Radical 21とは 意味・読み方・使い方

The air battery 20 has a positive electrode 23 having oxygen as a positive electrode active material and a negative electrode 25 composed of metal lithium set mutually opposed to each other through a separator 27 in a casing 21, and an ion conductive medium 28 containing a radical stabilizing agent which is a compound to react with a radical and stabilize it, and an electrolyte is injected between the positive electrode 23 and the negative electrode 25.例文帳に追加

空気電池２０は、ケーシング２１に、酸素を正極活物質とする正極２３と金属リチウムからなる負極２５とがセパレータ２７を介して互いに対向してセットされ、ラジカルと反応してこれを安定化する化合物であるラジカル安定化剤と電解質とを含むイオン伝導媒体２８が正極２３と負極２５との間に注入されている。 - 特許庁

A sample after the core 21 is formed is brought into contact with a second radical polymerizable monomer 23 which becomes a polymer after polymn. having a same refractive index as that of the body 11 so as to form a polymer part as a second clad 25 on the core 21.例文帳に追加

コアを形成し終えた試料を、第２のラジカル重合性モノマーであって重合すると高分子基材１１と同様な屈折率を示す高分子になる第２のラジカル重合性モノマー２３と接触させて、コア上に第２のクラッド２５としての高分子部分を形成する。 - 特許庁

Since the memory cell region M is sandwiched by the assist gate electrodes 21, the amount of an oxygen radical supplied to the surface of the exposed semiconductor substrate 1 is smaller than that supplied to the exposed semiconductor substrate 1 in the flat peripheral circuit region P.例文帳に追加

平坦な周辺回路領域Ｐに露出する半導体基板１の表面に供給される酸素ラジカルの量と比べると、メモリセル領域Ｍでは、アシストゲート電極部２１によって挟まれていることで、露出している半導体基板１の表面にまで供給される酸素ラジカルの量は少なくなる。 - 特許庁

By introducing a nitrogen gas into a space between the unit electrodes 2a and 2b from the gas introducing circulation section 21 through a through-hole 15 and applying a voltage between the unit electrodes 2a and 2b, a plasma reactor 1 discharges a nitrogen radical jet outside the space between the unit electrodes 2a and 2b.例文帳に追加

プラズマ反応器１は、ガス導入流通部２１から貫通孔１５を流通して単位電極２ａ，２ｂ間に窒素ガスを導入し、単位電極２ａ，２ｂ間に電圧を印加することによって、単位電極２ａ，２ｂ間外へ窒素ラジカルジェットを放出する。 - 特許庁

The body 11 after irradiation of UV rays is brought into contact with a first radical polymerizable monomer 19 which becomes a polymer after polymn. having a higher refractive index than that of the body 11 so as to form a polymer part as a core 21 where the optical waveguide is to be formed.例文帳に追加

紫外線照射が済んだ高分子基材を、第１のラジカル重合性モノマーであって重合すると高分子基材より高い屈折率を示す高分子になる第１のラジカル重合性モノマー１９と接触させて、光導波路形成予定部分上に、コア２１としての高分子部分を形成する。 - 特許庁

The body 11 after irradiation of electron beams is brought into contact with a first radical polymerizable monomer 19 which becomes a polymer after polymn. having a higher refractive index than that of the body 11 so as to form a polymer part as a core 21 where the optical waveguide is to be formed.例文帳に追加

電子線照射が済んだ高分子基材を、第１のラジカル重合性モノマーであって重合すると高分子基材より高い屈折率を示す高分子になる第１のラジカル重合性モノマー１９と接触させて、光導波路形成予定部分上に、コア２１としての高分子部分を形成する。 - 特許庁

A cleaning gas introducing means 23 is directly communicated with the inside of a film deposition chamber 10, and, at the time of cleaning for the inside of the film deposition chamber 10, radicals generated by a radical generating means 21 are directly introduced into the film deposition chamber 10 without being passed through a shower plate 5.例文帳に追加

クリーニングガス導入手段２３を、成膜室１０内に直接連通させて、成膜室１０内のクリーニング時、ラジカル生成手段２１で生成されたラジカルを、シャワープレート５を通さずに直接成膜室１０内に導入する。 - 特許庁

The anisotropic conductive film 21 for electrically connecting a first electronic component 11 having a terminal 10 formed thereon to a second electronic component 13 having a terminal 12 formed thereon includes: a conductive particle-containing layer 22 containing a radical hardener, an acrylic resin, an epoxy resin and conductive particles 20; and an insulating adhesive layer 23 containing a cationic hardener, an epoxy resin, an acrylic resin, and a radical hardener.例文帳に追加

端子１０が形成された第１の電子部品１１と、端子１２が形成された第２の電子部品１３とを電気的に接続する異方性導電フィルム２１において、ラジカル系硬化剤と、アクリル樹脂と、エポキシ樹脂と導電性粒子２０とを含有する導電性粒子含有層２２と、カチオン系硬化剤とエポキシ樹脂とアクリル樹脂とラジカル系硬化剤とを含有する絶縁性接着層２３とを有する。 - 特許庁