Radical 16とは 意味・読み方・使い方

High-frequency power is applied to the mesh member 16, and plasma of processing gas is formed in a plasma formation chamber 18 between the shower plate 15 and the mesh member 16, and radical of process gas is emitted from the mesh member 16 toward a substrate 5.例文帳に追加

メッシュ状部材１６に高周波電力を印加し、シャワープレート１５とメッシュ状部材１６の間のプラズマ形成室１８において処理ガスのプラズマを形成して、メッシュ状部材１６から基板５に向って処理ガスのラジカルを放出する。 - 特許庁

This tobacco filter 10 is constituted by laying a filter 15 for tar removing tar and a filter 16 for free radical removal in the middle of the smoke passage 14 of a filter body 11 made in a tobacco pipe form.例文帳に追加

煙管状に形成したフィルタの本体１１の煙道１４の途中に、タール除去用フィルタ１５、フリーラジカル除去用フィルタ１６を設けて、タバコ用フィルタ１０を構成する。 - 特許庁

According to the plasma processing apparatus, a process gas is taken in from a suction port 28 formed in an electrode 20, so that the adherence of the reaction product from the reaction between a radical and a substrate 16 to the surface of the substrate 16 can be suppressed.例文帳に追加

このプラズマプロセス装置によれば、電極２０に形成された吸引口２８から、プロセスガスを吸い込むので、ラジカルと基板１６の表面との反応で生成した反応生成物が基板１６の表面に付着することを抑制できる。 - 特許庁

In the ink jet head 1, an ordinary temperature glass which is obtained by curing a composition including an organic polysiloxane with a methyl radical or a phenyl radical as a main composition, or a silicon-included polyimide series sealing material is used as a sealing material 90 which is applied on a passage 9 in order to seal the vibrating chamber 16 of the actuator 1' in the airtight condition.例文帳に追加

インクジェットヘッド１において、アクチュエータ１′の振動室１６を気密封止するために通路９に塗布される封止材９０として、メチル基若しくはフェニル基を有する有機ポリシロキサンを主剤とする組成物を硬化してなる常温ガラス、若しくは、珪素含有ポリイミド系封止材を用いる。 - 特許庁

A pretreatment unit 16 where a substrate 3 on which a Cu layer with an anticorrosive adsorbed is formed is exposed to either a radical atmosphere or an ionic atmosphere; and a plating part 38 where the Cu layer formed on the substrate 3 exposed by the pretreatment unit 16 is plated with a prescribed metal are provided.例文帳に追加

防食剤が吸着したＣｕ層が形成された基板３をラジカル雰囲気とイオン雰囲気とのいずれかに暴露する前処理ユニット１６と、上記前処理ユニット１６により暴露された基板３に形成されたＣｕ層に所定の金属をめっきするめっき部３８とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

A planar shower plate 15 made up of a conductor and a planar mesh member 16 made up of a conductor having the size and shape corresponding to the shower plate 15 are installed on the substrate side of a processing gas introduction chamber 14 in the radical emitter 10.例文帳に追加

ラジカル放出器１０の処理ガス導入室１４の基板側に、導電体からなる面状のシャワープレート１５と、シャワープレート１５に対応する大きさ及び形状の導電体からなる面状のメッシュ状部材１６が設けられる。 - 特許庁

The electrode for the secondary battery has an electrode current collector 15 and an electrode active material layer 16 which includes an electrode active material containing an organic radical compound and a conductive assistant of particle shape and is formed on one main surface of the electrode current collector 15.例文帳に追加

本発明の二次電池用電極は、電極集電体１５と、有機ラジカル化合物を含む電極活物質と粒子状の導電助剤とを含み、電極集電体１５の一方の主面上に形成された電極活物質層１６と、を有する。 - 特許庁

A plasma 16 is generated between a processed article 11 coated with a thin compound film with its processed face containing carbon and a tool electrode 13 by impressing voltage on the tool electrode 13 while supplying gas including oxygen between the processed article 11 and the tool electrode 13, and the thin compound film 12 on the processed face is processed with oxygen radical generated from the plasma 16.例文帳に追加

加工面が炭素を含む化合物薄膜１２で被覆された被加工物１１と工具電極１３の間に酸素を含むガスを供給しつつ、工具電極１３に電圧を印加することにより、被加工物１１と工具電極１３の間にプラズマ１６を発生させ、プラズマ１６から発生した酸素ラジカルにより加工面の化合物薄膜１２を加工するようにした。 - 特許庁