幅測長手段が実行する線幅測長機能と重ね合わせ精度測定手段が実行する重ね合わせ精度測定機能とを共有高真空チャンバ４内で一体化し、高精度位置決め用のＸ−Ｙステージ１を線幅測長機能と重ね合わせ精度測定機能との間で共有する装置構成となっている。 - 特許庁

To continue to presume a stable travel environment even when a while line cannot be recognized by presuming the width of traveling road with the same accuracy as that of white line recognition.例文帳に追加

白線認識と同等の精度で走行路幅を推測することで、白線の認識が不能の際にも安定した走行環境の推測を継続する。 - 特許庁

By this setup, the line width of the resist pattern is predicted by the use of the above function models, a feed forward control can be realized, and the line width of the resist pattern and the thickness of the resist film can be controlled with high accuracy.例文帳に追加

これにより、上記関数モデルによって、例えば線幅を予測することによりフィードフォワード制御が可能となり、精密な線幅制御及びレジスト膜厚制御を行うことができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method independent of the density of a pattern and giving a pattern having good line width accuracy to design value.例文帳に追加

パターンの疎密に依存せず、設計値に対する線幅精度の良好なパターンを得ることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To form a fine pattern of uniform line width with high accuracy by reducing focus error caused by flexure of mask.例文帳に追加

マスクの撓みに起因するフォーカス誤差を低減することにより、均一な線幅の微細なパターンを高い精度で形成できるようにする。 - 特許庁

To stably manufacture a transfer master disk substrate with a surface formed with rugged pattern excellent in line width accuracy, and excellent in pattern shape accuracy where pattern defect is inhibited.例文帳に追加

表面凹凸パターンの線幅精度が良好で、パターン欠陥が抑制されパターン形状精度が良好な転写用原盤基板を安定的に製造することを可能とする。 - 特許庁

To solve the problem that variation of the working accuracy of wiring of a power supply wiring line to a heating element becomes relatively large following the fact that a wiring width is made fine.例文帳に追加

発熱素子への電源配線が、配線幅の微細化にともない、配線の加工精度のバラツキが相対的に大きくなってきている。 - 特許庁

When the transverse edge is continued to the outside of the eye width, the transverse edge is excluded from candidates of eye profile line, whereby the detection accuracy of eye profile line is improved.例文帳に追加

そして、横方向エッジが眼の幅より外側に連続している場合に、当該横方向エッジを眼の輪郭線の候補から除外することで、眼の輪郭線の検出精度を向上させる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of correcting positional deviation in a main scanning direction with accuracy equal to or under pixel width and correcting positional deviation in a subscanning direction with accuracy equal to or under the width of a main scanning line, and to provide a printer device, a facsimile device, and a copying machine.例文帳に追加

主走査方向の位置ずれを画素幅以下の精度で補正でき、また、副走査方向の位置ずれを主走査ラインの幅以下の精度で補正できる画像形成装置、プリンタ装置、ファクシミリ装置及び複写機を提供すること。 - 特許庁

When the birefringence is 1.2 nm/cm or less, a pattern including an isolated line is exposed; when the birefringence is 2 nm/cm or less, a pattern including dense lines is exposed with high control accuracy of the line width; and when the birefringence is 4 nm/cm or less, a pattern containing dense lines is exposed at regular control accuracy of the line width.例文帳に追加

複屈折量が１．２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、孤立線を含むパターンを露光し、複屈折量が２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを高い線幅制御精度で露光し、複屈折量が４ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを通常の線幅制御精度で露光する。 - 特許庁

The width dimension of the sealing portion 16 can be suppressed, and a liquid crystal panel 11 can be obtained by cutting with high accuracy from the scheduled cutting line along the segmented position by the auxiliary pattern 39.例文帳に追加

シール部16の幅寸法を抑制でき、かつ、補助パターン39によって分断した位置に沿って割断予定線から精度よく液晶パネル11を割断できる。 - 特許庁

To provide a piezoelectric vibrator, including an additional film, capable of reducing the influence, upon frequency accuracy of the vibrator, caused by variations of a line width during patterning.例文帳に追加

パターニング時の線幅のばらつきが振動子の周波数精度に与える影響を低減することができる、付加膜を備えた圧電振動子を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device which is capable of controlling the line width of a resist pattern and the thickness of a resist film with high accuracy, taking an environment around a substrate into consideration.例文帳に追加

基板周囲の環境を考慮した、より精密な線幅制御及びレジスト膜厚制御を行うことができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To enable measurement accuracy reliability and on-line self-diagnostics of a width and length measuring instrument that measure the width and the length dimensional shape of a hot steel sheet with a thick plate, for there is no measurement method with high performance available.例文帳に追加

他に高性能測定の方法が無い厚板熱間鋼板の幅寸法形状と長さ寸法形状を測定する幅計と長さ計の測定精度確性、及び、オンライン自己診断を可能とする。 - 特許庁

To form a separate die and achieve diced surface roughness of nanometer level, by reducing the dicing line width required for board dicing, increasing the accuracy of the dicing line to microns or less, and cutting the board along the dicing line.例文帳に追加

基板ダイシング時に必要なダイシング線幅を減少しダイシング線の正確度をミクロン以下のレベルまで増加し、基板をダイシングラインに沿って切割して分離したダイを形成し、並びにナノメーターレベルのダイシング面粗さを達成すること。 - 特許庁

A center line of the coil center part 1a, a center line of an aluminum plate, and a butting part (a straight line shape) of the metal plate material 3 are matched within accuracy of ±30% of the cross sectional lateral width to obtain the butt joint of the metal plate material.例文帳に追加

このコイル中央部分１ａの中心線、アルミニウム板の中心線、金属板材３の突き合わせ部分（直線状）を断面横幅の±３０％以内の精度で一致させて電磁溶接すれば、金属板材の突き合わせ継手が得られる。 - 特許庁

To provide a stencil mask which can control line width with higher accuracy without influence of fine and coarse patterns and pattern size at the time of application of the near exposure method.例文帳に追加

近接露光法を適用する際に、パターンの疎密、パターンサイズに影響されることなく、高精度な線幅制御が可能となるステンシルマスクを提供することである。 - 特許庁

To provide a wet developer for circuit formation with which a fine circuit pattern with high accuracy of line width can be formed by an electrophotographic method.例文帳に追加

電子写真法による回路形成用現像剤として、ライン幅精度が高く、緻密な回路パターンを形成できる回路形成用湿式現像剤を提供する。 - 特許庁

To machine a workpiece with high and consistent dimensional accuracy by preventing variance in the machining line width and the energy density due to deformation of irradiation spot of laser beam.例文帳に追加

レーザー光の照射スポットの変形に起因する加工線幅やエネルギー密度のばらつきを防止し、被加工物に対して安定した寸法精度で高精度の加工を行う。 - 特許庁

To provide a sheet processing device capable of preventing the deviation of a punching position in the width direction of a sheet by detecting the position of the sheet end on a punching line with high accuracy, and provide an image forming device.例文帳に追加

孔あけライン上のシート端の位置を高精度に検知してシート幅方向の孔あけ位置のずれを防止することができるシート処理装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner which accelerates a drive speed of an arrayed blanking deflector to improve throughput, accuracy and line width controllability, and a device manufacturing method using the aligner.例文帳に追加

アレイ化されたブランキング偏向器の駆動速度を高めてスループット、精度、線幅制御性を改善する露光装置及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a parallel-line type mask which has an extremely small variation in stripe width, i.e., in parallel pitch of monofilament yarns and maintains the parallel pitch with high accuracy, in a parallel-line type mask having fine pitch using the monofilament yarns.例文帳に追加

単繊維の糸を使用した微細なピッチを有する平行線型マスクにおいて、ストライプの幅、すなわち、単繊維糸の平行ピッチのバラツキが極めて少なく平行ピッチが高精度に保持された平行線型マスクを提供する。 - 特許庁

The patterns 57 and 59 are restrained from intersecting joints 63 and 67 of the fields 61 and 65 on the original plates, so that the exposure patterns can be prevented from degrading in control accuracy of the exposure line width at joints.例文帳に追加

各々の原板では、フィールド６１、６５の繋ぎ部６３、６７にはパターン５７、５９がかからないようにしたので、繋ぎ部において露光線幅の制御精度が損なわれることが回避される。 - 特許庁

To provide a method for forming a quantum dot having a diameter of several nm - several tens nm or a quantum thin line having a width of several nm - several tens nm stably with high positional accuracy and high throughput.例文帳に追加

数ｎｍ〜数十ｎｍの直径をもつ量子ドットや数ｎｍ〜数十ｎｍの幅をもつ量子細線を位置精度良く、高スル−プットで安定して形成できる方法を提供する。 - 特許庁

To form a pattern having a high line width accuracy by promoting chemical amplification of a resist at the time of heat-treating a substrate which is applied with the chemically-amplified resist and is exposed.例文帳に追加

化学増幅型のレジストが塗布され露光された基板を加熱処理するにあたり、レジストの化学増幅反応を促進させて線幅精度の高いパターンを形成できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure system which has a wide in-batch transfer region and can let a maximum current flow, while securing accuracy in transfer, even in the case of exposing a fine line width.例文帳に追加

広い一括転写領域を有し、細かい線幅を露光する場合においても、転写精度を確保しながら、最大電流を流すことのできる荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To perform correlation operation, even when the minimum line width of an ABS pattern is not an integral multiple of an array interval of an ABS light-receiving element array, and enables measurement of moving distance, with high accuracy.例文帳に追加

ＡＢＳパターンの最小線幅がＡＢＳ受光素子アレイのアレイ間隔の整数倍となっていない場合でも、相関演算を行うことができ、高精度に移動距離を計測可能とする。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width variation (LWR), exposure latitude (EL) and focal depth allowance (DOF) in order to stably form a high accuracy fine pattern for the manufacture of a highly integrated and high accuracy electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width roughness (LWR), exposure latitude (EL) and depth of focus (DOF) and a pattering process using the same, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly-integrated and high-accuracy electronic device.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image reader configured by using a plurality of image sensors with a small width (small sized mass-production image sensors with high accuracy at a low cost) for reading one line at a low cost without deteriorating the image quality.例文帳に追加

小幅のイメージセンサ（小判用量産の高精度、低価格のイメージセンサ）を複数個使用して１ラインを読み取る画像読み取り装置を構成した場合に、画質を低下させることなく、コストダウンを図ることにある。 - 特許庁

To provide a method and a device for manufacturing a space-saving electrophotography printed wiring board in which a substrate of superior line width accuracy is obtained in a short period of time.例文帳に追加

電子写真プリント配線板の作製方法及び装置であって、省スペースで、線幅精度良好な基板が短時間に得る事のできる電子写真プリント配線板の作製方法及び装置を提供する事を課題とする。 - 特許庁

To provide a scanning electron microscope apparatus which enables to get always a high accuracy SEM image and line width measurement value without giving damage or the like to an object of measurement (observation) even under a high magnification, and a method of a length measurement with the microscope apparatus.例文帳に追加

高倍率下においても測定（観察）対象物にダメージ等を与えず、常に高精度なＳＥＭイメージと線幅測定値とを得ることができる走査型電子顕微鏡装置と該装置による測長方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer substrate on which conductor patterns causing no disconnection or short circuit, particularly, a portion for connecting end portions of respective conductor pattern layers, can be formed with a required thickness and line width and favorable location accuracy.例文帳に追加

断線やショ—トを生じることのない導電体パタ—ン、特に導電体パ夕—ン各層の端部接続部を所望の厚みおよび線幅にかつ位置精度よく形成することができる多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

There are no chances that the photo resist 3 expands by gases and gases enter a masked photo resist, thus preventing a change in shape of the photo resist 3 that causes a decline in line width accuracy of the object to be etched.例文帳に追加

従って、ガスによりフォトレジスト３が膨張したり、ガスが、マスクされたフォトレジスト中に侵入したりすることがなくなるので、フォトレジスト３の形状が変化してしまい、被エッチング物の線幅性が低下してしまうおそれがない。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which is capable of controlling the line width of a resist pattern, which is formed on a multilayered film, with higher accuracy without much influenced by a variation in the thickness of layers composing the multilayered film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成された多層膜の各々の膜の膜厚の変動に大きく影響されることなく、多層膜上に形成されるレジストパターンの線幅の制御性を向上することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive resin composition for electromagnetic wave shielding material for plasma display panel which can form a pattern of fine line width with high accuracy, and can reveal excellent electromagnetic wave shielding performance even if the particle size of conductive fine particles is small.例文帳に追加

微細な線幅のパターンを高精度で容易に形成することができ、かつ、導電性微粒子の粒径が小さくとも優れた電磁波シールド性を発現し得るプラズマディスプレイパネル用電磁波シールド材用導電性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

Thus, stress from squeeze of a seal plate is mitigated, the physical torsion of a mesh constituting the seal plate is reduced as much as possible and the dispersion of the printing accuracy, especially the line width, of the main seal pattern 2 inside the liquid crystal panel is suppressed to be extremely small.例文帳に追加

これにより、シール版のスキージからの応力を緩和でき、シール版を構成するメッシュの物理的なねじれが極力少なくなり、液晶パネル内の本シールパターン２の印刷精度、特に線幅のばらつきが非常に小さく抑えられる。 - 特許庁

To provide a line head achieving exposure processing of high accuracy while having a narrow width and reducing the size and cost of an image forming apparatus, and also to provide the small-size and inexpensive image forming apparatus providing high-definition images.例文帳に追加

幅が狭く、画像形成装置を小型で安価なものとしつつ、高精度な露光処理を実現することができるラインヘッドを提供すること、また、高品位な画像を得ることができる小型で安価な画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

This sheet processing device has a sheet high-speed punching mode of determining the punching position by detecting the width direction end part of the sheet while conveying the sheet, and a high-accuracy punching mode of determining the punching position by stopping the sheet to detect a sheet end 01 on a punching line L.例文帳に追加

シートを搬送しつつシートのシート幅方向の端部を検知して孔あけ位置を決めるシート高速パンチモードと、シートを停止して孔あけラインＬ上のシート端Ｏ1を検知して孔あけ位置を決める高精度パンチモードとを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of performing projection exposure with fidelity and high accuracy by satisfactorily suppressing variations of the line width of a pattern formed on a photosensitive substrate, for example, even if aberration of a projection optical system using an EUV light is not sufficiently suppressed.例文帳に追加

たとえばＥＵＶ光を用いる投影光学系の収差が十分に抑えられていなくても、感光性基板上に形成されるパターンの線幅のばらつきを良好に抑えて、忠実で高精度な投影露光を行うことのできる露光方法。 - 特許庁

Since the exposed substrate can be heated in a steam atmosphere, an exposed area of even a resist which has been subjected to short-time electron beam exposure with a little dose of energy can be sufficiently transformed by heat treatment which improves the line width accuracy.例文帳に追加

露光された基板を水蒸気雰囲気で加熱できるため、短時間の電子ビーム露光がなされたエネルギー注入量の少ないレジストの場合であっても加熱処理により露光領域にあたる部位を充分に変質させることができ、線幅精度も向上する。 - 特許庁

The manufacturing method of a field effect transistor in which a functional film is formed over a substrate in a printing process including the following steps (1)-(3); the minimum width of a line or a space of the functional film is 1-50 μm and printing positional accuracy is 100 ppm or less.例文帳に追加

以下の工程（１）から（３）よりなる印刷工程により前記基板上へラインもしくはスペース最小幅が１から５０μｍであり、印刷位置精度が１００ｐｐｍ以下の機能性膜の形成を行うことを特徴とする電界効果トランジスタの製造方法としたもの。 - 特許庁

This method for evaluating the etching accuracy comprises forming a test pattern 2 for measuring resistance including test patterns 21-24 each with a predetermined width and a space between lines arranged in rows and columns on all over the test substrate, measuring a resistance value after etching, and assuming a finished state of a circuit pattern by converting the resistance value into the widths of the line.例文帳に追加

縦、横に配列された所定線幅および線間のテストパターン２１〜２４を含む抵抗測定用テストパターン２をテスト基板の全面にわたって形成し、エッチング後に抵抗値を測定し、その抵抗値を線幅に換算して回路パターンの仕上がり状態を想定しエッチング精度を評価する。 - 特許庁

The first electrode can be exactly formed almost into the tapered-shape by heightening accuracy of patterning by accurately controlling an etching line width by applying a lithography process at every layer with a different etching method and an etching speed from each other, after forming the adhesion layer 12A, the metal layer 12B, and the work function adjusting layer 12C on the substrate 11, successively.例文帳に追加

基板１１に、密着層１２Ａ，金属層１２Ｂおよび仕事関数調整層１２Ｃを順に形成したのち、エッチング方法およびエッチング速度が異なる層ごとにリソグラフィ工程を設けることにより、エッチング線幅を精確に制御してパターニング精度を高め、第１電極１２を確実に略順テーパ状に形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter in which a fine pattern can be formed with high accuracy by uniformizing the luminous energy in two-dimensionally distributed picture drawing units, in particular, a black image can be formed with high definition and extremely little variance in the line width, and to provide a color filter having excellent display characteristics, and a display apparatus using the color filter.例文帳に追加

２次元的に分布した各描画単位の光量を均一化することにより、微細なパターンを高精度に形成可能であり、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、高精細に形成可能なカラーフィルタの製造方法、及び表示特性に優れたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた表示装置を提供する。 - 特許庁